JP5106987B2 - 液化ガス供給システム - Google Patents
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Description
(i)上記のような配管内の残留ガスのパージ方法では、ガスの供給開始時の真空状態の配管に充填容器内の液化ガスを供出する操作を行うことがある。このときに容器バルブあるいは開閉弁を一気に開けてしまうことによって瞬間的に断熱膨張が生じ、低蒸気圧液化ガスの場合には、液体状態の液化ガスを突沸させて配管系あるいはガス消費設備内に飛散させてしまう危険性があった。
(ii)また、液化ガスの突沸を防止するために、ガスの供給開始時に、配管系を真空状態とせずに不活性ガスを充当する方法を用いた場合には、液化ガスに不活性ガスが混入する可能性があり、高度な処理が要求される昨今のガス消費設備での操作や処理に悪影響が及ぶ危険性があった。
(iii)さらに、突沸は生じない条件であっても、ガスの供給開始時に開放される真空状態の配管系の容積が大きい場合には、充填容器内の液化ガスの気化速度が、ガスの供給速度に追随できず、ガスの供給開始後の所定時間、供給圧力が低下する危険性があった。特に低蒸気圧の液化ガスにおいては、こうした供給圧力低下を避けることができず、その影響をより小さくすることが大きな課題であった。
(iv)上記のように半導体製造プロセスに用いられる液化ガスは、毒性や腐食性あるいは反応性の高いガスが多く、排ガス処理が不可欠であり、特殊な排ガス処理を必要とする場合も多い。従って、次工程の排ガス処理装置負荷低減のため、パージされた特殊材料ガス量の一層の低減が求められていた。特に充填圧力の高い液化ガスにおいては、新しい充填容器が取り付けられた後の液化ガスによる当該配管パージ時には、充填容器の充填圧力によるパージを行うことから、パージに用いられ排気される液化ガスの量は無視できない。特に高価なガスの場合には、その排気される液化ガスの量の低減は重要な課題となっている。
(v)また、上記(i)〜(iv)の課題は、充填容器からのガスを分岐して複数のガス消費設備に液化ガスを供給する装置において、使用中のガス消費設備に接続する流路を未使用のガス消費設備に接続する流路に切換えるときも同様であり、特に、複数の流路を同時に使用する場合のガス供給開始時や流路の切換時においては、危険性が高かった。
前記配管部の一部として前記容器バルブに近接する位置に開閉弁Vaが配設され、該開閉弁Vaの上流側に接続された配管Laおよび下流側に接続された配管Lbに対し、それぞれの内部を減圧状態にする減圧処理部および不活性ガスを充当する不活性ガス供給部が接続されるとともに、
前記開閉弁Vaの作動操作時間と停止操作時間と開閉操作回数を前記プロセス制御部によって制御し、瞬時の開時間とその数倍の閉時間を組合せた開閉操作を繰返し可能なフラッシング操作機能を付加し、
減圧状態にある前記配管Lbへの供給用ガスの給送開始時において、前記開閉弁Vaをフラッシング操作させて前記配管Lbに供給用ガスを供給することを特徴とする。
前記設置部とガス消費設備の間に設けられ、前記充填容器からのガスを分岐し各ガス消費設備に供給する分岐部を有し、
前記配管部の一部として、前記配管Lbと該分岐部とが接続され、該分岐部と複数(n個)ガス消費設備とを接続する配管L1〜Lnに開閉弁V1〜Vnが配設され、前記配管La,Lbおよび配管L1〜Lnのいずれか1または複数に、それぞれの内部を減圧状態にする減圧処理部および不活性ガスを充当する不活性ガス供給部が接続されるとともに、
前記開閉弁V1〜Vnの作動操作時間と停止操作時間と開閉操作回数を前記プロセス制御部によって制御し、前記フラッシング操作機能を付加し、
減圧状態にある前記配管L1〜Lnのいずれか1または複数への供給用ガスの給送開始時において、該配管に接続する開閉弁をフラッシング操作させて、前記配管L1〜Lnのいずれか1または複数に供給用ガスを供給することを特徴とする。
前記開閉弁Vaまたは開閉弁Vaと開閉弁V1〜Vnを閉とした状態で、前記減圧処理部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作を行い、次に前記容器バルブを開とした後、前記開閉弁Vaまたは開閉弁Vaと開閉弁V1〜Vnのいずれか1または複数の開閉弁を順にフラッシング操作させながら供給用ガスで前記配管部を充当し、供給用ガスを充填容器から配管部を介して前記ガス消費設備に供給することを特徴とする。
前記減圧処理部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記不活性ガス供給部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行うことを特徴とする。
(a)前記減圧処理部を作動して、保守点検の対象となる前記配管La、配管Lbまたは配管部L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記不活性ガス供給部を作動して当該減圧状態となった配管内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行い、
(b)前記減圧処理部を作動して、前記配管La、配管Lbまたは配管部L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記開閉弁Vaまたは開閉弁V1〜Vnのいずれか1または複数の開閉弁をフラッシング操作させながら、供給用ガスを前記配管Lbまたは配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部に充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行う
ことを特徴とする。
配管部の一部として、容器バルブに近接する位置に設けられた開閉弁Vaと、開閉弁Vaの上流側に接続された配管Laと、その下流側に接続された配管Lbと、それぞれ配管の内部を減圧状態にする減圧処理部および不活性ガスを充当する不活性ガス供給部を有する液化ガス供給システムを基本とする。
図1は、本発明に係る液化ガス供給システム(以下「本システムA」という)を例示する概略図である。本システムAは、特定の液化ガス(供給用ガス)が充填された充填容器1が、設置部2によって保持された状態で設置され、ガス供給停止状態からガス供給開始状態に切換やシステムの保守点検操作などガス供給操作等にする場合を想定する。
(i)実験装置
図1に示すようなシステムにおいて、HFが充填された容量47Lの充填容器1が収納され、配管部は、開閉弁Vaからプロセス装置4まで3/8″配管で、長さ50m(配管の内容積はtotalで約2L程度)であった。設置場所の環境温度は、25℃(空調で調節している。)、充填容器1は、恒温槽にて30℃に加温し、配管部には再液化しないように40℃程度のヒーティングをした。
(ii)評価方法
開閉弁Vaについて、フラッシング操作を行った場合と行わなかった場合の容器バルブ直後の圧力を、圧力センサPTaによってモニタリングした。ここで、フラッシング操作は、ON時間To=1sec、OFF時間Ts=5secを1単位として5回繰返した。また、充填容器内部の圧力の瞬間的な減圧度が大きいほど、突沸および配管内部への飛沫の飛散の可能性が高いことから、各実験時の配管La内部の圧力を同じく圧力センサPTaによってモニタし、突沸発生の有無を確認した。
(iii)実験結果
図2(B)は、一気に切換弁Vaを開とし、2回のパージ操作を行った場合の充填容器1内の圧力の変化を示す。当初の充填容器1内の圧力0.06MPaに対し、−0.03〜−0.06MPaとなり、0.09〜0.12MPaの低下があった。
図2(C)は、図2(A)に示す切換弁Vaのフラッシング操作を行い、2回のパージ操作を行った場合の充填容器1内の圧力の変化を示す。フラッシング操作を行うことによって、圧力低下の防止することができるという検証結果を得ることができた。
また、突沸の有無の確認は、フラッシング操作を行わなかった場合においても、減圧度が−0.06MPa程度であり、発生しなかったと推定することができる。
充填容器1は、常設であって外部から液化ガスを定期的に充填されるものや容器ごと搬送される圧力容器など特に制限はない。充填容器1の管理方法は、充填される液化ガスの性状や供給条件あるいはプロセス装置4の使用条件などによって選択されるが、本システムAにおいて、特に制限はない。例えば、供給圧力の監視、充填容器1を含む総重量の監視、供給流量の監視による消費量の把握などの方法が用いられ、液化ガスにおいては、充填容器1内に液面センサを設けて液量を管理する方法が用いられることがある。また、ガスの供給開始後においては、供給用ガスの安定した供給量を確保するために、供給圧力の監視だけではなく充填容器1内の液相温度を一定とすることが好ましく、液相温度を監視し、充填容器1を加温する方法が用いられる。
本システムAを用いたプロセス装置へのガスの供給操作は、図3(A)〜(C)に示すような操作手順によって、3つの操作方法を実行することができる。ここでは、システムオペレータによるシステム制御部7からの指令によって操作される場合を挙げる。なお、制御部4a,プロセス制御部6による制御操作によって行うことも可能である。
プロセス装置4へのガスの供給開始操作手順を、図3(A)に示す。開閉弁Vaを閉とした状態で、減圧処理部5を作動して配管La,Lbの内部のガスを排出し減圧状態にする操作を行い、次に容器バルブ1aを開とした後、開閉弁Vaをフラッシング操作させながら供給用ガスで前記配管部を充当し、供給用ガスを充填容器1から配管部を介してプロセス装置4に供給することを特徴とする。
(1−2)この指令信号を受けガス供給部10は、ガス供給操作のために、予めプログラムされている動作を実行する。この動作は、以下に示す減圧処理工程、フラッシング操作工程、供給操作工程の3つから成る。
(1−4)開閉弁Vcを開として減圧処理部5を作動し、配管Laの内部のガスを排出し減圧状態にする。このとき、圧力センサPTaの出力によるリークチェックを行うことができる。このリークチェック機能によって、供給用ガスを充填する直前に、継手の緩み等配管部の準備ができているかをチェックすることができる。供給操作前に毎回確認することができ、腐食性ガス等のリークのないことを確認することができる。リークチェックは、任意の真空到達圧力、真空監視時間により合否を判定し、合格した場合は次の工程に進むことができる。
(1−5)開閉弁Vcを閉として容器バルブ1aを開とし、配管Laの内部に充填容器1内部の供給用ガスを充当する。このとき、配管Laの内容積が小さい場合には突沸等の発生はないが、ガス供給部10の設置条件によって配管Laの内容積が大きくなる場合には容器バルブ1aの開操作をフラッシング操作に模して行うことが好ましい。安定状態になったことは、圧力センサPTaによって確認することができる。
(1−6)開閉弁Vbを開とし、開閉弁Vaのフラッシング操作によって配管Lbに供給用ガスを供給する。その動作は、圧力センサPTbの出力が、予め設定した圧力値に到達するまで行い、設定圧力まで充填されると開閉弁Vaは完全に開状態とする。このフラッシング操作によって、様々なガス種や様々な配管内容積を有するガス供給システムに対しても、最適に所望の設定圧力にすることができる。この動作が終了すると、プロセス制御部6を介してシステム制御部7へガス供給準備完了信号を送る。
(1−7)さらに、プロセス装置4の開閉弁Vpを開として、供給用ガスを充填容器1から配管部を介してプロセス装置4に供給する。これによってプロセス装置4は、供給用ガスを使用することができる。
本システムAの停止操作は、図3(B)に示すように、下記の操作手順によって行うことができる。減圧処理部5を作動して配管La,Lbの内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および不活性ガス供給部を作動して配管La,Lbの内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行うことを特徴とする。
(2−2)この指令信号を受けガス供給部10は、ガス供給停止操作のためにあらかじめプログラムされている動作を実行する。この動作は、以下に示す減圧処理工程、パージ操作工程、不活性ガス封入工程の3つから成る。
(2−4)開閉弁Vc,Vdを開として減圧処理部5を作動し、配管La,Lbの内部のガスを排出し減圧状態にする。具体的には、減圧処理部5に内蔵された減圧手段を機能させることによって、配管Lc,Ldを介して配管La,Lbを減圧状態にさせ、内部の供給用ガスを含むガスを排出することができる。安定状態になったことは、圧力センサPTa,PTbによって確認することができる。このとき、開閉弁Vaを開とし、配管LaとLbを連通した状態で減圧状態にすることも可能である。
(2−5)開閉弁Vc,Vdを閉、開閉弁Ve,Vfを開とし、減圧処理部5に代えて不活性ガス供給部を作動し、配管La,Lbの内部に不活性ガスを充当する。具体的には、開閉弁Ve,Vfおよび配管Le,Lfを介して減圧状態にあった配管La,Lbの内部に不活性ガスを充当することができる。安定状態になったことは、圧力センサPTa,PTbによって確認することができる。(2−4)において開閉弁Vaを開とした場合には、配管LaとLbを連通した状態で不活性ガスを充当することも可能である。
このとき、(i)配管Le,Lfのいずれかを排気流路として使用し、連続的に不活性ガスを導入・排気するモードと、(ii)配管Le,Lfから不活性ガスを導入し減圧状態から常圧状態まで充当するモードを選択することも可能である。また、プロセス装置4に対しても、内部にバイパスを有する場合には、開閉弁Vpを開として不活性ガスを上記のモード切替によって最適なパージ操作を行うことが可能である。
(2−6)前記操作(2−4),(2−5)を、予め設定した繰返し回数行い、配管La,Lb内の供給用ガスを排出する。つまり、水素などの吸着性の小さな分子であれば1回の「減圧−不活性ガス」処理において十分なパージができるが、NH3やSiH4などの吸着性の大きな分子であれば数回の「減圧−不活性ガス」処理を必要とする。
(2−7)配管La,Lbの内部に不活性ガスを充当した状態で、開閉弁Va,Vc〜Vf,Vpを閉とする。配管部が不活性ガスで封入された状態で保持され、配管内の腐食や外気の混入を防止することができる。
充填容器交換を含む本システムAの保守点検操作は、図3(C)に示すように、
(3a)保守点検の対象となる配管部の「減圧−不活性ガス」によるパージを繰返す1次操作(以下「1次パージ操作」という)
(3b)保守点検の対象となる部品または充填容器1の取外し操作、および新しい部品または充填容器1の取付け操作
(3c)保守点検の対象となった部品または配管部の「減圧−供給用ガス」によるパージを繰返す2次操作(以下「2次パージ操作」という)
から形成される。つまり、
(3a)減圧処理部を作動して配管Laまたは/およびLbの内部のガスを排出し減圧状態にする操作および不活性ガス供給部を作動して減圧状態となった配管内部に不活性ガスを充当する操作を有するとともに、これらの操作を予め設定された回数繰返し行い、
(3c)減圧処理部を作動して配管Laまたは/およびLbの内部のガスを排出し減圧状態にする操作および開閉弁Vaをフラッシング操作させながら、供給用ガスを配管Lbの内部に充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行う
ことを特徴とする。以下、実稼動状態で充填容器1内の供給用ガスの減少によって充填容器1の交換が必要となった場合をスタートとして説明する。
本システムAを用いた保守点検等の対象となる配管部の「減圧−不活性ガス」によるパージを繰返す1次操作は、下記の操作手順によって行うことができる。以下は、「充填容器」が指定された場合に該当する。
(3a−1)オペレータは、本システムAの保守点検操作において、システム制御部7の保守点検1次操作スイッチを押すとともに、保守点検の対象を指定する(以下は、「充填容器」が指定された場合に該当する)。保守点検の指令信号は、ガス供給部10に配設されているプロセス制御部6に送信される。
(3a−2)この指令信号を受けガス供給部10は、ガス供給停止操作のために、予めプログラムされている動作を実行する。この動作は、以下に示す減圧処理工程、パージ操作工程、不活性ガス封入工程の3つから成る。
(3a−4)開閉弁Vcを開として減圧処理部5を作動し、配管Laの内部のガスを排出する。具体的には、減圧処理部5に内蔵された減圧手段を機能させることによって、配管Lcを介して配管Laを減圧状態にさせ、内部の供給用ガスを含むガスを排出することができる。安定状態になったことは、圧力センサPTaの出力によって確認することができる。
(3a−5)減圧処理部5に代えて不活性ガス供給部を作動し、配管Laの内部に、不活性ガスを充当する。具体的には、開閉弁Vcを閉とし、開閉弁Veを開とすることによって、配管Leを介して減圧状態にあった配管Laの内部に不活性ガスを充当することができる。安定状態になったことは、圧力センサPTaによって確認することができる。このとき、上記(2−5)同様、不活性ガスの供給モードを選択することが可能である。
(3a−6)前記操作(3a−4),(3a−5)を、予め設定した繰返し回数行い、配管LaあるいはLb内部の供給用ガスを排出する。繰返し回数は上記(2−6)と同様、供給用ガスの性状によって予め設定することが好ましい。
(3a−7)配管Laの内部に不活性ガスを充当した状態で、開閉弁Vcを閉とする。これによって、配管Laのパージを行うことができる。
指定された保守点検の対象の取外し・取付け操作を行う。以下は、「充填容器」が指定された場合に該当する。
(3b−1)容器バルブ1aと配管Laの該一端部を取外す。これによって、充填容器1の搬出が可能となる。
(3b−2)充填容器1を設置部2から取外す。このとき、不活性ガスの供給を継続することによって、外気の混入を防止することができる。
(3b−3)新しい充填容器1を設置部に設置する。
(3b−4)容器バルブ1aに配管Laの一端部を接続する。
(3b−5)容器バルブ1aおよび開閉弁Va〜Vf,Vpを閉とする。
(3b−6)このとき、必要に応じて取付けの気密を確認することが好ましい。具体的には、充填容器1を交換した場合には、配管Laの内部に不活性ガスを加圧条件で充当した状態で、所定時間(例えば24時間)放置し、その圧力低下のないことを確認した上で、次の操作に移行する。
本システムAを用いた保守点検等の対象となる配管部の「減圧−供給用ガス」によるパージを繰返す2次操作は、下記の操作手順によって行うことができる。
(3c−1)オペレータは、本システムAの保守点検操作において、システム制御部7の保守点検2次操作スイッチを押すとともに、保守点検の対象を指定する(以下は、「充填容器」が指定された場合に該当する)。保守点検の指令信号は、ガス供給部10に配設されているプロセス制御部6に送信される。
(3c−2)この指令信号を受けガス供給部10は、ガス供給操作のために、予めプログラムされている動作を実行する。この動作は、以下に示す減圧処理工程、パージ操作工程、供給用ガス封入工程の3つから成る。
(3c−4)開閉弁Vcを閉として容器バルブ1aを開とし、配管Laの内部に充填容器1内部の供給用ガスを充当する。上記(1−5)同様、配管Laの内容積が大きくなる場合には容器バルブ1aの開操作をフラッシング操作に模して行うことが好ましい。安定状態になったことは、圧力センサPTaによって確認することができる。
(3c−5)前記操作(3c−3),(3c−4)を、予め設定した繰返し回数行った後、配管Laの内部に供給用ガスを充当する。
(3c−7)さらに、開閉弁Vbおよびプロセス装置4の開閉弁Vpを開として、供給用ガスを充填容器1から配管部を介してプロセス装置4に供給する。これによってプロセス装置4は、供給用ガスを使用することができる。
図4は、本発明に係る液化ガス供給システムの他の構成例(本システムB)を示す概略図である。本システムBは、本システムAの構成を基本とし、プロセス装置が供給用ガスを消費する複数のプロセス装置41,42,43・・4n(以下「プロセス装置4n」ということがある)から構成され、ガス供給部10とプロセス装置4nの間に分岐部8が配設され、充填容器1からの供給用ガスを分岐して各プロセス装置4nに供給できる構成となっている。また、プロセス装置4nは、各制御部4anを介してシステム制御部7によって制御される。以下、本システムAの同構成については、説明を省略する。
本システムBを用いたプロセス装置へのガスの供給操作は、図5(A),(B)に示すような操作手順によって実行することができる。なお、保守点検操作時の配管部のパージ操作は、本システムAと同様であり、ここでは、省略する。
プロセス装置4nへのガスの供給操作手順を、図5(A)に示す。開閉弁Va,Vbと開閉弁Vnを閉とした状態で、減圧処理部5を作動して配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作を行い、次に容器バルブ1aを開とした後、開閉弁Vaと開閉弁V1〜Vnのいずれか1または複数の開閉弁を順にフラッシング操作させながら供給用ガスで配管部を充当し、供給用ガスを充填容器1から配管部、分岐部8を介してプロセス装置4に供給することを特徴とする。
(1a−2)この指令信号を受けガス供給部10および分岐部8は、ガス供給操作のために、予めプログラムされている動作を実行する。この動作は、ガス供給部10および分岐部8における、以下に示す減圧処理工程、フラッシング操作工程、供給操作工程の3つから成る。
(1a−3)ガス供給部10についての減圧処理工程、フラッシング操作工程、供給操作工程は、記述の本システムAにおける操作(1−3)〜(1−6)と同様の操作を行う。このとき、配管Lbには供給用ガスが充当され、充填容器1からのガスの供給が可能な状態となっている。
(1a−5)ガス供給を開始するプロセス装置Tnに繋がる配管Lnに接続する開閉弁Vgnを開として減圧処理部5を作動し、配管Lnの内部のガスを排出し減圧状態にする。このとき、圧力センサPTnの出力によるリークチェックを行うことができる。このリークチェック機能によって、供給用ガスを充填する直前に、継手の緩み等配管部の準備ができているかをチェックすることができる。供給操作前に毎回確認することができ、腐食性ガス等のリークのないことを確認することができる。リークチェックは、任意の真空到達圧力、真空監視時間により合否を判定し、合格した場合は次の工程に進むことができる。なお、ガス供給部10についての減圧処理工程と同時に減圧処理を行い、工程の時間短縮を図ることも可能である。
(1a−6)開閉弁Vgnを閉とし、開閉弁Vnのフラッシング操作によって配管Lnに供給用ガスを供給する。その動作は、圧力センサPTnの出力が、予め設定した圧力値に到達するまで行い、設定圧力まで充填されると開閉弁Vnは完全に開状態とする。このフラッシング操作によって、様々なガス種や様々な配管内容積を有するガス供給システムに対しても、最適に所望の設定圧力にすることができる。この動作が終了すると、プロセス制御部6bを介してシステム制御部7へガス供給準備完了信号を送る。
(1a−7)さらに、プロセス装置4nの開閉弁Vpnを開として、供給用ガスを充填容器から配管部を介してプロセス装置4nに供給する。これによってプロセス装置4nは、供給用ガスを使用することができる。
本システムBの停止操作は、図5(B)に示すように、下記の操作手順によって行うことができる。減圧処理部5を作動して配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および不活性ガス供給部を作動して配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行うことを特徴とする。
(2a−2)この指令信号を受けガス供給部10および分岐部8は、ガス供給停止操作のためにあらかじめプログラムされている動作を実行する。この動作は、以下に示す減圧処理工程、パージ操作工程、不活性ガス封入工程の3つから成る。
(2a−3)ガス供給部10についての減圧処理工程、パージ操作工程、供給操作工程は、記述の本システムAにおける操作(2−3)〜(2−6)と同様の操作を行う。このとき、配管La,Lbには不活性ガスが充当されている。
(2a−5)ガス供給を行っていたプロセス装置Tnに繋がる配管Lnに接続する開閉弁Vgnを開として減圧処理部5を作動し、配管Lnの内部のガスを排出し減圧状態にする。
(2a−6)開閉弁Vgnを閉、開閉弁Vhnを開とし、減圧処理部5に代えて不活性ガス供給部を作動し、配管Lnの内部に不活性ガスを充当する。具体的には、開閉弁Vhnおよび配管Lhnを介して減圧状態にあった配管Lnの内部に不活性ガスを充当することができる。安定状態になったことは、圧力センサPTnによって確認することができる。
(2a−7)前記操作(2a−5),(2a−6)を、予め設定した繰返し回数行い、配管Ln内の供給用ガスを排出する。つまり、水素などの吸着性の小さな分子であれば1回の「減圧−不活性ガス」処理において十分なパージができるが、NH3やSiH4などの吸着性の大きな分子であれば数回の「減圧−不活性ガス」処理を必要とする。
(2a−8)配管La,LbおよびLnの内部に不活性ガスを充当した状態で、開閉弁Va〜Vf,Vgn,VhnおよびVpを閉とする。配管部が不活性ガスで封入された状態で保持され、配管内の腐食や外気の混入を防止することができる。なお、上記は、最初にガス供給部10の停止操作を行った後に分岐部8の停止操作を行う手順について述べたが、最初に分岐部8の停止操作を行った後にガス供給部10の停止操作を行うことも可能である。
プロセス装置4nへのガスの供給において、使用中の流路を切換えるときも、減圧状態の未使用の流路への供給ガスの供給に伴う液化ガスの突沸の危険性がある。従って、本システムBが有する機能を利用した固有の操作を行う。
上記「(1a)プロセス装置41〜4nへのガスの供給操作」における(1a−4)〜(1a−6)と同様の操作工程によって、新たなプロセス装置4nへのガス供給操作を行うことができる。フラッシング操作を含むことによって、使用中の他のプロセス装置への影響を与えずに、新たなプロセス装置4nへのガス供給の追加を行うことができる。
上記(2a−4)〜(2a−7)と同様の操作工程によって、使用中のプロセス装置4mのガス供給の停止操作を行うことができる。ただし、このとき、開閉弁V1〜Vnに対して共通に接続している配管Loは、減圧処理およびパージ操作を行わず、停止するプロセス装置4mに繋がる配管Lmに接続する開閉弁Vmを閉とすることによって、使用中の他のプロセス装置への影響を与えずに、プロセス装置4mへのガス供給の停止を行うことができる。
ガス供給を行うプロセス装置の切替えは、上記(4−1)と(4−2)の操作を組合せることによって、使用中の他のプロセス装置への影響を与えずに行うことができる。つまり使用中のプロセス装置4nについては、開閉弁Vnを閉として配管Loとの接続を遮断した状態でガスの供給を停止する操作を行い、未使用のプロセス装置4mについては、開閉弁Vmを閉として配管Loとの接続を遮断した状態で減圧処理を行い、ガスの供給時に開閉弁Vmをフラッシング操作して配管Lmにガスを供給する操作を行うことによって、使用中の他のプロセス装置への影響を与えずにガス供給の切替えを行うことができる。このとき、最初に未使用のプロセス装置4mへのガス供給を開始し、その後使用中のプロセス装置4nを停止することによって、ガス供給部10から連続的に安定した条件でガスを供給することができる。
1a 容器バルブ
2 設置部
3 減圧弁(圧力調整部)
4,41〜4n プロセス装置(ガス消費設備)
4a,4a1〜4an 制御部
5 減圧処理部
6,6a,6b プロセス制御部
7 システム制御部
8 分岐部
10 ガス供給部
Lo,La〜Lf,Lg1〜Lgn,Lh1〜Lhn,Lp,L1〜Ln 配管
PTa,PTb,PT1〜PTn 圧力センサ
Va〜Vf,Vg1〜Vgn,Vh1〜Vhn,V1〜Vn,Vp,Vp1〜Vpn 開閉弁
Claims (5)
- 容器バルブが配設された供給用ガスの充填容器と、該充填容器が設置される設置部と、前記ガスを消費するガス消費設備と、前記充填容器とガス消費設備を接続する配管部と、該配管部に設けられた圧力調整部と、各部の動作を制御管理するプロセス制御部と、を有する液化ガス供給システムにおいて、
前記配管部の一部として前記容器バルブに近接する位置に開閉弁Vaが配設され、該開閉弁Vaの上流側に接続された配管Laおよび下流側に接続された配管Lbに対し、それぞれの内部を減圧状態にする減圧処理部および不活性ガスを充当する不活性ガス供給部が接続されるとともに、
前記開閉弁Vaの作動操作時間と停止操作時間と開閉操作回数を前記プロセス制御部によって制御し、瞬時の開時間とその数倍の閉時間を組合せた開閉操作を繰返し可能なフラッシング操作機能を付加し、
減圧状態にある前記配管Lbへの供給用ガスの給送開始時において、前記開閉弁Vaをフラッシング操作させて前記配管Lbに供給用ガスを供給することを特徴とする液化ガス供給システム。 - 前記ガス消費設備が、前記供給用ガスを消費する複数のガス消費設備から構成され、
前記設置部とガス消費設備の間に設けられ、前記充填容器からのガスを分岐し各ガス消費設備に供給する分岐部を有し、
前記配管部の一部として、前記配管Lbと該分岐部とが接続され、該分岐部と複数(n個)のガス消費設備とを接続する配管L1〜Lnに開閉弁V1〜Vnが配設され、前記配管La,Lbおよび配管L1〜Lnのいずれか1または複数に、それぞれの内部を減圧状態にする減圧処理部および不活性ガスを充当する不活性ガス供給部が接続されるとともに、
前記開閉弁V1〜Vnの作動操作時間と停止操作時間と開閉操作回数を前記プロセス制御部によって制御し、前記フラッシング操作機能を付加し、
減圧状態にある前記配管L1〜Lnのいずれか1または複数への供給用ガスの給送開始時において、該配管に接続する開閉弁をフラッシング操作させて、前記配管L1〜Lnのいずれか1または複数に供給用ガスを供給することを特徴とする請求項1記載の液化ガス供給システム。 - 前記ガス消費設備へのガスの供給操作として、少なくとも、
前記開閉弁Vaまたは開閉弁Vaと開閉弁V1〜Vnを閉とした状態で、前記減圧処理部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作を行い、次に前記容器バルブを開とした後、前記開閉弁Vaまたは開閉弁Vaと開閉弁V1〜Vnのいずれか1または複数の開閉弁を順にフラッシング操作させながら供給用ガスで前記配管部を充当し、供給用ガスを充填容器から配管部を介して前記ガス消費設備に供給することを特徴とする請求項1または2記載の液化ガス供給システム。 - 前記液化ガス供給システムの停止操作として、少なくとも、
前記減圧処理部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記不活性ガス供給部を作動して前記配管La,Lbまたは配管La,Lbと配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行うことを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の液化ガス供給システム。 - 前記液化ガス供給システムの保守点検操作の前後に、少なくとも、
(a)前記減圧処理部を作動して、保守点検の対象となる前記配管La、配管Lbまたは配管部L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記不活性ガス供給部を作動して当該減圧状態となった配管内部に不活性ガスを充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行い、
(b)前記減圧処理部を作動して、前記配管La、配管Lbまたは配管部L1〜Lnのいずれか1または複数の内部のガスを排出し減圧状態にする操作、および前記開閉弁Vaまたは開閉弁V1〜Vnのいずれか1または複数の開閉弁をフラッシング操作させながら、供給用ガスを前記配管Lbまたは配管L1〜Lnのいずれか1または複数の内部に充当する操作を有し、これらの操作を予め設定された回数繰返し行う
ことを特徴とする請求項3記載の液化ガス供給システム。
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