JP5105474B2 - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
10 レチクル
20 レチクルステージ
30 投影光学系
302及び304 光学素子
40 ウエハ
50 ウエハステージ
60a乃至60c レーザー干渉計
70 測定部
80 調整部
80a及び80b 駆動機構
90 制御部
Claims (10)
- レチクルのパターンを介して基板を露光する露光装置であって、
位置、姿勢及び形状の少なくとも1つを調整可能な光学素子を含み、前記パターンからの光を前記基板に投影する投影光学系と、
前記光学素子の位置、姿勢及び形状の少なくとも1つを調整する調整部と、
前記調整部による前記光学素子の調整量の1次関数で表される前記投影光学系の1次光学特性値の上限としての第1変数と、前記調整部による前記光学素子の調整量の2次関数で表される前記投影光学系の2次光学特性値の上限としての第2変数との1次式で表される目的関数の値を、前記1次光学特性値が前記第1変数以下であるとの1次不等式で表される制約条件および前記2次光学特性値が前記第2変数以下であるとの2次不等式で表される制約条件の下で最小化する前記光学素子の調整量を、制約条件に2次不等式を含む制約2次計画法を用いて算出し、該算出された調整量に基づいて前記調整部を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。 - レチクルのパターンを介して基板を露光する露光装置であって、
位置、姿勢及び形状の少なくとも1つを調整可能な光学素子を含み、前記パターンからの光を前記基板に投影する投影光学系と、
前記光学素子の位置、姿勢及び形状の少なくとも1つを調整する調整部と、
前記調整部による前記光学素子の調整量の1次関数で表される前記投影光学系の1次光学特性値の上限としての第1変数と、前記調整部による前記光学素子の調整量の2次関数で表される前記投影光学系の2次光学特性値の上限としての第2変数との1次式で表される目的関数の値を、前記1次光学特性値が前記第1変数以下であるとの1次不等式で表される制約条件、および前記第2光学特性値が前記第2変数以下であるとの2次不等式で表される制約条件と等価な2次錘計画問題の制約条件の下で最小化する前記光学素子の調整量を、2次錘計画法を用いて算出し、該算出された調整量に基づいて、前記調整部を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記1次光学特性値は、波面収差係数の線形結合で表される光学特性の値である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記1次光学特性値は、前記投影光学系の収差としてのディストーションの値である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記2次光学特性値は、波面収差係数の重みつき2乗和で表される光学特性の値である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記波面収差係数は、ゼルニケ係数である、ことを特徴とする請求項3又は5に記載の露光装置。
- 前記2次光学特性値は、波面収差のRMS値の平方である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記基板を保持して前記基板の位置及び姿勢の少なくとも1つを調整するステージを更に有し、
前記1次光学特性値は、前記ステージによる前記基板の位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量の1次関数で表される前記投影光学系の光学特性値を含み、
前記2次光学特性値は、前記ステージによる前記基板の位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量の2次関数で表される前記投影光学系の光学特性値を含み、
前記制御部は、前記目的関数の値を最小化する前記光学素子の調整量および前記ステージによる前記基板の位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量を算出し、該算出された各調整量に基づいて前記調整部および前記ステージを制御する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記レチクルを保持して前記レチクルの位置及び姿勢の少なくとも1つを調整するステージを更に有し、
前記1次光学特性値は、前記ステージによる前記レチクルの位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量の1次関数で表される前記投影光学系の光学特性値を含み、
前記2次光学特性値は、前記ステージによる前記レチクルの位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量の2次関数で表される前記投影光学系の光学特性値を含み、
前記制御部は、前記目的関数の値を最小化する前記光学素子の調整量および前記ステージによる前記レチクルの位置及び姿勢の少なくとも1つの調整量を算出し、該算出された各調整量に基づいて前記調整部および前記ステージを制御する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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