JP5103808B2 - 積層体 - Google Patents
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Description
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設ける二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られるC1s波形分離のC−C結合半値幅が1.225〜1.554eVであり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体である。
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設けるPETフィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られる元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55であり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体である。
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設けるPETフィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られるC1s波形分離のC−C結合半値幅が1.225〜1.554eVであり、尚且つ元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55であり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体である。
PETの非蒸着面となる面のインキ着肉改善、3層構成の中間層として用いた場合の接着剤密着を改善するために、PET表面状態がX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られるC1s波形分離のC−C結合半値幅が1.225〜1.554eVであること。または/及び、元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55である様に表面改質する。
測定に用いたX線光電子分光装置:日本電子株式会社製JPS−90MXV
X線源:非単色化MgKα(1253.6eV)、出力:100W(10KV−10mA)。定量分析:O1sで2.28、C1sで1.00の相対感度因子を用いて計算。
C1s波形の波形分離解析:ガウシアン関数とローレンツ関数の混合関数を使用。
帯電補正:ベンゼン環に由来するC−C結合ピークを285.0eVとして補正。
・標準物質として分解能が銀(Ag)の3d5/2ピークが0.8〜1.0eV。
・C1s波形分離のC−C結合半値幅が1.220eV
・元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.49。従って、未処理PET表面の分子構造であった。
ては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース及びアルギン酸ナトリウム等があげられる。
本発明において用いられる金属アルコキシドとは、テトラエチルオルソシリケート Si(OC2 H5 )4 、トリプロピルアルミニウム Al(OC3 H)3 など一般式M(OR)n (MはSi,Ti,Al,Zrなどの金属、RはCH3 ,C2 H5 などのアルキル基)で表されるものである。その中でもMがSi、Alあるいは両者の混合物が種々の特性に優れている。
1 :CH3 ,C2 H5 ,C2 H4 OCH3 、R2 :有機官能基)で表されるものであり、なかでもR’の末端がエポキシ基3であるグリシドオキシプロピルトリメトキシシランやエポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランなどが最も好ましい。
被膜の厚さは,用いる複合物の種類によっても異なるが、約0.01〜1000μmの範囲内であれば良い。しかし、50μm以上では膜にクラックが入り易くなるため、0.01〜50μmの範囲内にあることがより望ましい。
シランカップリング剤の例は、任意の有機官能基を含むシランカップリング剤を用いることができ、例えばビニルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等のシランカップリング剤あるいはその加水分解物の1種ないしは2種以上を用いることができる。
リング剤にアルコール等を付加し水酸基等を付加したものでも良く、これら1種ないしは2種以上を用いることができる。
はないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良になる場合があり、またそれが多すぎるとブロッキング等が発生し加工上問題がある。そこでアクリルポリオールとインソシアネート化合物との配合比としては、イソシアネート化合物由来のNCO基がアクリルポリオール由来のOH基の50倍以下であることが好ましく、特に好ましいのはNCO基とOH基が当量で配合される場合である。混合方法は、周知の方法が使用可能で特に限定しない。
RIEによる前処理を行うためのガス種としては、アルゴン、酸素、窒素、水素を使用することが出来る。これらのガスは単独で用いても、2種類以上のガスを混合して用いてもよい。また、2基の処理器を用いて、連続して処理を行ってもよい。
・Ar低温プラズマ…低温プラズマ処理ユニットとして、チタン(Ti)をカソードとしたDCマグネトロン放電方式のものを用意し、真空度1.5×10-5Torrとした後、低温プラズマ処理ユニット内にその真空度が5.0×10-3Torrとなるようにアルゴン(Ar)にてプラズマを発生させ、上述のPETフィルムの非コロナ処理面に対して低温プラズマ処理を行い、本発明の蒸着用PETフィルムを得た。
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.23eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.505
・酸化アルミニウム:真空蒸着法でアルミニウム蒸気と酸素ガスの反応蒸着で製膜。
・インキ:ウレタン/塩酢ビ系インキの白べた
・ドライ1、2:ウレタン系接着剤
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒300g/15mm。
・ArガスとO2 ガスのモル比が50:50
・PET低温プラズマ処理面のXPS測定:C1s波形分離
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.42eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.515
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒350g/15mm。
・PET低温プラズマ処理面のXPS測定:C1s波形分離。
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.55eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.535
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒400g/15mm。
・PET低温プラズマ処理面のXPS測定:C1s波形分離
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.23eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.505。
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒400g/15mm。
・アンカーコート:希釈溶媒(酢酸エチル)中、γ−イソシアネートプロピルトリメチルシラン1重量部に対し、アクリルポリオールを5重量部を量りとり混合し、攪拌する。ついでイソシアネート化合物としてトリイジルイソシアネート(以下TDIという)をアクリルポリオールのOH基に対しNCO基が等量となるように加えた混合溶液を2%の濃度に希釈したものをグラビアコーターで塗布し乾燥機で100°C、1分間乾燥させ、厚さ0.3μmのアンカーコート層を作成した。
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.23eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.505
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒500g/15mm。
・RIE:電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用い、処理ガスにアルゴン/酸素混合ガスを用いた。
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.23eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.505
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒300g/15mm。
・PET低温プラズマ処理面のXPS測定:C1s波形分離
C−C結合の半値幅(FWHM)⇒1.23eV
元素比率O(酸素)/C(炭素)⇒0.505
・ドライ1の剥離強度(ラミ強度)⇒300g/15mm。
Claims (9)
- 蒸着フィルムをプラスチックフイルム基材とシーラント層との間に設けた積層体であって、
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設ける二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られるC1s波形分離のC−C結合半値幅が1.225〜1.554eVであり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体。 - 蒸着フィルムをプラスチックフイルム基材とシーラント層との間に設けた積層体であって、
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設けるPETフィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られる元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55であり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体。 - 蒸着フィルムをプラスチックフイルム基材とシーラント層との間に設けた積層体であって、
前記蒸着フィルムが、片面に無機酸化物蒸着膜を設けるPETフィルム基材の蒸着膜を設けない面のX線光電子分光法(測定条件:X線源 MgKα、X線出力 100W)測定で得られるC1s波形分離のC−C結合半値幅が1.225〜1.554eVであり、尚且つ元素比率O(酸素)/C(炭素)が0.50〜0.55であり、
PETフィルム基材の蒸着膜を設けない面にインキ層を設けたことを特徴とする積層体。 - 無機酸化物蒸着膜上に保護コート層を設けたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体。
- 保護コート層が水溶性高分子と、(a)1種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は(b)塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液、あるいは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア性被膜を第2層として
積層してなることを特徴とする請求項4に記載の積層体。 - 保護コート層が水溶性高分子と、(a)1種以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は(b)塩化錫の少なくとも一方と、及び一般式(R2 Si(OR1 )3 )n
‥(R1 :CH3 ,C2 H5 ,C2 H4 OCH3 、R2 :有機官能基)で表されるケイ素化合物を含む水溶液、或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなることを特徴とする請求項4に記載の積層体。 - PETフィルム基材と無機酸化物蒸着膜の間にアンカーコート層を設けたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の積層体。
- アンカーコート層が有機官能基を有するシランカップリング剤あるいはシランカップリング剤の加水分解物と、ポリオール及びイソシアネート化合物との複合物を含むコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなることを特徴とする請求項7に記載の積層体。
- 蒸着膜を設ける前にPETフィルム基材面に、アルゴン、窒素、酸素、水素のうちの1種類のガス、またはこれらの混合ガスを用いてリアクティブイオンエッチング(RIE)モードのプラズマを利用した処理を施すことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の積層体。
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