JP5082799B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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Description
電気的試験を行う際には、プローブカードのプローブ針を半導体チップの試験用端子(針当てパッド)に接触させ、プローブカードを介して半導体チップと測定機器とを接続させて電気的試験を実行する。
この洗浄装置を用いてプローブ針の洗浄を行うには、洗浄盤の洗浄面にプローブ針を接触させ、洗浄面に駆動部によりプローブ針が接触した状態で洗浄盤をプローブ針に対して相対的に移動させる。このとき、プローブ針の先端部分が洗浄盤の洗浄面で摩擦され、プローブ針の先端部分が研磨される。これにより、当該先端部分に付着・蓄積した異物が擦り落とされる。
例えば特許文献1には、プローブ針の先端部分を挿入可能な溝が形成された研磨板を用意し、プローブ針を所定の接触角度で溝に接触させ、所定動作によりプローブ針の先端部分に付着した異物を掻き落す手法が開示されている。しかしながらこの場合、溝が形成された特殊な研磨板を要するため、洗浄装置の構成を変更することを要する。
また特許文献2には、信号電圧入力端子、グランド端子及び電源印加端子にプローブピンを接触させ、グランド端子及び電源印加端子に定電圧を与えると共に、信号電圧入力端子に所定範囲外の信号電圧を印加してプローブピンに電流を流す手法が開示されている。しかしながらこの場合、電気的手法で異物除去を行う構成を採るため、必然的に大掛かりな装置構成を要する。
図1は、本実施形態によるプロービング装置(プローバ)の概略構成を示す模式図である。
電気的試験の対象は、複数の半導体チップが形成されてなる半導体ウェーハ10である。この電気的試験に用いられるプローブカード20は、矩形状のベース21に複数のプローブホルダ22が設けられて構成されている。プローブホルダ22には、半導体チップの試験用端子(針当てパッド)に対応して当該針当てパッドに接触する複数のプローブ針23が設けられている。ここでは簡略化のため、プローブホルダ22の両端における2本のプローブ針23のみを示す。詳細には、円C内に拡大して示すように、プローブホルダ22には四辺形の各辺毎に半導体チップの針当てパッドに対応した複数のプローブ針23が設けられている。
更にプロービング装置は、プローブ針23の先端部分に付着・蓄積した異物を除去し、半導体チップの針当てパッドとの優れた接触性を維持するためのクリーニング装置を有している。
クリーニング盤11は、その洗浄面11aで当該洗浄面11aに接触したプローブ針23の先端部分が摩擦されて、先端部分に付着した異物を除去するように構成されている。洗浄面11aとしては、クリーニング盤11の上面が洗浄面11aとされる場合や、クリーニング盤11の上面に専用のラッピングシートが貼付されて洗浄面11aとされる場合がある。
比較例で示す従来の相対移動形態としては、プローブ針23の先端部分をクリーニング盤11の洗浄面11aに接触させて、一定方向のみに片道移動する形態と、一定方向のみに往復移動する形態とが用いられている。
後者の相対移動形態としては、例えば図2(c)の各矢印で示すように、プローブホルダ22の洗浄面11a内における横方向のみの往復の相対移動、図2(d)の各矢印で示すようにプローブホルダ22の洗浄面11a内における斜め方向のみの往復の相対移動が考えられる。
クリーニング時には、図3(a)の状態から、プローブ針23の先端部分を洗浄面11aに接触させ、クリーニング盤11を洗浄面11a内で先端部分に対して相対移動させる。図3(b)のようにプローブ針23の先端部分を洗浄面11aから離間させた状態では、先端部分は洗浄面11aに対して垂直となっている。図3(c)のようにプローブ針23の先端部分を洗浄面11aに接触させ、先端部分の相対移動を開始すると、四辺形のプローブホルダ22の洗浄面11aの移動方向に対応する対向2辺に設けられたプローブ針23では、一方のプローブ針23の先端部分は巻き込まれ、他方のプローブ針23の先端部分は伸張される状態となる。
本来、プローブ針のクリーニングは、プローブ針の先端部分に付着した異物を除去し、電気的試験の精度向上に努めるべく行為であるが、逆に高さのバラツキや偏磨耗を発生させてしまい、異物除去効果が次第に薄れることで電気的試験の精度異常が頻繁に発生したり、プローブカードの寿命を縮める等の悪循環を来たす。
本実施形態における2次元状の相対移動形態の一例を図5に示す。ここで、プローブ針23の洗浄面11aに対する移動開始から移動方向転換までの直線状の相対移動を1回の洗浄動作とする。本実施形態では、クリーニングを常に洗浄面11aのダメージ等(先行する洗浄動作で異物が付着していたり、損傷等が発生していること)のない部分で行うため、各周期の洗浄動作を洗浄面11a内のそれぞれ異なる場所(図中、コンタクト場所と記す。)で行うべく、例えば螺旋状に複数周期の洗浄動作を行う。図示の例では、2周期の洗浄動作((1)〜(5)の一連の洗浄動作と、(5)〜(9))の一連の洗浄動作)を示す。
本実施形態における2次元状の相対移動形態では、1周期の例えば(1)〜(5)の一連の洗浄動作において、プローブホルダ22の4辺をa辺、b辺、c辺、d辺とした場合、(1)〜(2),(3)〜(4)の洗浄動作では、一方の対向2辺がa辺及びb辺、他方の対向2辺がc辺及びd辺となる。これに対して(2)〜(3),(4)〜(5)の洗浄動作では、一方の対向2辺がc辺及びd辺、他方の対向2辺がa辺及びb辺となる。
先ず、図7(a)及び図7(b)の上図に示すように、駆動部12は、支持棒12aをZ方向で上方へ駆動することにより、クリーニング盤11を上方向に移動させ、プローブカード20のプローブ針23の先端部分(異物40が付着している)をクリーニング盤11の洗浄面11aに接触させる(ステップS1)。
図8(a)に示すように、クリーニングを行わずに、プローブ針23の先端部分を半導体チップの針当てパッドに接触させた場合、プローブ針23の先端部分に付着していた異物が針当てパッドに移動して付着する。
これに対して、図8(b)に示すように、クリーニングを行った後に、プローブ針23の先端部分を半導体チップの針当てパッドに接触させた場合、プローブ針23の先端部分には異物が存しないために、針当てパッドにも異物は何等存しない。
前記プローブ針が接触する洗浄面を有する洗浄部と、
前記洗浄部を、前記洗浄面に水平方向で二次元状に移動させる駆動部と
を含むことを特徴とする洗浄装置。
前記プローブ針を前記洗浄面に対して水平方向で二次元状に移動させる第2のステップと
を含むことを特徴とする洗浄方法。
前記第1、第2及び第3のステップからなる一連ステップを、前記洗浄面内の異なる場所で複数回実行することを特徴とする付記5に記載の洗浄方法。
11 クリーニング盤
11a 洗浄面
12 駆動部
20 プローブカード
21 ベース
23 プローブ針
31 ウェーハステージ
32 検査部
Claims (1)
- プローブ針の先端部分を洗浄する洗浄装置であって、
前記プローブ針が接触する洗浄面を有する洗浄部と、
前記洗浄部を、前記洗浄面に水平方向で二次元状に移動させる駆動部と
を含み、
前記プローブ針の前記洗浄面に対する移動開始から移動方向転換又は移動停止までの相対移動を1回の洗浄動作として、前記駆動部は、二次元状に複数回の前記洗浄動作を前記洗浄面内のそれぞれ異なる場所で行うものであり、
90°の転換角で前記移動方向転換が行われ、4回の前記洗浄動作を1周期として、複数周期の前記洗浄動作を行うことを特徴とする洗浄装置。
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