JP2006186133A - 半導体装置の検査装置および検査方法 - Google Patents

半導体装置の検査装置および検査方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006186133A
JP2006186133A JP2004378773A JP2004378773A JP2006186133A JP 2006186133 A JP2006186133 A JP 2006186133A JP 2004378773 A JP2004378773 A JP 2004378773A JP 2004378773 A JP2004378773 A JP 2004378773A JP 2006186133 A JP2006186133 A JP 2006186133A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe needle
semiconductor device
cleaning
tip
cleaning unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004378773A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Murakami
晶彦 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004378773A priority Critical patent/JP2006186133A/ja
Publication of JP2006186133A publication Critical patent/JP2006186133A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】プローブ針のクリーニングにおいて針先の磨耗や形状を変化させることなく、針先に付着した異物を除去する。
【解決手段】ウェハに製造された半導体装置の電気特性検査に用いられるプローブカード中でも低荷重設計されたプローブ針のクリーニングにおいて、平坦な金属板の表面に等間隔の溝を形成したクリーニングユニット4に、プローブ針3の針先を押し当て、クリーニングユニット4表面上で滑らせることにより、針先へのダメージを小さくすることが可能になり、プローブ針3の針先形状の変化を防ぎながら、針先に付着した異物を除去することが可能になる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウェハに製造された半導体装置の電気特性試験であるウェハ検査における検査装置および検査方法に関するものであり、特に、半導体装置の電極パッドと測定器を接続するための治具であるプローブカードのクリーニング方法に関する。
一般に半導体製品を製造する際、ウェハ検査と呼ばれる電気特性検査が行われる。これはウェハに半導体装置が正常に製造されているかを判定する検査である。この検査対象となる半導体装置と検査を行う測定器とは、何らかの電気的接続、あるいはこれに代わる手段・方法を通して、電気回路を構成する必要がある。
この電気的接続を得るために、測定器と繋がった導電性の触針を半導体装置上の電極パッドに出し、この触針を電極パッドと接触させることで測定器と半導体装置の電気的接続を得る。この導電性を有する触針はプローブ針、プローブピン等と呼ばれ(以下プローブ針と称する)、タングステンなどの材料でできている。また最近ではベリリウムカッパーなどの従来のものと比べると材質が柔らかく接続時の押し当て量の小さい、低荷重設計されたプローブ針がある。
ところで、これらのプローブ針は運用するにつれ、パッド表面のパーティクルや電極パッド材質がアルミニウムの場合は表面の絶縁層である酸化アルミニウムの削りカスなどの異物がプローブ針先端に付着し、これが電気的接続の妨げとなり、安定した電気特性検査が行えなくなってしまうことがある。このため針先をクリーニングシートやセラミック板などに押し当て、針先の異物除去を行う。またこの時プローブ針先端の研磨も同時に行っている。これは使用していくうちに酸化してしまった針先の表面を研磨し、新たな面を出すことで、安定した電気的接続が得られるようにするためである。
しかしながら低荷重設計されたプローブ針は、材質が従来のものより柔らかいため、上記のクリーニング方法によって異物の除去を行うと、プローブ針表面に削れが生じたり針先周辺部が欠けるなどの針先形状の変形を起こし、結果としてプローブカードの寿命が短くなってしまう。そこで、針先への応力を抑えることで変形させること無く、針先に付着した異物を除去する方法が提案されている。
図3は従来のクリーニング方法を示す構成図であり、材質がシリコンで鋸状の隆起した表面をもつプローブ洗浄装置1に異物2が針先端に付着したプローブ針3を押し当てることで異物2を砕き、プローブ洗浄装置1の表面に落とす。また落ちることなく針先に残った異物2も圧力を有するガスを吹き付けることで除去することができる。このように、異物2を砕くことで除去するため、従来の押し当てながら擦り取る方法に比べ針先への応力を小さくすることができる。
特開2004−12457号公報
しかしながら上記の方法のように、異物を押しつぶすにはプローブ洗浄装置を強く押し当てる必要がある上、プローブ洗浄装置1表面の形状が鋸状のため、プローブ針と接触している部分の応力が大きく、針先へのダメージと削れが懸念される。またこの方法ではプローバ装置内に異物が散開してしまう可能性が高い。以上のような問題をもつため、低針圧設計されたプローブ針において使用可能な、より針先へのダメージが小さいクリーニング方法が望まれている。
本発明は、上記従来技術の問題に対して鑑みなされたものであり、プローブ針にダメージを与えることなく針先に付着した異物を除去することを実現した半導体装置の検査方法および検査装置を提供することを目的とする。
前記目的を達成するため、本発明は、半導体装置のウェハ検査を行う検査装置において、半導体装置の電極パッドに電気的に接続するプローブ針と、このプローブ針の材質より柔らかい金属を材質としたクリーニングユニットと、前記プローブ針の先端部を前記クリーニングユニットの表面に押し当てかつ滑らせるように移動させる手段とを有し、前記クリーニングユニットの表面を平坦とし、この平坦面に等ピッチの深さ5〜20μmの範囲で、適切には約10μmの溝を形成したことを特徴とする。
また本発明は、前記溝を直線状かつ格子状に配置したことを特徴とする。
また本発明は、前記溝における平坦な部分を千鳥格子状に配置したことを特徴とする。
また本発明は、前記検査装置を使用した半導体装置の検査方法において、前記クリーニングユニットを前記プローブ針へ押し当てる際、前記プローブ針を前記クリーニングユニット表面と接触しない針先から20μmの位置で一旦停止させ、それからゆっくりと高さ方向に20μm針先へ押し当てる動作を、1シーケンスのクリーニングとすることを特徴とする。
このような構成により、半導体装置のウェハ検査で使用するプローブカードのプローブ針のクリーニングにおいて、プローブ針先端とクリーニングユニットの接触面が平坦なため、針先へのダメージを小さくすることができ、よってクリーニング時に針先が変形することが防げ、針先形状の変形をすることなく針先に付着した異物を除去することができる。
本発明によれば、低荷重設計されたプローブカードのクリーニングにおいて、プローブ針先の形状を変形させること無く、針先に付着した異物を除去することができ、プローブカードの長寿命化が期待できる。
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の一実施形態における検査装置のプローブ針をクリーニングする装置を示す構成図であり、4はクリーニングユニットを示す。なお、図3に示す従来技術における部材と同一の部材、あるいは同一機能の部材については同一の符号を付すことにより、詳細な説明は省略した。
クリーニングユニット4は、比較的硬い材料であるが、クロムやチタンなどの低針圧設計されたプローブ針材質よりは柔らかい金属板の平坦な表面を、エッチングなどの方法によって幅5〜10μm、深さ5〜20μmの範囲で、適切には約10μmの異物が入り込む大きさの溝を、10〜20μmピッチの直線でかつ格子状に形成したものである。なお、溝のピッチの大きさは、針先の大きさに応じて適宜設定する。
プローブ針3をクリーニングする際にはこのクリーニングユニット4に、針先に異物2が付着したプローブ針3を押し当てる。このとき押し当てる量は、針先とクリーニングユニット4表面がちょうど接触する位置を基準位置として、20μm程度でよい。これはプローブ針3の製造ばらつきが10μm程度存在するため、そのばらつきを吸収し、かつプローブ針3をクリーニングユニット4表面に滑らせる動作を行うために10μm必要となるからである。このプローブ針3がクリーニングユニット4の表面を滑る動作を行うことによって、図2で示すように、クリーニングユニット4の溝に異物2が嵌り込み、除去される。そのためプローバ装置内に除去した異物2が散開することがなく、ウェハへの異物2付着といった汚染を防ぐことができる。またプローブ針3の先端とクリーニングユニット4表面の多くは面で接しているため、押し当てる際プローブ針3にかかる応力も小さく、ダメージを最小限に抑えることができる。なお、クリーニングユニット4の溝と平坦な部分は千鳥格子状に配置されていてもよい。
さらに従来のクリーニングシートが使用領域を使い切ると新しいシートに交換しなければならないことに比べ、本発明のクリーニングユニット4はクリーニング使用領域を使い切った後、クリーニングユニット4の溝に挟まった異物2を薬液による溶解や、ブラシ、もしくは圧縮エアー吹き付けによって除去することで、繰り返し使用することができる。
本発明は、ウェハ検査で使用する低荷重設計されたプローブカードのプローブ針先端に付着した異物の除去に有用である。
本発明の一実施形態における検査装置のプローブ針をクリーニングする装置を示す構成図 図1の断面図 従来例におけるプローブ洗浄装置を示す構成図
符号の説明
1 プローブ洗浄装置
2 プローブ針
3 異物
4 クリーニングユニット

Claims (5)

  1. 半導体装置のウェハ検査を行う検査装置において、半導体装置の電極パッドに電気的に接続するプローブ針と、このプローブ針の材質より柔らかい金属を材質としたクリーニングユニットと、前記プローブ針の先端部を前記クリーニングユニットの表面に押し当てかつ滑らせるように移動させる手段とを有し、前記クリーニングユニットの表面を平坦とし、この平坦面に等ピッチの溝を形成して、前記クリーニングユニットの表面を複数面に分割したことを特徴とする半導体装置の検査装置。
  2. 前記溝を直線状かつ格子状に配置したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の検査装置。
  3. 前記溝における平坦な部分を千鳥格子状に配置したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の検査装置。
  4. 前記溝の深さを5〜20μmとしたことを特徴とする請求項1,2または3記載の半導体装置の検査装置。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項記載の検査装置を使用した半導体装置の検査方法において、前記クリーニングユニットを前記プローブ針へ押し当てる際、前記プローブ針を前記クリーニングユニット表面と接触しない針先から20μmの位置で一旦停止させ、それからゆっくりと高さ方向に20μm針先へ押し当てる動作を、1シーケンスのクリーニングとすることを特徴とする半導体装置の検査方法。
JP2004378773A 2004-12-28 2004-12-28 半導体装置の検査装置および検査方法 Pending JP2006186133A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004378773A JP2006186133A (ja) 2004-12-28 2004-12-28 半導体装置の検査装置および検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004378773A JP2006186133A (ja) 2004-12-28 2004-12-28 半導体装置の検査装置および検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006186133A true JP2006186133A (ja) 2006-07-13

Family

ID=36739024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004378773A Pending JP2006186133A (ja) 2004-12-28 2004-12-28 半導体装置の検査装置および検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006186133A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011117938A (ja) * 2009-12-03 2011-06-16 Internatl Test Solutions Inc 試験器インタフェース接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための器具、装置、及び方法
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
AT521098A1 (de) * 2018-04-09 2019-10-15 Rainer Gaggl Dr Verfahren zum Reinigen der Nadelspitzen der Nadeln von Nadelkarten
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10239099B2 (en) 2004-09-28 2019-03-26 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US10406568B2 (en) 2004-09-28 2019-09-10 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
CN104889083A (zh) * 2009-12-03 2015-09-09 国际测试解决方案有限公司 清洁装置
US10195648B2 (en) 2009-12-03 2019-02-05 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
JP2011117938A (ja) * 2009-12-03 2011-06-16 Internatl Test Solutions Inc 試験器インタフェース接触要素及び支持ハードウエアを清浄化するための器具、装置、及び方法
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US10361169B2 (en) 2017-04-24 2019-07-23 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
US11155428B2 (en) 2018-02-23 2021-10-26 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10717618B2 (en) 2018-02-23 2020-07-21 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US11434095B2 (en) 2018-02-23 2022-09-06 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
US10843885B2 (en) 2018-02-23 2020-11-24 International Test Solutions, Inc. Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
AT521098A1 (de) * 2018-04-09 2019-10-15 Rainer Gaggl Dr Verfahren zum Reinigen der Nadelspitzen der Nadeln von Nadelkarten
AT521098B1 (de) * 2018-04-09 2022-07-15 Gaggl Dr Rainer Verfahren zum Reinigen der Nadelspitzen der Nadeln von Nadelkarten
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4185325B2 (ja) 集積回路用テストプローブ装置のプローブニードルの洗浄装置および洗浄方法
JP2006186133A (ja) 半導体装置の検査装置および検査方法
JP4859820B2 (ja) プローブ
JP2008032620A (ja) プローブピン
JP3955407B2 (ja) 素子検査用プローブとその製造方法およびそれを用いた半導体素子検査装置
JP3061619B1 (ja) プロ―ブの接触抵抗測定方法
KR101398180B1 (ko) 반도체 디바이스 테스트 보드의 수리방법
JP2006237413A (ja) プローブ針のクリーニング方法、これに用いるウエハおよびウエハプローバ装置
JP6498950B2 (ja) プログラムされたマニピュレータを用いた表面除層
JP2007096190A (ja) プローブカードの針先研磨方法、及びプローブ装置
JP4939129B2 (ja) プローブの研磨部材、プローブの研磨方法、プローブカード及びプローブ装置
JP2009115659A (ja) プローブカード
JP4984709B2 (ja) 微小異物除去方法及び微小異物除去装置
JP2004340661A (ja) プローブユニットの製造方法
JP2006208235A (ja) コンタクトプローブ、その製造方法および使用方法ならびにそのコンタクトプローブを備えるプローブカードおよび検査装置
JP5257113B2 (ja) プローブ針
US11293975B2 (en) Probing device
JP2008198819A (ja) 半導体装置及びその評価方法
JP2007078386A (ja) プローブカードおよび半導体素子検査方法
JP2009276145A (ja) プローブ
EP2952872A1 (en) Surface delayering with a programmed manipulator
JP2009130202A (ja) 洗浄装置及び方法
JP2005345171A (ja) 半導体素子の検査装置
JPH0726772U (ja) プローブ先端クリーニング用研磨板
JP2003215158A (ja) プローブおよびプローブカード装置並びにプローブの製造方法