JP5074207B2 - 感光性フルオロケミカルを含有する組成物および該組成物の用途 - Google Patents
感光性フルオロケミカルを含有する組成物および該組成物の用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5074207B2 JP5074207B2 JP2007549635A JP2007549635A JP5074207B2 JP 5074207 B2 JP5074207 B2 JP 5074207B2 JP 2007549635 A JP2007549635 A JP 2007549635A JP 2007549635 A JP2007549635 A JP 2007549635A JP 5074207 B2 JP5074207 B2 JP 5074207B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- fluorochemical
- formula
- acetophenone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/22—Esters containing halogen
- C08F220/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/06—Ethers; Acetals; Ketals; Ortho-esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/10—Esters; Ether-esters
- C08K5/101—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C09D133/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C09J133/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
(A)式
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜約8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、すべては任意に鎖状につながった(catenated)O原子またはN原子を含み、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である)
から選択されたフルオロケミカルコポリマーと、
(B)ヒドロフルオロエーテル
の混合物を含むフルオロケミカル組成物を提供する。
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜約8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である)
から選択されたフルオロケミカルを含むフルオロケミカルコポリマー組成物を提供する。
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロアルキル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜約8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上であり、n/(n+m+q)は0.1未満である)
から選択されたフルオロケミカルを含むフルオロケミカルコポリマー組成物を提供する。
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロアルキル基またはパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜約8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜約8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、すべては任意に鎖状につながったO原子またはN原子を含み、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である。
C3F7O(CF(CF3)CF2O)5CF(CF3)CH2OCOCH=CH2、
C3F7O(CF(CF3)CF2O)5CF(CF3)CONHC2H4OCOCH=CH2、
C3F7O(CF(CF3)CF2O)5CF(CF3)CONHC2H4OCOC(CH3)=CH2、
C4F9SO2NMeC2H4OCOCH=CH2、
(CF3)2CFCH(OCOCH=CH2)C3F7、
CF3CH(OCOCH=CH2)C6F13、
C3F7CH2OC(O)CH=CH2、
(CF3)2CHOCOCH=CH2および
C8F17CH2CH2OC(O)CH=CH2である。
30gのNaBH4(アルドリッチ(Aldrich))、50mLのHFEおよび400mLの乾燥ジメトキシエタンの攪拌された混合物を1000gのC3F7O(CF(CF3)CF2O)5CF(CF3)COOCH3で6時間にわたり処理し、発熱をもたらし、混合物を50℃で一晩攪拌した。冷却後、混合物を最初に50mLのMeOH、次に75mLの5%HClで注意深く処理した。最初の数mLのHClは激しい発泡を引き起こした。300mLの水の添加、中間相の多少の白色固体の濾過および下方層の除去は、931gのC3F7O(CF(CF3)CF2O)5CF(CF3)CH2OHを与えた。150mLのHFE中のこれの322gおよび38.9gのジイソプロピルエチルアミン(アルドリッチ(Aldrich))の溶液を25.0gの塩化アクリロイル(アルドリッチ(Aldrich))で滴状に処理し、白色固体を生じさせた。これを50℃で一晩攪拌し、冷却し、4mLの水、5.0gのK2CO3および25gのシリカゲルで処理し、各添加の間約2時間待った。混合物を濾過し、除去して297.5gのHFPO−5−DHAを与えた。
これは、上のエステルと同じ方式で製造されたC3F7O(CF(CF3)CF2O)7CF(CF3)COOMeで出発して、本質的に上のように製造した。
aが平均して約5.8であり、平均分子量が1,211g/モルであるC3F7O(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)COOCH3(HFPO−C(O)OCH3)を分留による精製と合わせて米国特許第3,250,808号明細書(ムーア(Moore)ら)において報告された方法により調製することが可能である。
HFPO−C(O)OCH3(すなわち、Mw=1211g/モル、50g)を200mLの丸底フラスコに入れた。フラスコを窒素でパージし、水浴に入れて50℃以下の温度を維持した。このフラスコに3.0g(0.045モル)の2−アミノエタノールを添加した。反応混合物を約1時間にわたり攪拌し、その時間後、反応混合物の赤外スペクトルは、1790cm-1でのメチルエステル帯の完全な喪失および1710cm-1での強いアミドカルボニルストレッチの存在を示した。メチルt−ブチルエーテル(MTBE、200mL)を反応混合物に添加し、有機相を水/HCl(約5%)で二回抽出して、未反応のアミンおよびメタノールを除去した。MTBE層をMgSO4で乾燥させた。MTBEを減圧下で除去して、透明で粘性の液体をもたらした。陽子(1H)核磁気共鳴分光分析(NMR)および赤外分光分析(IR)は、HFPO−C(O)N(H)CH2CH2OH(HFPO−AE−OH)の生成を確認した。
a=9.5のC3F7O(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)C(O)NHCH2CH2OHの代わりにa=5.8で分子量1344のC3F7O(CF(CF3)CF2O)aCF(CF3)C(O)NHCH2CH2OHを用いて、(HFPO)k−メタクリレートの合成のための2002年5月24日出願の米国特許出願公開第2004−0077775号明細書、発明の名称「弗素化ポリマーを含むフルオロケミカル組成物および該組成物による繊維状基材の処理((Fluorochemical Composition Comprising a Fluorinated Polymer and Treatment of a Fibrous Substrate Therewith)」に記載された手順に似た手順によってHFPO−C(O)N(H)CH2CH2OC(O)C(CH3)=CH2(HFPO−AEMA)を製造する。
バゾ(VAZO)67と合わせて以下の表1で指示された量の指示されたモノマーおよび溶媒をボトルに投入し、ボトルを約35秒にわたり窒素でパージし、その後、回転水浴内で60℃で約24時間にわたりボトルを加熱することによりポリマーを製造した。用いられたバゾ(VAZO)67の量は次の通りであった。実施例1:0.6重量%。実施例3〜14:0.3重量%。
被覆幅:4インチ(10cm)
ウェブ速度:10フィート/分
溶液%固形物:2.0%
ポンプ:60ccシリンジポンプ
流速:1.2cc/分
湿り被膜厚さ:4.1マイクロメートル
乾燥被膜厚さ:60nm
従来の炉温度:ゾーン1:65℃
ゾーン2:65℃
炉の長さ:10フィート(3m)
フィルムの表面を横切る(ゴムガスケットによって)針に固定された鋼綿を振動させることができる機械装置の使用によって被覆方向にクロスウェブで被膜の耐磨耗性を試験した。針は3.5拭き/秒の速度で幅10cmのスイープ幅にわたり振動した。ここで、「拭き」を10cmの片道移動として定義する。針は、直径6mmの平坦な円柱形状を有していた。装置は、フィルムの表面に垂直の針によって加えられた力を増すために分銅を上に置いたプラットホームを備えていた。鋼綿は「#0000−スーパー−ファイン(#0000−Super−Fine)」という商品名でワシントン州ベリングハムのホマックス・プロダクツのディビジョンであるローデス・アメリカン(Rhodes−American a Division of Homax Products(Bellingham,WA))から購入し、受領したまま用いた。単一サンプルを実施例ごとに試験し、針に加えられたグラムの重量および試験中に用いられた拭き数を明記した。
バゾ(VAZO)67と合わせて以下の表1で指示された量の指示されたモノマーおよび溶媒をボトルに投入し、ボトルを約35秒にわたり窒素でパージし、その後、実施例20および22は約48時間にわたり保持したことを除き、回転水浴内で60℃で約24時間にわたりボトルを加熱することによりポリマーを製造した。用いられたバゾ(VAZO)67の量は次の通りであった。実施例15〜18:0.080g、実施例19〜22:0.030g。
被膜をIPA中で手によりかき混ぜることにより1分にわたりリンスした後、水接触角の測定に供した。製品番号VCA−2500XEとしてASTプロダクツ(AST Products)(マサチューセッツ州ビレリカ(Billerica,MA))から入手できるビデオ接触角分析装置で、ミリポア・コーポレーション(Millipore Corporation)(マサチューセッツ州ビレリカ(Billerica,MA))から購入した濾過システムを通して濾過された脱イオン水を用いて測定を行った。報告された値は滴の右側および左側で測定された少なくとも3つの滴上での測定の平均であり、表4で示している。滴体積は、静的測定用は5μLおよび前進と後退用は1〜3μLであった。
この試験は剥離組成物の効力を測定する。剥離値は、試験組成物で被覆された基材から特定の角度および除去の速度で柔軟性接着剤テープを除去するのに要する力の定量的な目安である。以下の実施例において、この力をg/インチで表現する。硬化した被膜を放置して、室温および相対湿度50%で24時間にわたり状態調節した後、マサチューセッツ州アコードのI−マス・インストルメント(I−Mass Instruments(Accord,MA))から入手できる滑り/剥離テスターSP2000の台に(被覆側を上にして)被覆された基材の2.54cm×20.32cm片を両面被覆テープに貼合わせることにより剥離試験を行った。こうして形成された貼合せ物上で感圧接着剤(PSA)被覆試験テープの1.91cm×15.24cm片を2kgのゴムロールでならした。180度および90インチ/分(228.6cm/分)の剥離速度でこのテープを除去するのに要した平均力を表5で報告している。3つのサンプルを実施例ごとに測定した。
剥離されたばかりのテープをきれいなガラス板に接着させ、上で示したSP2000滑り/剥離テスターを用いて標準方式で引き剥がし粘着力を測定し、90インチ/分(228.6cm/分)および剥離角180度で再び引き剥がすことにより再粘着力も測定した。剥離被膜に接着されたことのないきれいなガラス板から対照テープサンプルを除去するのに要した力に対するきれいなガラス板からサンプルを除去するのに要した平均力の百分率として再粘着力を報告した。比較例C−1は、スリーエム・カンパニー(3M Company)から入手できるスリーエム(3M)610テープである。3つのサンプルを実施例ごとに測定した。
Claims (5)
- (A)式
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である)
を有するフルオロケミカルと、
(B)ヒドロフルオロエーテル、酢酸エチルまたはそれらの組み合わせの混合物を含むフルオロケミカルコポリマー組成物。 - 式
RFは、式Rf−W−(ここで、Rfはパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である)
を有するフルオロケミカルを含むフルオロケミカルコポリマー組成物。 - RfがC3F7O(CF(CF3)CF2O)nCF(CF3)−、CF3O(C2F4O)nCF2−またはC3F7O(CF2CF2CF2O)nCF2CF2−(ここで、nは1〜50の平均値を有する)である、請求項1または2に記載の組成物。
- 高分子基材と、
前記基材の表面上のフルオロケミカルコポリマー組成物であって、
式
RFは、式Rf−W−(ここで、Rf はパーフルオロポリエーテル基であり、Wは二価結合基である)を有する弗素化基であり、
PIは、ベンゾフェノン基、置換ベンゾフェノン基、アセトフェノン基または置換アセトフェノン基を含む一価のペンダントの有機部分であり、
Rは、H、CH3またはFであり、
Rhは、1〜8個の炭素原子を有する直鎖または分岐のアルキル基、4〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル含有アルキル基および3〜8個の炭素原子を有するシクロアルキル基からなる群から選択された低級アルキルであり、
mは少なくとも2であり、
nは少なくとも1であり、
qは0以上である)
を有するフルオロケミカルを含むフルオロケミカルコポリマー組成物と、
を含む物品。 - 物品を製造する方法であって、
基材を提供する工程と、
請求項1または2に記載のフルオロケミカルコポリマー組成物で前記基材の表面を被覆する工程と、
前記被覆された基材をUV線に曝露する工程と、
を含む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US64026004P | 2004-12-29 | 2004-12-29 | |
US60/640,260 | 2004-12-29 | ||
PCT/US2005/047403 WO2006071981A1 (en) | 2004-12-29 | 2005-12-28 | Compositions containing photosensitive fluorochemical and uses thereof |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008527091A JP2008527091A (ja) | 2008-07-24 |
JP2008527091A5 JP2008527091A5 (ja) | 2009-02-12 |
JP5074207B2 true JP5074207B2 (ja) | 2012-11-14 |
Family
ID=36190705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007549635A Expired - Fee Related JP5074207B2 (ja) | 2004-12-29 | 2005-12-28 | 感光性フルオロケミカルを含有する組成物および該組成物の用途 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7682771B2 (ja) |
EP (1) | EP1833862B1 (ja) |
JP (1) | JP5074207B2 (ja) |
KR (1) | KR101290491B1 (ja) |
CN (1) | CN101107280B (ja) |
AT (1) | ATE423150T1 (ja) |
DE (1) | DE602005012868D1 (ja) |
ES (1) | ES2321537T3 (ja) |
RU (1) | RU2007123778A (ja) |
WO (1) | WO2006071981A1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7553540B2 (en) * | 2005-12-30 | 2009-06-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer coated films useful for photovoltaic modules |
US8012542B2 (en) * | 2005-12-30 | 2011-09-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer coating compositions containing adhesive polymers and substrate coating process |
US7754838B2 (en) * | 2006-08-08 | 2010-07-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Poly(meth)acrylamides and poly(meth)acrylates containing fluorinated amide |
US8124221B2 (en) * | 2006-12-21 | 2012-02-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Crosslinkable vinyl fluoride copolymer coated film and process for making same |
US8168297B2 (en) * | 2007-04-23 | 2012-05-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluoropolymer coated film, process for forming the same, and fluoropolymer liquid composition |
CN101679569A (zh) * | 2007-06-06 | 2010-03-24 | 3M创新有限公司 | 氟化醚组合物以及使用该组合物的方法 |
WO2010080473A1 (en) | 2008-12-18 | 2010-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Method of contacting hydrocarbon-bearing formations with fluorinated ether compositions |
WO2011001846A1 (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-06 | 旭硝子株式会社 | 表面処理剤、物品および含フッ素エーテル化合物 |
US9334423B2 (en) * | 2012-08-31 | 2016-05-10 | Basf Se | Compositions comprising an acrylic block copolymer and a UV-curable copolymer and methods of making and using the same |
SG11201504914SA (en) | 2012-12-20 | 2015-07-30 | 3M Innovative Properties Co | Copolymers including ultraviolet absorbing groups and fluoropolymer compositions including them |
JP6632378B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2020-01-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 紫外線吸収基を有するオリゴマーを含むフルオロポリマー組成物 |
US11110689B2 (en) | 2014-06-25 | 2021-09-07 | 3M Innovative Properties Company | Pressure sensitive adhesive composition including ultraviolet light-absorbing oligomer |
WO2015200655A1 (en) | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer composition including at least one oligomer |
US9994732B1 (en) | 2014-09-12 | 2018-06-12 | Steven Martin Johnson | Polysilazane and fluoroacrylate coating composition |
CN105647502B (zh) * | 2014-11-10 | 2018-09-04 | 中国石油天然气股份有限公司 | 一种稠油降粘剂及其制备方法 |
WO2016210140A1 (en) | 2015-06-25 | 2016-12-29 | 3M Innovative Properties Company | Copolymer including ultraviolet light-absorbing group and compositions including the same |
JP6645800B2 (ja) * | 2015-10-22 | 2020-02-14 | 株式会社ブリヂストン | 粘着シート及び粘着シートの製造方法 |
US10562065B1 (en) | 2015-11-03 | 2020-02-18 | Newtech Llc | Systems and methods for application of polysilazane and fluoroacrylate coating compositions |
US10584264B1 (en) | 2016-02-25 | 2020-03-10 | Newtech Llc | Hydrophobic and oleophobic coating compositions |
CN107513127A (zh) * | 2016-06-17 | 2017-12-26 | 默克专利股份有限公司 | 含氟聚合物 |
CN110475834A (zh) | 2017-03-27 | 2019-11-19 | 3M创新有限公司 | 膜构造和制品 |
CN109758970B (zh) * | 2018-12-12 | 2021-03-23 | 衢州学院 | 一种纳米纤维素基含氟高分子表面活性剂及其制备方法 |
DE102019106081B4 (de) * | 2019-03-11 | 2024-05-08 | Joanneum Research Forschungsgesellschaft Mbh | Oligomere Hexafluorpropylenoxidderivate |
JP2021024932A (ja) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 三菱ケミカル株式会社 | 共重合体、硬化性重合体組成物、硬化物、積層体 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3282905A (en) | 1961-05-03 | 1966-11-01 | Du Pont | Fluorine containing esters and polymers thereof |
US3250808A (en) | 1963-10-31 | 1966-05-10 | Du Pont | Fluorocarbon ethers derived from hexafluoropropylene epoxide |
US3553179A (en) | 1968-05-06 | 1971-01-05 | Du Pont | Acrylate-type esters of perfluoropoly-oxa-alkaneamidoalkyl alcohols and their polymers |
US3544537A (en) | 1968-05-31 | 1970-12-01 | Du Pont | Poly(perfluoroalkoxy)polyfluoroalkyl acrylate-type esters and their polymers |
US4178303A (en) | 1979-01-26 | 1979-12-11 | Gaf Corporation | (2-Cyano-3,3-diphenylacryloxy) alkylene acrylic acid esters |
US4348530A (en) | 1980-02-05 | 1982-09-07 | Ciba-Geigy Corporation | Thioxanthonecarboxylic acids, esters, thioesters and amides with reactive functional groups |
JPS56167139A (en) | 1980-05-27 | 1981-12-22 | Daikin Ind Ltd | Sensitive material |
US4818801A (en) * | 1982-01-18 | 1989-04-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ophthalmic device comprising a polymer of a telechelic perfluoropolyether |
US4477326A (en) | 1983-06-20 | 1984-10-16 | Loctite Corporation | Polyphotoinitiators and compositions thereof |
US5084537A (en) | 1985-01-29 | 1992-01-28 | Bausch & Lomb, Incorporated | UV-absorbing extended-wear Lenses |
US5002979A (en) | 1985-01-29 | 1991-03-26 | Bausch & Lomb Incorporated | Extended-wear lenses |
US4847137A (en) | 1986-05-19 | 1989-07-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Pressure-sensitive adhesive crosslinked by copolymerizable aromatic ketone monomers |
US5264533A (en) | 1988-06-16 | 1993-11-23 | Basf Aktiengesellschaft | Benzophenone derivatives and their preparation |
US5484822A (en) | 1991-06-24 | 1996-01-16 | Polaroid Corporation | Process and composition for cladding optic fibers |
JPH05127394A (ja) | 1991-10-31 | 1993-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用原版 |
DE4413436A1 (de) | 1994-04-18 | 1995-10-19 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur Lackierung von Gegenständen unter Verwendung strahlungshärtbarer Pulverlacke |
HUT77423A (hu) | 1994-12-30 | 1998-04-28 | Novartis Ag. | Blokk-kopolimer alapú polimerek |
US5925611A (en) | 1995-01-20 | 1999-07-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cleaning process and composition |
JP2907382B2 (ja) | 1995-01-30 | 1999-06-21 | 小倉クラッチ株式会社 | 電磁連結装置 |
EP1023356A1 (en) | 1997-09-29 | 2000-08-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Specific fluorinated ethers as reaction medium |
US6441114B1 (en) * | 1999-06-11 | 2002-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Adhesives for use on fluorine-containing or polycarbonate surfaces |
DE60042561D1 (de) | 1999-10-27 | 2009-08-27 | 3M Innovative Properties Co | Fluorochemische sulfonamide tenside |
ATE322524T1 (de) | 2000-08-18 | 2006-04-15 | 3M Innovative Properties Co | Fluoro(meth)acrylatecopolymer-beschichtungsmass n |
US6395459B1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-05-28 | Eastman Kodak Company | Method of forming a protective overcoat for imaged elements and related articles |
US6592659B1 (en) | 2001-11-15 | 2003-07-15 | 3M Innovative Properties Company | Compositions for aqueous delivery of fluorinated silanes |
JP4436030B2 (ja) * | 2002-05-10 | 2010-03-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アクリル系剥離剤前駆体、剥離剤物品及び剥離剤物品の製造方法 |
KR20050014834A (ko) | 2002-05-24 | 2005-02-07 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 퍼플루오로폴리에테르 및 연장제를 포함하는 섬유 기질처리용 플루오로화합물 조성물 |
CN100540586C (zh) | 2002-05-24 | 2009-09-16 | 3M创新有限公司 | 含有氟化聚合物的含氟化合物组合物和利用其处理纤维底物 |
US6841079B2 (en) | 2002-05-31 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical treatment for silicon articles |
US6923921B2 (en) | 2002-12-30 | 2005-08-02 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated polyether compositions |
JP4431336B2 (ja) * | 2003-04-09 | 2010-03-10 | 株式会社日本触媒 | 樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー |
-
2005
- 2005-12-23 US US11/317,682 patent/US7682771B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-28 DE DE200560012868 patent/DE602005012868D1/de active Active
- 2005-12-28 WO PCT/US2005/047403 patent/WO2006071981A1/en active Application Filing
- 2005-12-28 RU RU2007123778/04A patent/RU2007123778A/ru unknown
- 2005-12-28 ES ES05855894T patent/ES2321537T3/es active Active
- 2005-12-28 AT AT05855894T patent/ATE423150T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-12-28 KR KR1020077017365A patent/KR101290491B1/ko active IP Right Grant
- 2005-12-28 CN CN2005800455491A patent/CN101107280B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-28 JP JP2007549635A patent/JP5074207B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-28 EP EP20050855894 patent/EP1833862B1/en not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101107280B (zh) | 2011-07-06 |
CN101107280A (zh) | 2008-01-16 |
KR101290491B1 (ko) | 2013-07-26 |
US20060199029A1 (en) | 2006-09-07 |
KR20070103396A (ko) | 2007-10-23 |
RU2007123778A (ru) | 2009-02-10 |
ES2321537T3 (es) | 2009-06-08 |
US7682771B2 (en) | 2010-03-23 |
DE602005012868D1 (de) | 2009-04-02 |
JP2008527091A (ja) | 2008-07-24 |
ATE423150T1 (de) | 2009-03-15 |
WO2006071981A1 (en) | 2006-07-06 |
EP1833862B1 (en) | 2009-02-18 |
EP1833862A1 (en) | 2007-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5074207B2 (ja) | 感光性フルオロケミカルを含有する組成物および該組成物の用途 | |
JP4851446B2 (ja) | ハードコート組成物 | |
CN110121538B (zh) | 可固化的高折射率墨组合物和由墨组合物制备的制品 | |
CN100549064C (zh) | 含有丙烯酰基的全氟聚醚 | |
US7101618B2 (en) | Article comprising fluorochemical surface layer | |
US20050249940A1 (en) | Fluoropolyether poly(meth)acryl compounds | |
JP2007536409A (ja) | フルオロポリエーテルポリ(メタ)アクリル化合物 | |
US20060148350A1 (en) | Articles comprising a fluorochemical surface layer and related methods | |
WO2004108772A1 (ja) | 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物 | |
JP2000086996A (ja) | 低接着性塗料 | |
JP5744011B2 (ja) | 防汚性付与剤 | |
JP2021187965A (ja) | コーティング用硬化性組成物 | |
JP2015212370A (ja) | 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物溶液、硬化塗膜および硬化性塗料 | |
KR20070018983A (ko) | 불소화합물 표면층을 포함하는 물품 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081219 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120528 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120604 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120628 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120724 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120823 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5074207 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |