JP5066039B2 - パラレルリンク機構およびパラレルリンク機構を備えた真空成膜装置 - Google Patents
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Description
真空成膜用の部品を搭載可能な第1板部材と、
前記第1板部材と間隔をあけて配された第2板部材と、
前記第1板部材および第2板部材間の連結に用いるリンク部と、を備え、
前記リンク部は、アクチュエータが配された伸縮装置と、ガイド部材からなる支柱と、を含み、
複数の前記伸縮装置は、前記第1板部材および第2板部材間において並列に配されて、前記アクチュエータの駆動力により軸方向に伸縮可能に構成され、
前記支柱は、前記第1板部材および第2板部材間において前記伸縮装置と並列に配されて、前記アクチュエータの駆動力を前記第1板部材および第2板部材を介して伝達することにより軸方向に伸縮可能に構成され、
前記第1板部材は、前記複数の伸縮装置の一方の軸端に第1継手を介して連結されるとともに、前記支柱の一方の軸端に第2継手を介して連結され、
前記第2板部材は、前記複数の伸縮装置の他方の軸端に第3継手を介して連結されるとともに、前記支柱の他方の軸端に固定されている、パラレルリンク機構を提供する。
前記第1板部材は、前記真空成膜室内において前記伸縮装置および前記支柱の伸縮動作により移動制御され、
前記第2板部材は、前記真空成膜室の壁に固定されている、真空成膜装置も提供する。
(変形例)
本実施形態(図5)では、大口径の金属ベローズ36の内部に、全ての(3個の)アクチュエータ45Aが配設されている。この場合、空間35Bの大気圧P0と成膜空間35Aの内圧P1との間の差圧(P0−P1)が、出力板49(ターゲットホルダ30B)の裏面の略全域に作用する。
11A、11B 棒磁石
12、13 電磁コイル
15 アノード
20 円柱プラズマ
21 シートプラズマ
25 シートプラズマ変形室
30A ターゲット
30B ターゲットホルダ
31、33 バイアス電源
32A 基板
32B 基板ホルダ
34A、36A 冷媒導入配管
34B、36B 冷媒排出配管
35 真空成膜室
35A 成膜空間
35B 大気空間
36 金属ベローズ
37 真空シール
38 真空成膜室の壁
38A 壁の開口
40A、40B、40C、43 継手(回転2自由度継手)
41A、41B、41C 継手(3自由度継手)
44 固定手段
45 伸縮装置
45A アクチュエータ
46 支柱
46A 直動ガイド
48 ベース板
48A、48B ベース板の開口
49 出力板
50 ユニバーサルジョイント
51、52 ユニバーサルジョイントの回転軸
60 ボールジョイント
61 ボールジョイントの球面座
62 ボールジョイントの球体
100 スパッタリング装置
110、110A パラレルリンク機構
120 パラレルリンク機構のリンク部
200A ベース板上の仮想の円周
200B 出力板上の仮想の円周
Claims (8)
- 真空成膜用の部品を搭載可能な第1板部材と、
前記第1板部材と間隔をあけて配された第2板部材と、
前記第1板部材および第2板部材間の連結に用いるリンク部と、を備え、
前記リンク部は、アクチュエータが配された伸縮装置と、ガイド部材からなる支柱と、を含み、
複数の前記伸縮装置は、前記第1板部材および第2板部材間において並列に配されて、前記アクチュエータの駆動力により軸方向に伸縮可能に構成され、
前記支柱は、前記第1板部材および第2板部材間において前記伸縮装置と並列に配されて、前記アクチュエータの駆動力を前記第1板部材および第2板部材を介して伝達することにより軸方向に伸縮可能に構成され、
前記第1板部材は、前記複数の伸縮装置の一方の軸端に第1継手を介して連結されるとともに、前記支柱の一方の軸端に第2継手を介して連結され、
前記第2板部材は、前記複数の伸縮装置の他方の軸端に第3継手を介して連結されるとともに、前記支柱の他方の軸端に固定されている、パラレルリンク機構。 - 前記第1継手および前記第3継手のうちのいずれか一方の継手が3自由度継手であり、その他方の継手および前記第2継手が回転2自由度継手である請求項1記載のパラレルリンク機構。
- 前記3自由度継手はボールジョイントであり、前記回転2自由度継手はユニバーサルジョイントである請求項2記載のパラレルリンク機構。
- 前記伸縮装置の一方の軸端は、前記第1板部材の所定の点を中心とする円周上に離れて配され、
前記伸縮装置の他方の軸端は、前記第2板部材の所定の点を中心とする円周上に離れて配され、
前記支柱の一方の軸端は、前記第1板部材の所定の点上に配され、
前記支柱の他方の軸端は、前記第2板部材の所定の点上に配されている、請求項3記載のパラレルリンク機構。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のパラレルリンク機構が真空成膜室に配され、
前記第1板部材は、前記真空成膜室内において前記伸縮装置および前記支柱の伸縮動作により移動制御され、
前記第2板部材は、前記真空成膜室の壁に固定されている、真空成膜装置。 - 前記真空成膜室内が減圧状態において、前記アクチュエータの周囲を大気圧に保てる気密機構を備えた請求項5記載の真空成膜装置。
- 前記気密機構は、前記アクチュエータを内部に配した状態で、前記第1板部材および前記第2板部材に接続されたベローズである請求項6記載の真空成膜装置。
- 前記ベローズが、単一の前記アクチュエータ毎に配されている、請求項7記載の真空成膜装置。
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