JP5054112B2 - ガス処理された液体のための装置。 - Google Patents

Description

本発明は、ガス供給路と少なくとも1つのガスランスを備えたガス処理された液体のための装置に関し、ガスランスはガス供給路に接続され、そのガス供給路からガス流がガス処理動作で出力されている。その装置は、特に、浸水運転で使われる薄膜設備に適しており、吹き上がるガスの気泡は、薄膜を洗浄するために使用されている。

従来、ガス供給路と、ガス供給路から枝分かれした複数のガスランスを備えたガス処理装置は、浸水運転で使用される薄膜装置のガス処理のために使用されている。ガス供給路は、本質的に水平に設置されている。ガスランスは、上方に垂直に伸びており、かつ、ガス処理された液体によって囲まれている。このようなガス処理装置は、国際公開第97/06880号パンフレットから公知であり、ここには、ガスランスが上部、ガス処理された液体への開口端、及び、下部で突き出していること、ガス供給路への斜めの端部が開示されている。液体は、ガス処理区間の間ガス供給路に、スムーズに突き通っており、沈殿物がガスランスで形成されている。圧力損失の変化が、沈殿物のため、個々のガスランスのわずかな断面の変化により個々のガスランスで起きる。その結果、不均一のガスランスの気泡が見られる。

ガスランスに貫通する液体、及び、ガス処理区間の間でガス供給路のガス室が溢れるのを避けるために、ガスランスの突き出た端部に位置し、かつ、ガスランスの端面を環状に囲んでいる、キャップを持ったガスランスを備えることが、独国実用新案出願公開第20300546号明細書から知られている。ガス処理の間、空気は、上から底へ、キャップとガスランスの間の環状室を通って流れ、環状の隙間の下部端から出る。長い期間駆動していると、混入物質、又は、生物膜の生成にため、環状の隙間が部分的、又は、全体的に詰まる危険が起きる可能性がある。平行に接続されたガスランスは、ガスランスでの異なる流れ抵抗のため、そこを通る流れを均一にしない。特に、少量のガスの塊の流れを使用した場合、ガス処理は、安定せず、不均一である。システムで圧力の減少が起きた後、ガスランスを通って、ガス供給路に流れる水は、ガス室から不完全に取り除かれる。残留物が、システムのガス室に残り、長期間においては、ガス処理装置の動作を低下させる。

国際公開第97/06880号パンフレット 独国実用新案出願公開第20300546号明細書

本発明は、少量のガスの塊においても安定な動作を可能とし、平行に設置されたガスランスの衝突を均一化することをも特に可能とするガス処理装置を述べることを目的としている。ガス処理装置をメンテナンスし易くすることもできる。

本発明によると、目的は、ガス処理された液体のための装置、特に、浸水動作で使用される薄膜設備のための装置であって、ガス供給路と、ガス処理動作でガス流を排出する少なくとも１つのガスランスとを備え、ガスランスは、ガスランスの側面にある第１のマウス領域と、ガス供給路の側面にある第２のマウス領域とを備えた少なくとも１つの接続路によって、ガス供給路に接続され、かつ、スロットルが、ガスランスに入り込むガス流の流れ圧力損失を生成し、第１のマウス領域の下方に延長部を備え、この延長部は、ガスランスに隣接し、かつ、第１のマウス領域の下方に、液体（１）を排出する開口部を備えることによって達成できる。

ガス処理された液体で存在する圧力は、ガスランスの上方の端部で開いたガス排気口と、延長部の底部開口部との両方を介して、ガスランスと延長部によって取り囲まれた部屋上で振る舞い、延長部の低い開口部の圧力は、装置に取り囲まれた液柱の高さのため、ガスランスの上方の端部より大きい。ガス処理装置の動作の間、底の開口部は、イコライザーとして使用され、かつ、ガスランス内の圧力の状態を測定しており、接続路のスロットル効果は、供給されたガスの均一の流れを保証している。明瞭に定義されたスロットル効果を保証するために、どの接続路も１つのガスランスに接続され、その１つのガスランスは、制限なしに、複数の接続路を介して、ガス供給路に接続可能となっている。特に、実施例で記載された複数のガスランスを備えた本発明による装置において、接続路のスロットル効果と、延長部の開口部を通しての圧力の均一化は、個々のガスランスへ全てのガス流の均一の分配と、ガスランスの均一の泡立ちを保証している。

ガスランスに入り込むガス流の流れ圧力損失を生成する接続路のスロットル効果は、例えば、くびれ又はノズル開口の形式で、接続路がスロットル部を持つという本発明の範囲内で達成される。接続路は、ガスランスの断面より小さく、かつ、ガスランスに入り込むガス流の流れ圧力損失を生成する長さより大きい断面をも備えている。制限することなしに、少なくとも１つのガスランスが、複数の接続路、又は、唯一の接続をを介して、ガス供給路に接続され、接続路も複数の平行のくびれやノズル排気開口部を持つことが可能である。しかし、接続路に唯一の流れ道を備えている実施例が特に好ましく、そのような実施例では、予め定義されたスロットル効果によって、比較的大きな流れ断面が接続路内に可能であり、沈着物による接続路の目詰まりの危険を減らすことが可能である。

接続路は、第１のマウス領域を使用することで、ガスランスに接続し、かつ、第２のマウス領域を使用することでガス供給路に接続している。本発明の好ましい実施例では、第１のマウス領域は、第２のマウス領域の下方に位置しており、その結果、ガス供給路へ接続している接続路が下方に伸びている。ガス処理装置が動作中に移行する場合、ガス供給路に進む液体が、ガス供給路から第２のマウス領域の高さ以上に移動することが保証される。第２のマウス領域は、ガス供給路の底部に位置することが特に好ましく、その結果、ガス処理装置が動作中に移行する場合、いつも完全にすべてのガス供給路の残留物がない。

本発明による浸水動作で動作する装置が動作中に移行した場合、液体は、少なくともガス供給路、接続路、延長部、及び、ガスランスからガスを使用した衝突によって除去されていなければならない。液体は、部分的に接続路の開口部を通して、かつ、部分的に頂部が開口したガスランスを通して取り除かれる。ガス室が空になった後、ガスはガスランスを通じて流れ出る。これが通常の動作状態である。大きなガス流は、平行に位置しているガス処理装置のガスランスと共に生じる。延長部の開口部が、平行に位置し、均一な流れにさせるガスランスに重大な貢献をしている。なぜならば、定義された圧力状態が、スロットルとしてデザインされた接続路の背後の流れ方向にどの場合も生じることが、開口部によって保証されている。

ガス処理装置の好ましい動作モードにおいて、全てのガスの流れは、少なくとも１つのガスランスを通って上方へ案内され、圧力クッションがガスランスの流れ抵抗のために延長部に形成されている。少量のガスがガスランスを通じて運ばれる場合、液体は接続路の開口部を通じて流入し、ガスの流れを持ってガスランスで上方に運ばれる。排気効果が観察され、その排気効果は、通常は減少したガス流量で増加し、気泡の洗浄工程をサポートしている。

好ましい動作モードで開始して、ガス供給路での圧力、及び、ガスランスを通るガス流の量が増加したならば、延長部での圧力クッションは、ガス流の一部が延長部の開口部を通じて下方に逃げるまで広がる。ガス処理装置の底で存在する追加のガス流は、目標とされた液体のガス処理のために使用されることが可能である。本発明による装置が薄膜装置に使用された場合、例えば、薄膜束がガスランスの周りに位置しており、装置の底から来る追加のガス流が特に有効に、外側表面や薄膜繊維束の境界領域で追加の洗浄を許容している。

ガス処理装置は、断続的に動作することが可能である。断続的な動作の間、好ましい動作モードで、大きなガス又はエアの流れが使用されるガス処理間隔は、ガス供給路の圧力が保持されるのに十分にガス流が締められる間隔を持って交互に行うが、とてもわずかのガス、又は、まったくないガスの量が少なくとも1つのガスランスを通じて逃げる。選択的に、断続的な動作の場合、上記に述べたように、追加のガス流は、とても大きなガス又はエア流が起きた場合にガス処理装置の底で発生する。もし、ガス処理装置が、断続的な動作の間、小さなガス流を使用して動作したのなら、少なくとも１つのガスランスは、周囲の液体によって満たされてしまう。液体の柱がガスランスで生じ、それは、接続路まで伸び、かつ、供給路で存在するより高い圧力のため、接続路を通じてガス供給路には通じていない。もし、ガス供給路に、再び、大きなガス流が進入したのなら、液体は、ガスランスから移動し、衝撃波が初めに延長部の開口部を通じて逃げ出し、そして、ガス流の一部がガスランスを通じて情報に流れる。液体がガスランスから移動してすぐ、好ましい動作モードが実行され、その動作モードで、全てのガス流がガスランスを通じて流れ出る。始めに記載した公知の形態と較べて、すべてのシステムの圧力損失を著しく小さくすることができる。さらに、ガス流の制御範囲はより広くすることが可能である。小さなガス流量でさえ、ガスランスの均一、又は、ガスランスが保証される。さらなる効果は、この装置は、装置が動作状態で、液体がガス供給路から残留物なしに取り除かれるように実行されることである。特に、複数のガスランスを備えた装置の実施例では、ガス処理動作で、すべてのガスランスを通じて均一の流れが保証される。 複数の可能性が、本発明による装置の更なる構造の実施によって生じる。このように、接続路がガスランスに直接に、又は、スロットル部のような環状ギャップのようなギャップを介して、接続することが可能である。本発明の実施例では、接続路はガスランスに継続的に通じており、接続路とガスランスは同じ断面を持っている。実施例の特にシンプルな改良においては、ガスランスと延長部は、チューブのように実装され、ガスランスは、接続路の上に伸びており、そして、延長部は、接続路の下に伸びている。チューブは好ましくは、円状の断面をしており、かつ、環状に、又は、部分的に円錐状の形をしていてもよい。線形のチューブを持った場合、例えば、ブラシや加圧ジェットを使用して、取り付けられた状態でも、特に容易に洗浄することが可能である。

本発明による装置の更なる実施例は、ガス供給路に付着した接続部を備えている。ガスランスは、接続部の受液室に上方に伸びており、カバーは接続部下端を覆うとともに、カバーは、底が開いており、延長部を構成している。カバーは、接続部に挿入され、接続路は、好ましくは、カバー内に形成されている。カバーは接続部上に位置していても良い。少なくとも１つのガスランスは、好ましくは、接続部の受液室に伸びており、接続部によって定義される接続路は、受液室に繋がるガスランスの端部でスロットル部を備えている。本発明による装置の複数の有効な構造的な改良点は、実施例のような構造である。

カバーは、スロットル部を形成する環状ギャップを持ったガスランスの端部を取り囲む内部面を備えている。カバーは、好ましくは、ガスランスの端部に対向するくぼみを備え、かつ、延長部の流れを静める部屋を形成している。カバー側開口部は、流れを静める部屋につながっている。

本発明の更なる実施例によると、スロットルバルブは、接続部とガスランスによって区切られる環状部屋に位置している２つのバルブを備えており、第１のバルブ部は、ガスランスの端部上に位置しており、かつ、ガスランスと接続路の間の環状部屋と橋渡し、かつ、ガス通路開口部も備えている。第２のバルブ部は、ガス通路開口部と共に働き、かつ、カバーと第１のバルブの間の部屋に位置しているバルブ座部を備えている。さらに、第２のバルブ部は、通路を備え、その通路は、スロットル部の背後の延長部の流れを静める部屋を形成し、かつ、カバーの開口部と一直線につながっている。バルブ座部は、円錐状、又は、へこんだ座部のように実施される。第１のバルブは、ガスランスの端部を環状に取り囲む流れ部屋に排出する軸方向の穴を備えている。流れ部屋と第２のバルブ部の座部は、定義されたソロットルギャップを備えている。２つのバルブ部は、好ましくは、互いに接続されている。ねじ接続部は、例えば、２つのバルブ部の間のスロットルギャップの幅を調節するために存在している。第２のバルブが、第１のバルブに対してカバーによって固定される挿入部であることも本発明の範囲内でもある。第１のバルブ部は、ガスランスにガスを流すための、ノズル形状の圧縮するガス注入口も備えている。

延長部の底側開口部は、好ましくは、ガスランスの流れ断面の０．５倍から２倍に一致する断面を備えている。開口部の断面、及び、ガスランスの流れ断面は、好ましくは、本質的に一致している。

ガスランスは、キャップや圧縮することなしに、ガス供給路からガス処理された液体に突出するガスランスの上端部で途切れている。ガスランスは、追加的に、覆い側開口部を備えていていることも、もちろん、本発明による範囲内である。さらに、流れ断面で拡散型に拡大するガス排気口で、ガスランスの端部を実装することに利点がある。

記載されたガス処理装置は、特に、浸水動作で使用される薄膜設備のために意図されている。薄膜設備として使用される間、少なくとも１つのガスランスは、好ましくは、中空繊維膜によって取り囲まれており、この中空繊維膜の束は、ヘッド部の一開口端部で埋め込まれ、かつ、ガス供給路から隔てられた浸透収集室に向かっている。

本発明による装置は、好ましくは、ガス供給路に接続された複数のガスランスを備えており、どのガスランスも上記のように実装されている。特に好ましい実施例では、装置は、ガスランスを備えた個々の部位から組み立てられ、個々の部位は、それぞれ上記のように実装されていいる。

上記のように、本発明は、単に例示的な実施例を記載した図面を基に説明されている。

図１a〜図１gは、本発明によるガス処理装置の実施例を部分図で図示している。 本発明による異なる動作状態でのガス処理装置の一部を図示している。 本発明による異なる動作状態でのガス処理装置の一部を図示している。 本発明による異なる動作状態でのガス処理装置の一部を図示している。 図２から図４の拡大図で、本発明による装置の詳細を図示している。 図４で図示された事柄の更なる実施例を図示している。 図７a〜図７cは、図６で図示された事柄の異なる実施例を図示している 浸水動作で使用される薄膜設備のための薄膜モジュールでのガス処理装置の使用を図示している。 図９a〜図９c は、薄膜モジュールでのガス処理の代替の実施例を図示している。 低ガス流での本発明によるガス装置のポンプ効果に関する図表を図示している。

図１ａから図１ｇを通じて、ガス供給路２と、ガス処理動作でガス流が排出するガス供給路２に接続されている少なくとも１つのガスランス３とを備えたガス処理された液体１の本発明による装置の実施例を詳細に示す。すべての装置は、好ましくは、同様に実行される更なるガスランス３（図示せず）を備えている。ガスランス３は、垂直に上方に伸び、かつ、締め付けたり、キャップをすることなしにガス供給路２から突き出る開端部４を備えている。ガスランス３は、接続路５を介してガス供給路２に接続されており、その接続路５は、スロットルとして、ガスランス３に流入するガス流の流れ圧力損失を生成し、かつ、唯一のガスランス３は、いつも接続路５に接続されている。接続路５は、第１のマウス領域８を使用することでガスランス３に、かつ、第２のマウス領域８’を使用することでガス供給路２に接続しており、ガスランス３は上方に伸び、かつ、延長部６が第１のマウス領域８から下方に伸びている。ガスランス３に隣接する延長部６は、第１のマウス領域８の下方に開口部７を備えている。図１ａと図１ｂに示された実施例では、第１のマウス領域８は、第２のマウス領域８’の下方に位置している。本発明における装置が動作した場合、ガス供給路２で集められる液体１が完全に除去されることを保証している。図１ｃで示される実施例では、接続路５はガス供給路２に突出しており、第２のマウス領域８’はガス供給路２の底の上に位置している。もし、液体１がガス供給路２で集められたなら、液体１は、動作中、第２のマウス領域８’の下方のガス供給路２に残るはずである。これは、ガス供給路２の底で集められた混入物質を接続路５に届くのを妨げている。図１ｄは、接続路５が第２のマウス領域８’を使用するガス供給路の頂上に隣接し、上方へ第１のマウス領域８に通じており、ガスランス３及び延長部６がガス供給路２の上方に位置している。図１ｅに示される実施例では、接続路５が上からガス供給路２へ突出している。もしガス供給路２が動作中に完全に液体１で満たされたなら、この液体は、第２のマウス領域８’の高さまで、ガス供給路２からまず取り除かれ、実際は、ガス処理がすべてのガスランス３で同時に開始し、その後、複数のガスランスを持つ構造で開始する。

図１ｆ及び図１ｇから参照されるように、接続路５は、傾斜して曲がった経路を持っている。収集された液体１の完全の除去は、ガスランス３、延長部６、及び、第１のマウス領域８が、ガス供給路２の上に設置されるが、本発明による装置が動作中に保証される。

スロットル部９が、図１ａの実施例の接続路で供給されているが、図１ｂに示される接続路５は、ガスランス３の断面より小さく、かつ、ガスランス３に流入するガス流の流れ圧力損失を生成するスロットル部を全長にわたって備えている。図１ｂの実施例では、ガスランス３及び延長部６は、接続路５からスタートする線形チューブ区域、つまり、上に伸びるガスランス３、及び、下に伸びる延長部６として実行される。延長部６は、継続して等しい切断面を備えたガスランス３と繋がっていて、示された実施例は、例え設置された状態でさえ、ブラシや圧力ジェットを使用して洗浄することが容易である。

図に示された装置は、ガス処理された液体のために使用される。装置の基本構造は、ガス供給路２と、ガス供給路２と接続され、ガス流がガス処理動作でいっせいに排出する複数のガスランス３を備えている。装置は液体１より低い位置にあり、ガス供給路２は、本質的に水平に設置されている（図２から図４）。ガスランス３は、垂直に上方に伸び、キャップなしにガス供給路２から突出する終端４でガス化された液体１で自由に放出される。ガス供給路２は、ガス供給路から枝分かれし、カバー１１によって終端で閉じられる接続部１０を備え、カバー１１は延長部６を形成している。ガスランス３は接続部１０の受液室１２に向かって上方に伸びており、接続路５のスロット部９は、受液室１２で浸水してガスランス３の終端に備えられており、ガスランス３に入るガス流の流れ圧力損失を生成している。開口部７は、接続部１０に接して位置するカバー１１に備えられていることは、図２から図９ｃの図からもわかり、接続部１０は、スロットル部９の後の延長部６の流れ室１４に放出している。カバー１１は、取り外し可能で接続部１０に接続されている。
カバーの取り外し後、スロットル部９はアクセスすることができ、かつガスランス３は、簡単に洗浄することが可能である。洗浄も開口部７を通じて可能である。

図２は、装置がガス化された液体１より低くなった後の動作中の装置を示している。ガス供給路２は、液体１’を含んでおり、液体１は、頂部が開口しているガスランス３の中を通ってガス室に侵入している。ガス供給路２はいま圧力と作用して、ガス流が供給されている。圧力の下に供給されたガス流またはエアフローは、ガス供給路２から液体１’を追い出している。液体１’は接続部１０に接続している底部に流れ、かつ、頂部が開口しているガスランス３の開口部７と通じて装置から排出している。

液体１’が接続部１０の受液室１２から排出する場合、図３で示された動作状態が簡潔に示されている。ガス流は、スロットル部９を通って流れ、かつ、ガスランス３の内側の液体柱１５を排出させている。ガス流の一部は、カバー側の開口部７を通じて、短い振動の形態で排出する。液体柱１５がガスランス３から排出されてすぐ、図４に示される動作状態が起きる。全てのガス流がガスランス３を通って上方に流れ、同量のガス流がガスランス３内で生じる。示された動作モードでは、ガスは、カバー６の底部開口部７で排出されない、なぜならば、カバー側開口部での液体圧力が、ガスランス３の端部４に伸びている上部出口側での液体圧力よりおおきいからである。定義された同じ圧力状態が、カバー側開口部７から全てのガスランス３で生じ、同じガス量の流れを使うことで起きる平行に取り付けられたガスランス３を通じて流れが生じる。

カバー１１は、キャップや挿入物として実行され、例えば、ねじ接続部１６によって、接続部１０に取り外し可能に接続されている。図５で示された実施例では、カバー１１は環状ギャップ１８を使用するガスランス３の端部１３を取り囲む内部表面１７を備えており、それらは、スロットル部９を形成する。カバー１１も、ガスランス３の端部１３に対向するくぼみを備えていて、かつ、カバー１１は、流れを静める部屋１９を形成している。カバー側開口部７は、流れを静める部屋１９につながっている。

図６の実施例では、２つのバルブ部２０、２１を備えるスロットルバルブ２２が、接続部１０とガスランス３によって範囲を定める環状の部屋の各々に配置されている。第１のバルブ部２０は、ガスランス３の端部１３に配置され、ガスランス３と接続部１０の間の環状部屋を作り、かつ、ガス通過開口部２３を備えている。第２のバルブ部２１は、ガス通過開口部２３と共に作用し、かつ、カバー１１と第１のバルブ部２０の間の環状部屋において配置されているバブル座部２４を備えている。第２のバルブ部２１は、スロットル部９の背後で流れを静める部屋１９を形成する通路を含んでいる。バルブ座部２４は、円錐、又は、凹の座部表面として実行されていることが、図７a〜図７cと同様に図６からわかる。第１のバルブ部２０は、ガス通路開口部２３のような境界線の周りに分配された複数の軸方向の穴を備えており、ガス通路開口部２３は、ガスランス３の端部を環状に取り囲む流れ部屋１４に排出する。流れ部屋１４は、第２のバルブ部２１の座部と共に、スロットル部９を形成している。第１のバルブ部２０は、ガスランス３にガスを流すための、ノズル形状の圧縮するガス注入口２５も備えている。図７cの実施例では、スロットル部９の背後で流れを静める部屋１９を形成する第２のバルブ部２１の通路は、カバー１１で、開口部７と一直線となっている。

カバー１１に位置する延長部６の開口部７は、好ましくは、ガスランス３の流れ断面の０．５倍から２倍に一致する断面を持っている。実施例では、カバー側の開口部７の断面とガスランス３の流れ断面は、ほぼ等しい大きさとなっている。

排出側のガスランス３の突き出た端部４は、図２から８の実施例における、本発明の好ましい実施例によると、拡散器タイプの拡張部２６を備えている。

ガス処理装置は、浸水動作で使われている薄膜設備のために適している。薄膜設備は、薄膜束、薄膜板、又は、他の薄膜要素を備えており、薄膜の先端、又は、薄膜束の内部でガス処理し、かつ、薄膜を洗浄してから、ガスが上昇している。排出側のガスランス３の突き出た端部４は、中空繊維膜の束２７によって示される実施例で取り囲まれていて、この中空繊維膜の束２７は、ヘッド部２８で１つの開口端にはめ込まれ、かつ、ガス供給路２から隔てられた浸透収集室２９に排出している。図８で示されるようなユニットは、配置又は薄膜モジュール３０に組み立てられ、そこで、本発明のように実行されるガス処理ユニットが一体化される。

図９aから図９cは、薄膜モジュール３０での本発明によるガス処理装置の代替の実施例の詳細を示している。図９aで示される実施例では、カバー１１は、接続部１０に挿入され、かつ、バイオネット留め具で固定されている。接続路５は、カバー１１で形成され、その結果、接続路５の断面は、特に、好ましく、不正に取り付けることによって変化しない。カバー１１によって形成される延長部６は、直接ガスランス３に隣接し、エラストマーガスケット３２が、ガスランス３とカバー１１の間に提供され、かつ、接続部１０とカバー１１を接続している。図９bと図９cは、カバー１１が接続部１０の上にねじ込まれる実施例を示している。接続路５は、図９bの実施例では、本質的には、カバー１１で形成されるが、図９cの実施例は、カバー１１とガスランス３の間にスロットル部９を備えている。

ガス処理装置の通常動作の間、開口部７を備える延長部６で、圧力クッションが形成され、
その圧力クッションは、割り当てられたガスランス３での圧力状況を決定している。しかし、小さな流量で、液体１がガスランス３を通って、ガス流と共に上昇する。本発明による装置の排気効果は図１０で示され、装置によって運ばれる液体１の量が、ガス流の流量の関数として示されている。

Claims (15)

1. ガス処理される液体（１）のための、かつ浸水動作で使用される薄膜設備のための装置であって、
   ガス供給路（２）と、
   ガス処理動作でガス流を排出する少なくとも１つのガスランス（３）とを備え、
   ガスランス（３）は、ガスランス（３）の側面にある第１のマウス領域（８）と、ガス供給路（２）の側面にある第２のマウス領域（８’）とを備えた少なくとも１つの接続路（５）によって、ガス供給路（２）に接続され、かつ、前記接続路（５）は、スロットルとして、ガスランス（３）に入り込むガス流の流れ圧力損失を生成し、
   第１のマウス領域（８）の下方に延長部（６）を備え、
   この延長部（６）は、ガスランス（３）に隣接し、かつ、第１のマウス領域の下方に、液体（１）を排出する開口部（７）を備えることを特徴とする装置。
2. 請求項１に記載の装置において、
   接続路（５）は、スロットル部（９）を備えるか、又は、ガスランス（３）の断面より小さい断面を、その全長にわたって備えることを特徴とする装置。
3. 請求項１又は２に記載の装置において、
   第２のマウス領域（８’）は、ガス供給路（２）の底に配置されていることを特徴とする装置。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の装置において、
   接続路（５）は、ガス供給路（２）に取り付けられた接続部（１０）によって供給され、
   ガスランス（３）は、接続部（１０）の受液室（１２）に伸び、かつ、
   カバー（１１）は、接続部（１０）下端を覆うとともに、底で開口し、かつ、延長部（６）を形成することを特徴とする装置。
5. 請求項４に記載の装置において、
   接続路（５）はスロットル部（９）を備え、このスロットル部（９）は、受液室（１２）に挿入しているガスランス（３）の下方端部（１３）部分とカバーによって形成されることを特徴とする装置。
6. 請求項５に記載の装置において、
   カバー（１１）は、内部表面（１７）を備え、
   この内部表面（１７）は、環状ギャップ（１８）を備えたガスランス（３）の端部（１３）を取り囲み、
   この環状ギャップ（１８）がスロットル部（９）を形成することを特徴とする装置。
7. 請求項４乃至６のいずれかに記載の装置において、
   カバー（１１）は、ガスランス（３）の端部（１３）に対向し、かつ、延長部（６）の流れを静める部屋（１９）を形成するくぼみを備え、
   カバー側開口部（７）は、流れを静める部屋（１９）につながっていることを特徴とする装置。
8. 請求項４に記載の装置において、
   スロットルバルブ（２２）は、接続部（１０）とガスランス（３）によって区分された環状部屋に位置する２つのバルブ部（２０、２１）を備え、
   この２つのバルブ部が組み合わされてスロットル部（９）を形成し、
   第１のバルブ部（２０）は、ガスランス（３）の下方端部（１３）部分に位置し、かつ、ガス通路開口部（２３）を持つのと同様に、ガスランス（３）と接続部（１０）の間の環状部屋を橋渡し、かつ、
   第２のバルブ部（２１）は、ガス通路開口部（２３）と共に機能するバルブ座部（２４）を備え、かつ、カバー（１１）と第１のバルブ部（２０）の間の部屋に位置していることを特徴とする装置。
9. 請求項８に記載の装置において、
   第２のバルブ部（２１）は、通路を備え、
   この通路は、スロットル部（９）の背後に、延長部（６）の流れを静める部屋（１９）を形成し、かつ、カバー（１１）の開口部（７）と一直線につながっていることを特徴とする装置。
10. 請求項１乃至９のいずれかに記載の装置において、
    ガスランス（３）は、ガス供給路（２）の中を貫通し、ガス供給路（２）の上部に突出することを特徴とする装置。
11. 請求項１０に記載の装置において、
    ガスランス（３）は、ガス供給路（２）から突出するガスランス（３）の上端部で、拡散器タイプの拡張部（２６）を備えることを特徴とする装置。
12. 請求項１乃至１１のいずれかに記載の装置において、
    ガスランス（３）は、中空繊維膜の束（２７）によって取り囲まれ、
    この中空繊維膜の束（２７）は、ヘッド部（２８）の一端部で埋め込まれ、かつ、ガス供給路（２）から隔てられた浸透収集室（２９）に向かっていることを特徴とする装置。
13. 請求項１乃至１２のいずれかに記載の装置において、
    延長部（６）は、ガスランス（３）の真下に設けられ、延長部（６）及びガスランス（３）は、同一の断面を備えていることを特徴とする装置。
14. 請求項１乃至１２のいずれかに記載の装置において、
    ガスランス（３）、及び／又は、延長部（６）は、少なくともある部分で、円錐状の経路を備えていることを特徴とする装置。
15. 請求項１乃至１４のいずれかに記載の装置において、
    複数のガスランス（３）は、ガス供給路（２）に接続され、
    このガス供給路（２）から、ガス流がガス処理時と同時に排出し、ガスランス（３）はそれぞれ、少なくとも１つの分離した接続部（５）を介して、ガス供給路（２）に接続され、
    接続路（５）は、スロットルのように、ガスランス（３）に入り込むガス流の流れ圧力損失を生成し、かつ、延長部（６）は、それぞれの接続路（５）の下方に備えられ、
    この延長部（６）は、割り当てられた接続路（５）の下方に開口部（７）を備え、かつ、割り当てられたガスランス（３）と隣接することを特徴とする装置。

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