JP2010503529A5

JP2010503529A5 -

Info

Publication number: JP2010503529A5
Application number: JP2009528632A
Authority: JP
Filing date: 2007-09-17
Publication date: 2012-03-22
Anticipated expiration: 2027-09-17

Description

本発明による装置の更なる実施例は、ガス供給路に付着した接続部を備えている。ガスランスは、接続部の受液室に上方に伸びており、カバーは接続部上に位置しており、カバーは、底が開いており、延長部を構成している。カバーは、接続部に挿入され、接続路は、好ましくは、カバー内に形成されている。カバーは接続部上に位置していても良い。少なくとも１つのガスランスは、好ましくは、接続部の受液室に伸びており、接続部によって定義される接続路は、受液室に繋がるガスランスの端部でスロットル部を備えている。本発明による装置の複数の有効な構造的な改良点は、実施例のような構造である。

カバーは、スロットル部を形成する環状ギャップを持ったガスランスの端部を取り囲む内部面を備えている。カバーは、好ましくは、ガスランスの端部に対向するくぼみを備え、かつ、延長部の流れを静める部屋を形成している。カバー側開口部は、流れを静める部屋につながっている。

スロットル部９が、図１ａの実施例の接続路で供給されているが、図１ｂに示される接続路５は、ガスランス３の断面より小さく、かつ、ガスランス３に流入するガス流の流れ圧力損失を生成するスロットル部を全長にわたって備えている。図１ｂの実施例では、ガスランス３及び延長部６は、接続路５からスタートする線形チューブ区域、つまり、上に伸びるガスランス３、及び、下に伸びる延長部６として実行される。延長部６は、継続して等しい切断面を備えたガスランス３と繋がっていて、示された実施例は、例え設置された状態でさえ、ブラシや圧力ジェットを使用して洗浄することが容易である。

図に示された装置は、ガス処理された液体のために使用される。装置の基本構造は、ガス供給路２と、ガス供給路２と接続され、ガス流がガス処理動作でいっせいに排出する複数のガスランス３を備えている。装置は液体１より低い位置にあり、ガス供給路２は、本質的に水平に設置されている（図２から図４）。ガスランス３は、垂直に上方に伸び、キャップなしにガス供給路２から突出する終端４でガス化された液体１で自由に放出される。ガス供給路２は、ガス供給路から枝分かれし、カバー１１によって終端で閉じられる接続部１０を備え、カバー１１は延長部６を形成している。ガスランス３は接続部１０の受液室１２に向かって上方に伸びており、接続路５のスロット部９は、受液室１２で浸水してガスランス３の終端に備えられており、ガスランス３に入るガス流の流れ圧力損失を生成している。開口部７は、接続部１０に接して位置するカバー１１に備えられていることは、図２から図９ｃの図からもわかり、接続部１０は、スロットル部９の後の延長部６の流れ室１４に放出している。カバー１１は、取り外し可能で接続部１０に接続されている。
カバーの取り外し後、スロットル部９はアクセスすることができ、かつガスランス３は、簡単に洗浄することが可能である。洗浄も開口部７を通じて可能である。

液体１’が接続部１０の受液室１２から排出する場合、図３で示された動作状態が簡潔に示されている。ガス流は、スロットル部９を通って流れ、かつ、ガスランス３の内側の液体柱１５を排出させている。ガス流の一部は、カバー側の開口部７を通じて、短い振動の形態で排出する。液体柱１５がガスランス３から排出されてすぐ、図４に示される動作状態が起きる。全てのガス流がガスランス３を通って上方に流れ、同量のガス流がガスランス３内で生じる。示された動作モードでは、ガスは、カバー６の底部開口部７で排出されない、なぜならば、カバー側開口部での液体圧力が、ガスランス３の端部４に伸びている上部出口側での液体圧力よりおおきいからである。定義された同じ圧力状態が、カバー側開口部７から全てのガスランス３で生じ、同じガス量の流れを使うことで起きる平行に取り付けられたガスランス３を通じて流れが生じる。

カバー１１は、キャップや挿入物として実行され、例えば、ねじ接続部１６によって、接続部１０に取り外し可能に接続されている。図５で示された実施例では、カバー１１は環状ギャップ１８を使用するガスランス３の端部１３を取り囲む内部表面１７を備えており、それらは、スロットル部９を形成する。カバー１１も、ガスランス３の端部１３に対向するくぼみを備えていて、かつ、カバー１１は、流れを静める部屋１９を形成している。カバー側開口部７は、流れを静める部屋１９につながっている。

Claims

請求項１に記載の装置において、
接続路（５）は、スロットル部（９）を備えるか、又は、ガスランス（３）の断面より小さい断面を、その全長にわたって備えることを特徴とする装置。
請求項１乃至３のいずれかに記載の装置において、
接続路（５）は、ガス供給路（２）に取り付けられた接続部（１０）によって供給され、
ガスランス（３）は、接続部（１０）の受液室（１２）に伸び、かつ、
カバー（１１）は、接続部（１０）上に位置し、カバー（１１）は、底で開口し、かつ、延長部（６）を形成することを特徴とする装置。
請求項４に記載の装置において、
接続路（５）は、受液室（１２）に挿入しているガスランス（３）の端部（１３）に、スロットル部（９）を備えることを特徴とする装置。
請求項４乃至６のいずれかに記載の装置において、
カバー（１１）は、ガスランス（３）の端部（１３）に対向し、かつ、延長部（６）の流れを静める部屋（１９）を形成するくぼみを備え、
カバー側開口部（７）は、流れを静める部屋（１９）につながっていることを特徴とする装置。