JP5047883B2 - 吸着盤 - Google Patents

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Description

本発明は、特に、液晶パネル、プラズマディスプレイパネルなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造や検査に利用されるステージ装置でワークの載置に利用される吸着盤に関するものである。
従来、このような分野の技術として、特開2002−280444号公報がある。この公報に記載された吸着装置は、上下両面が所定の平面度(例えば10μm程度)及び平行度を持つように作られ、上面側に開口した複数の吸着用の穴を有する吸着盤と、吸着盤の下側に配置され、吸着盤の複数の穴に連通する吸引用通路を持つ金属製の吸着ボックス体と、与圧をかけるための複数の与圧機構とを備えている。吸着盤は、温度変化に伴う熱膨張や剛性の確保のために、極めて重量のある特殊な石を利用している。なお、吸着盤が鋼材により形成される場合もあるが、石材又は鋼材よりなる吸着盤は、いずれも実質的に中実である。
特開2002−280444号公報
フラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体の製造、検査、加工に利用される大型のステージ装置では、石材を使った定盤が一般的に使われている。しかしながら、ガラス基板の大型化に伴って吸着盤を大型化させなければならないので、重量アップに伴う支持構造の強化のために装置が大型化、煩雑化し、重量アップによって駆動部への負担が大きくなっている。
本発明は、軽量化がなされた吸着盤を提供することを目的とする。
本発明に係る吸着盤は、ステージ装置に搭載される吸着盤において、上部と底部と側部とで中空状に形成された吸着盤本体部と、吸着盤本体部内に配置されると共に、上部を支持する補強部と、吸着盤本体部の上面に設けられた吸着部と、を備え、上部と底部と側部との少なくとも一つは、CFRP板により形成され、補強部は、CFRP板により形成され、吸着盤本体部の内部には、吸着盤本体部の上面に設けられたリフトピン孔に連通するリフトピン用パイプが配置されており、リフトピン用パイプは、リフトピン用パイプの内部を通過するリフトピンが吸着盤本体部内で露出しないように上部と底部との間で鉛直方向に延在していることを特徴とする。
ステージ装置で利用される吸着盤は、その上面にワークを吸着させるための吸着部を備えている。さらに、この吸着盤の吸着盤本体部は、上部と底部と側部とで中空状に形成されているので、軽量化が達成され、中空状の吸着盤の強度をアップさせるために、内部に補強部が配置されている。
また、上部と底部と側部との少なくとも一つは、CFRP板により形成されていると好適である。
CFRP(炭素繊維強化プラスチック)板は、軽量でしかも剛性が高いので、吸着盤を中空状に形成するのに最適であり、特に、上部と底部と側部を全てCFRP板で構成すると、吸着盤本体部を接着剤により組み立てることができるので、組立てが容易であると同時に、吸着盤を大型化させ易いといった優れた効果を有する。
また、補強部は、CFRP板により形成されていると好適である。
補強部をCFRP(炭素繊維強化プラスチック)板にすることで、軽量化及び剛性のアップを図ることができる。
また、吸着盤本体部の内部には、上部と底部との間で鉛直方向に延在して、吸着盤本体部の上面に設けられたリフトピン孔に連通するリフトピン用パイプが配置されていると好適である。
吸着盤本体部は中空であるため、この空間をリフトピンが通過すると、リフトピンの表面に、吸着盤本体部内で浮遊する塵が付着したり、リフトピン孔から塵が排出される虞がある。このような事態が起こると、吸着盤の上面に載置されたワークに塵が付着する虞がある。そこで、本発明に係る吸着盤では、リフトピンが吸着盤本体部の内部で露出しないようにリフトピン用のパイプが設けられている。
また、底部には、作業用開口部が形成されていると好適である。
この作業用開口部は、例えば、配管の連結作業に有利であることは言うに及ばす、気体漏れチェックやメンテナンス時の配管の着脱を容易にしている。
また、吸着部は、溝状に形成されていると好適である。
吸着盤本体部の上面に、例えば格子状の溝を形成することで、少ない配管でワークの吸着が可能になる。
本発明によれば、軽量化が可能になる。
以下、図面を参照しつつ本発明に係る吸着盤の好適な実施形態について詳細に説明する。
図1及び図2に示すように、フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造や検査に利用される大型のステージ装置1は、ベース2上に並設されてY軸方向に延在する一対の石定盤3,4と、石定盤3,4に沿ってY軸方向へ移動するY軸ステージ6と、Y軸ステージ6の駆動部として機能する一対のY軸リニアモータ7,8と、Y軸ステージ6上でX軸方向へ移動するX軸ステージ9と、X軸ステージ9の駆動部として機能するX軸リニアモータ(図示せず)と、石定盤3,4上でエアベアリング5によって支持されると共に、X軸ステージ9の上方に配置されて、多数の吸引孔が設けられた吸着盤40とを備えている。
一方の石定盤3は、角柱状の石材からなり、その上面には平面加工が施されることによって、Y軸ステージ6のY軸リフトエアベアリング14が滑走するための上面側滑走面3aが形成されている。また、Y軸方向に沿って延在する石定盤3の両側面にも、上面側滑走面3aと同様に平面加工が施されることによって、Y軸ステージ6のY軸ヨーエアベアリング17が滑走するための側面側滑走面3b,3cが形成されている。同様に、他方の石定盤4の上面及び両側面にも、平面加工が施されることによって上面側滑走面4a及び側面側滑走面4b,4cが形成されている。
石定盤3,4上を滑走するY軸ステージ6は、石定盤3,4にガイドされながらそれぞれY軸方向へ移動する一対のY軸スライダ12,13と、Y軸スライダ12,13を石定盤3,4の上面側滑走面3a,4aに対して非接触状態でそれぞれZ軸方向に支持するためのY軸リフトエアベアリング14と、Y軸スライダ12,13を石定盤3,4の側面側滑走面3b,3c,4b,4cに対して非接触状態でそれぞれ水平方向に支持するためのY軸ヨーエアベアリング17と、Y軸スライダ12,13に固定されて、Y軸スライダ12,13を架け渡すようにX軸方向へ延在するガイド部材19とを備えている。
Yスライダ12,13上に配置されたX軸ステージ9は、ガイド部材19に沿ってX軸方向へ移動するX軸スライダ33と、X軸スライダ33を石定盤3,4の上面側滑走面3a,4aに対して非接触状態でそれぞれZ軸方向に支持するためのX軸リフトエアベアリング(図示せず)と、X軸スライダ33を水平方向に支持するためのX軸ヨーエアベアリング(図示せず)と、X軸スライダ33と吸着盤40との間に配置されて、吸着盤40をZ軸周りに回動させると共にZ軸方向に昇降させるθテーブル37とを備えている。なお、Xスライダ33を石定盤3,4上で滑走させるために、前述したX軸リフトエアベアリング(図示せず)は、Y軸スライダ12,13に設けられた長穴21,22を上下に貫通している。
図3に示すように、吸着盤40は、板材によって構成された上部41と底部42と側部43とで中空状をなす吸着盤本体部45を有し、上部41、底部42及び側部43は、例えば、CFRP(炭素繊維強化プラスチック)板や鋼板等で形成されている。この吸着盤本体部45の内部に配置された補強部には、格子状の補強リブやハニカム構造が採用され、吸着盤本体部45の反り、撓み、捻れ、潰れ等を防止している。そして、この補強部は、CFRP板、鋼板、アルミ板などにより形成されている。
さらに、吸着盤本体部45の上面45aには、多数のリフトピン孔47が設けられている。吸着盤本体部45の内部には、上部41と底部42との間で鉛直方向に延在して、リフトピン孔47に連通するリフトピン用パイプが配置されている。
吸着盤本体部45の上面45aには、格子状の溝をなす吸着部46が形成され、溝の交差部分には吸引孔が設けられている。上部41の裏面には、吸着部46の吸引孔に連結される配管コネクタ部が固定され、底部42には、この配管コネクタ部を覗き見る位置に作業用開口部が形成されている。なお、この配管コネクタ部には、吸着盤40から導出されて真空ポンプに連結されている配管の端部が接続される。
前述した吸着盤40は、大型(例えば、縦2m以上、横2m以上)であり、説明を容易にするために、吸着盤40の構造を簡略化した吸着盤40Aで、吸着盤40の基本構成を更に詳細に説明する。
図4、図5及び図6に示すように、吸着盤40Aは、矩形のCFRP(炭素繊維強化プラスチック)板によりなる上部41Aと底部42Aと側部43Aとで中空状に形成された筺型の吸着盤本体部45Aを有している。吸着盤本体部45Aは、1枚の上板と1枚の底板と4枚の側板とを互いに接着剤により接着させることで構成される。
この吸着盤本体部45Aの内部に配置された補強部50は、CFRP板により十字状に形成され補強リブ50aと、CFRP板により中空状に形成され補強柱50bとからなり、吸着盤本体部45Aの反り、撓み、捻れ、潰れ等を防止している。このように、筺状の吸着盤本体部45Aは、中空状に形成されているので、軽量化が達成されている。
また、CFRP(炭素繊維強化プラスチック)板は、軽量でしかも剛性が高いので、吸着盤40Aを中空状に形成するのに最適であり、特に、上部41Aと底部42Aと側部43Aとを全てCFRP板で構成すると、吸着盤本体部45Aを接着剤のみで組み立てることができるので、組立てが容易であると同時に、吸着盤40Aを大型化させ易いといった優れた効果を有する。全てCFRPで構成すると、線膨張係数の差に起因する変形で吸着盤の平面度の影響を最小限に抑えることができる。
さらに、吸着盤本体部45Aの上面45aAには、複数のリフトピン孔47Aが設けられている。吸着盤本体部45Aの内部には、上部41Aと底部42Aとの間で鉛直方向に延在して、リフトピン孔47Aに連通するリフトピン用パイプ51が配置されている。このパイプ51の上端は上部41Aに接着剤で固定されている。
吸着盤本体部45Aは中空であるため、この空間をリフトピンPが通過すると、リフトピンPの表面に、吸着盤本体部45A内で浮遊する塵が付着したり、リフトピン孔47Aから塵が排出される虞がある。このような事態が起こると、吸着盤40Aの上面45aAに載置されたワーク(例えばガラス基板)に塵が付着する虞がある。そこで、この吸着盤40Aでは、リフトピンPが吸着盤本体部45Aの内部で露出しないようにリフトピン用のパイプ51が採用されている。パイプ51の内面は発塵しないものが適用されている。
さらに、吸着盤本体部45Aの上面45aAには、格子状の溝をなす吸着部46Aが形成され、吸着部46Aの直線的な溝52の交差部分には、上部41Aを貫通する吸引孔53が形成されている。上部41Aの裏面には、各吸引孔53に連結される配管コネクタ部54が固定されている。底部42Aには、この配管コネクタ部54を覗き見る位置に作業用開口部55が形成されている。なお、この配管コネクタ部54には、吸着盤40Aから導出されて真空ポンプに連結されている配管56の端部が接続される。
作業者の手が入る程度の大きさをもった円形の作業用開口部55が、配管コネクタ部54を覗き見る位置に形成されているので、配管56の連結作業に有利であることは言うに及ばす、気体漏れチェックやメンテナンス時の配管56の着脱を容易にしている。また、格子状に配列された溝52によって、少ない配管56でワークの吸着が可能になる。なお、吸着部46Aが、多数の吸引孔のみで構成される場合もある。
本発明は、前述した実施形態に限定されないことは言うまでもない。例えば、筺状をなす吸着盤本体部の形状は、円筒状などであってもよく、上部と底部と側部の少なくとも1枚がCFRPであればよい。また、側部の表面が段状に形成されてもよい。また、吸引部は、格子状を形成する線状の凸部と、凸部によって囲まれた領域内に配置された吸引孔とから構成されてもよい。また、パイプ51は、上部41,41Aの補強部材として利用することもできる。
本発明に係る吸着盤が適用されたステージ装置の一実施形態を示す斜視図である。 吸着盤を外した状態のステージ装置を示す斜視図である。 本発明に係る吸着盤の一実施形態を示す斜視図である。 本発明に係る吸着盤を説明のために簡略化して示した斜視図である。 図4のV−V線に沿う断面図である。 図4のVI−VI線に沿う断面図である。
符号の説明
1…ステージ装置、40,40A…吸着盤、41,41A…上部、42,42A…底部、43,43A…側部、45,45A…吸着盤本体部、45a,45aA…上面、46,46A…吸着部、47,47A…リフトピン孔、50…補強部、51…リフトピン用パイプ、52…溝、53…吸引孔、54…配管コネクタ部、55…作業用開口部、56…配管。

Claims (3)

  1. ステージ装置に搭載される吸着盤において、
    上部と底部と側部とで中空状に形成された吸着盤本体部と、
    前記吸着盤本体部内に配置されると共に、前記上部を支持する補強部と、
    前記吸着盤本体部の上面に設けられた吸着部と、を備え
    前記上部と前記底部と前記側部との少なくとも一つは、CFRP板により形成され、
    前記補強部は、CFRP板により形成され、
    前記吸着盤本体部の内部には、前記吸着盤本体部の前記上面に設けられたリフトピン孔に連通するリフトピン用パイプが配置されており、
    前記リフトピン用パイプは、前記リフトピン用パイプの内部を通過するリフトピンが前記吸着盤本体部内で露出しないように前記上部と前記底部との間で鉛直方向に延在していることを特徴とする吸着盤。
  2. 前記底部には、作業用開口部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の吸着盤。
  3. 前記吸着部は、溝状に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の吸着盤。
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