JP5033268B1 - 足裏用マッサージ器 - Google Patents

Abstract

【課題】マッサージローラが加熱されることによる不快感を解消できるとともに足裏を適度に温めながら消費エネルギを低く抑えることができる足裏用マッサージ器を提供する。
【解決手段】足裏用マッサージ器１００は、被施術者の足裏におけるつま先側に配置される第１マッサージローラ１１０と踵側に配置される第２マッサージローラ１２０との間に足裏を温めるための足温ヒータ１３０を備えている。第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０は、各外周面から突出した状態で複数の施術用突起１１３，１２３を備えている。足温ヒータ１３０は、フィルム上に形成されており、第１マッサージローラ１１０の施術用突起１１３の上端部に対して若干低い位置に設けられている。また、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０と足温ヒータ１３０とは、それぞれ手の指の太さ以上の隙間Ｓ１を介して配置されている。
【選択図】 図３

Description

本発明は、被施術者の足裏をマッサージする足裏用マッサージ器に関する。

従来から、被施術者の足裏を温めながらマッサージすることができる足裏用マッサージ器がある。例えば、下記特許文献１には、被施術者の足裏をマッサージするための複数のマッサージローラを回転自在に支持するとともに、これらのマッサージローラの下方に足裏を温めるための発熱体を配置した足裏用マッサージ器が開示されている。

実開平０７−２７５５７号公報

しかしながら、上記特許文献１に記載された足裏用マッサージ器においては、被施術者の足裏を温める発熱体が複数のマッサージローラの下方に配置されているため、マッサージローラが加熱されて被施術者が不快に感じることがあるとともに足裏以外の部分の加温のために消費エネルギが大きいという問題があった。

本発明は上記問題に対処するためなされたもので、その目的は、マッサージローラが加熱されることによる不快感を解消できるとともに足裏を適度に温めながら消費エネルギを低く抑えることができる足裏用マッサージ器を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の特徴は、被施術者の足裏をマッサージする足裏用マッサージ器であって、回転駆動する棒状体の表面に被施術者の足裏をマッサージするための施術用突起を有した第１マッサージローラと、第１マッサージローラに対して施術者の足長を超えない範囲の間隔を介した位置に配置されて回転駆動する棒状体の表面に施術用突起を有した第２マッサージローラと、第１マッサージローラと第２マッサージローラとの間に配置されて被施術者の足裏を温めるための足温ヒータとを備え、足温ヒータは、熱を発する発熱部が少なくとも第１マッサージローラおよび第２マッサージローラのうちで上端部の高さが低い方の第１マッサージローラまたは第２マッサージローラにおける回転中心軸以上の高さ位置に配置されていることにある。

このように構成した本発明の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、被施術者のつま先側に配置される第１マッサージローラと、同被施術者の踵側に配置される第２マッサージローラとの間に足裏を温めるための足温ヒータを備えて構成されている。そして、この場合、足温ヒータは、第１マッサージローラおよび第２マッサージローラのうちで上端部の高さが低い方の第１マッサージローラまたは第２マッサージローラにおける回転中心軸以上の高さ位置に配置されている。すなわち、足裏用マッサージ器は、足温ヒータが２つのマッサージローラ間であってかつ被施術者の足裏の直下位置に配置されているため、第１マッサージローラおよび第２マッサージローラが足温ヒータによって加熱されることがないとともに被施術者の足裏を足裏から近い位置で温めることができる。これにより、足裏用マッサージ器は、マッサージローラが加熱されることによる不快感を解消できるとともに足裏を適度に温めながら消費エネルギを低く抑えることができる。

また、本発明の他の特徴は、前記足裏用マッサージ器において、第１マッサージローラおよび第２マッサージローラは、足温ヒータに対してそれぞれ被施術者の指の太さ以上の間隔を介して配置されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、第１マッサージローラおよび前記第２マッサージローラが足温ヒータに対してそれぞれ被施術者の指の太さ以上の間隔を介して配置されているため、第１マッサージローラと足温ヒータとの間や、第２マッサージローラと足温ヒータとの間への手の指や足の指の巻き込みを防止することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記足裏用マッサージ器において、足温ヒータは、可撓性を有するフィルム状に形成されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、足温ヒータが可撓性を有するフィルム状に形成されているため、足温ヒータを一時的または恒久的に湾曲させた状態で足裏用マッサージ器内に設置することができ、足裏用マッサージ器の構成の自由度を向上させることができる。また、この場合、足温ヒータを凸状に湾曲させた状態で設置することにより、加温領域を放射状に広げることができる。また、さらに、足温ヒータは、撓み変形可能に支持されることにより、被施術者の足裏が載置された場合には、この足裏形状に沿って変形することができるため、被施術者の足裏への自然な接触感を得ながら効率よく温めることができる。

また、本発明の他の特徴は、前記足裏用マッサージ器において、さらに、足温ヒータを撓み変形可能な長さだけ張り出させた状態で同足温ヒータを裏面側から支持するためのヒータ支持体を備えていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、足温ヒータを撓み変形可能な長さだけ張り出させた状態で同足温ヒータを裏面側から支持するためのヒータ支持体を備えている。この場合、ヒート支持体は、例えば、足温ヒータの幅よりも短い幅に形成して構成することができる。このため、足温ヒータ上に被施術者の足裏が載置された場合には、足温ヒータの両端部分が撓み変形することにより被施術者の足裏への自然な接触感を得ながら効果的に温めることができる。また、万一、第１マッサージローラと足温ヒータとの間や、第２マッサージローラと足温ヒータとの間に手の指や足の指が入り込んだ場合であっても、足温ヒータが撓み変形することにより手の指や足の指の巻き込みを防止することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記足裏用マッサージ器において、ヒータ支持体は、前記足温ヒータを支持する面が曲面で構成されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、ヒータ支持体における足温ヒータを支持する面が曲面で構成されているため、足温ヒータが撓み変形した場合であってもヒート支持体によって支持されている足温ヒータの裏面の損傷を防止することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記足裏用マッサージ器において、第１マッサージローラは、被施術者の足裏における指の付け根部分に対応する位置に配置されており、第２マッサージローラは、被施術者の足裏における土踏まずに対応する位置に配置されており、足温ヒータは、被施術者の足裏における内側足根小球に対応する位置に配置されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、足裏用マッサージ器は、第１マッサージローラおよび第２マッサージローラが足裏における凹んだ部分である指の付け根部分および土踏まずの部分に配置されているとともに、足温ヒータが指の付け根部分および土踏まずの部分に対して張り出した内側足根小球に対応する位置に配置されている。これにより、足裏用マッサージ器は、回転駆動する第１マッサージローラおよび第２マッサージローラによる被施術者の足の位置ずれを防止しながら内側足根小球を温めることができ、冷え易いつま先部分を効果的に温めることができる。

本発明の一実施形態に係る足裏用マッサージ器の全体構成を斜め前方から概略的に示す正面斜視図である。 図１に示した足裏用マッサージ器の外観および内部構成を説明するために足裏用マッサージ器を上方から見た一部破断平面図である。 図２に示したＡ−Ａ線から見た足裏用マッサージ器の断面図である。 足裏用マッサージ器の作動を制御する制御システムのブロック図である。

以下、本発明に係る足裏用マッサージ器の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明に係る足裏用マッサージ器１００の外観構成の概略を斜め前方から示した前方斜視図である。また、図２は、図１に示した足裏用マッサージ器１００の外観および内部構成を説明するために足裏用マッサージ器１００を上方から見た一部破断平面図である。また、図３は、図２に示したＡ−Ａ線から見た足裏用マッサージ器１００の断面図である。また、図４は、足裏用マッサージ器１００の作動を制御する制御システムのブロック図である。なお、本明細書において参照する各図は、本発明の理解を容易にするために一部の構成要素を誇張して表わすなど模式的に表している。このため、各構成要素間の寸法や比率などは異なっていることがある。この足裏用マッサージ器１００は、被施術者の両足の足裏に対して押圧および加温によるマッサージを行う機械装置である。

（足裏用マッサージ器１００の構成）
足裏用マッサージ器１００は、ベース体１０１を備えている。ベース体１０１は、足裏用マッサージ器１００の底部を構成するとともに足裏用マッサージ器１００における主要な機械的および電気的な各部品を支持する板状の部材であり、硬質の樹脂材料を足裏用マッサージ器１００の幅方向（左右方向）を長辺とする長方形状に形成されている。このベース体１０１の中央部には、足裏用マッサージ器１００の前後方向に沿う箱型に形成された樹脂製の駆動部ケース１０２が設けられているとともに、この駆動部ケース１０２内に駆動モータ１０３およびコントローラ１０４がそれぞれ設けられている。

駆動モータ１０３は、コントローラ１０４によって作動が制御されて後述する第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０を回転駆動する電動機である。この駆動モータ１０３は、図示しない減速ギアを介して第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０にそれぞれ機械的に接続されている。コントローラ１０４は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどからなるマイクロコンピュータによって構成されており、駆動モータ１０３および後述する足温ヒータ１３０の各作動をそれぞれ制御する。具体的には、コントローラ１０４は、被施術者からの指示を操作パネル１０５を介して入力することにより、ＲＯＭなどの記憶装置に予め記憶された制御プログラムを実行することによって駆動モータ１０３および足温ヒータ１３０の各作動をそれぞれ制御する。

操作パネル１０５は、コントローラ１０４に対して被施術者の指示を入力するための入力装置であり、コントローラ１０４に電気的に接続された状態で駆動部ケース１０２の上面上に露出して設けられている。なお、この駆動部ケース１０２内には、家庭用電源から導入した電力を駆動モータ１０３、コントローラ１０４および足温ヒータ１３０にそれぞれ供給するための図示しない電源部なども備えているが、これらについては、本発明に直接関わらないため、その説明は省略する。

第１マッサージローラ１１０は、被施術者の足Ｆの裏側である足裏における指の付け根部分をマッサージするための回転駆動する棒体であり、足裏用マッサージ器１００の前方側に被施術者の両足に対応して駆動部ケース１０２の両側からそれぞれ張り出した状態で設けられている。より具体的には、第１マッサージローラ１１０は、駆動モータ１０３に前記図示しない減速ギアを介して連結される駆動軸１１１上に施術用ローラ１１２が設けられて構成されている。施術用ローラ１１２は、駆動軸１１１の回転駆動によって回転する樹脂製の円筒体であり、被施術者の足裏の幅よりも若干短い長さに形成されるとともに円筒体の外周面上に施術用突起１１３を複数備えて構成されている。なお、図２，３においては、施術者の足Ｆを二点鎖線で示している。

施術用突起１１３は、被施術者の足裏を部分的に押圧するために施術用ローラ１１２の外周面から突出して成形された部分であり、施術用ローラ１１２と同じ樹脂材によって構成されている。この施術用突起１１３は、施術用ローラ１１２の外周面上において施術用突起１１３が施術用ローラ１１２の軸線方向に沿って互いに隣接配置されないように千鳥状に配置されているとともに、周方向に沿って同じ高さの施術用突起１１３が連続しないように周方向において互いに隣接する施術用突起１１３の高さが互いに異なる高さに形成されている。

この第１マッサージローラ１１０に対して足裏用マッサージ器１００の後方側には、所定の間隔を介して第２マッサージローラ１２０が設けられている。第２マッサージローラ１２０は、被施術者の足裏における土踏まずの部分をマッサージするための回転駆動する棒体であり、被施術者の両足に対応して駆動部ケース１０２の両側からそれぞれ張り出した状態で設けられている。この場合、第２マッサージローラ１２０の第１マッサージローラ１１０に対する前記所定の間隔とは、本実施形態においては、被施術者の足裏における指の付け根部分と土踏まずとの間隔に対応した長さである。

この第２マッサージローラ１２０は、前記第１マッサージローラ１１０と同様に構成されている。すなわち、第２マッサージローラ１２０は、駆動モータ１０３に前記減速ギア（図示せず）を介して連結される駆動軸１２１上に施術用ローラ１２２が設けられて構成されている。施術用ローラ１２２は、前記施術用ローラ１１２と同様に、駆動軸１２１の回転駆動によって回転する樹脂製の円筒体であり、被施術者の足裏の幅よりも若干短い長さに形成されるとともに、円筒体の外周面上に施術用突起１２３を複数備えて構成されている。

施術用突起１２３は、前記施術用突起１１３と同様に、被施術者の足裏を部分的に押圧するために施術用ローラ１２２の外周面から突出して成形された部分であり、施術用ローラ１２２と同じ樹脂材によって構成されている。この施術用突起１２３は、施術用ローラ１２２の外周面上において施術用突起１２３が施術用ローラ１２２の軸線方向に沿って互いに隣接配置されないように千鳥状に配置されているとともに、周方向に沿って同じ高さの施術用突起１２３が連続しないように周方向において互いに隣接する施術用突起１２３の高さが互いに異なる高さに形成されている。なお、これら第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０にそれぞれ形成された施術用突起１１３，１２３は、被施術者の足裏に何等かの物理的な刺激を加えることができればよく、配置位置、配置数、形状および形態は本実施形態に限定されるものではない。

そして、これらの第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラ１２０は、第１マッサージローラ１１０の回転軸中心が第２マッサージローラ１２０の回転軸中心よりも高い位置に支持されている。すなわち、本実施形態における足裏用マッサージ器１００は、第１マッサージローラ１１０側から第２マッサージローラ１２０側に向かって下り傾斜になるように構成されている。

これら左右の足Ｆごとに設けられた第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラ１２０との各間には、足温ヒータ１３０がそれぞれ設けられている。足温ヒータ１３０は、被施術者の足裏における指の付け根部分と土踏まずとの間の部分である内側足根小球を温めるための電熱器であり、前記コントローラ１０４による通電制御によって発熱状態が制御される。この足温ヒータ１３０は、被施術者の足Ｆの幅より若干短い長さを長辺とする長方形状に形成された可撓性を有するフィルム状に構成されており、第１マッサージローラ１１０における施術用突起１１３の上端部より若干低い高さ位置に４つの支柱１３１によって略水平状態に支持されている。

この場合、足温ヒータ１３０は、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０に対して被施術者の手の指の太さ以上の隙間Ｓ１を介して配置されている。より具体的には、足温下ヒータ１３０における第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０にそれぞれ対向する各端面と、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０における施術用突起１１３，１２３の各先端部うち、足温ヒータ１３０における前記各端面に対向する先端部との隙間Ｓ１が被施術者の手の指の太さ以上の隙間に設定されている。

また、この足温ヒータ１３０の下方には、ヒータ支持体１３２が設けられている、ヒータ支持体１３２は、被施術者の足Ｆが載置される足温ヒータ１３０を下方から支持するための樹脂製の支柱であり、足温ヒータ１３０の幅よりも狭い厚さで足温ヒータ１３０の長手方向（足裏用マッサージ器１００の幅方向）に沿って壁状に延びて形成されている。このヒータ支持体１３２は、上面位置が足温ヒータ１３０の裏面に対して所定の隙間Ｓ２を介する高さに形成されている。この場合、所定の隙間Ｓ２は、被施術者の足Ｆが載置されることにより下方に撓み変形した足温ヒータ１３０を受け止めて支持することができるとともに、被施術者の足Ｆが載置されない無負荷状態において水平状態にある足温ヒータ１３０に接触しない範囲で設定される。また、ヒータ支持体１３２の上面は、曲面状に形成されるとともに足温ヒータ１３０の長手方向に沿って方形状の穴１３２ａが複数形成されて構成されている。

このベース体１０１は、ハウジング１４０に組み付けられている。ハウジング１４０は、足裏用マッサージ器１００の筐体を構成する樹脂製の部材であり、主として、台部１４１とカバー部１４２とが一体的に形成されて構成されている。台部１４１は、被施術者の両足を載置可能な程度の大きさおよび形状の台状に形成されるとともに、その中央部にベース体１０１を嵌め込むための段状の貫通孔１４１ａが形成されている。すなわち、台部１４１は、貫通孔１４１ａにベース体１０１が嵌め込まれることによって、ベース体１０１上に設けられた駆動部ケース１０２、第１マッサージローラ１１０、第２マッサージローラ１２０および足温ヒータ１３０をそれぞれ上方に露出した状態で支持している。また、台部１４１には、貫通孔１４１ａに対して足裏用マッサージ器１００の後方に被施術者の足Ｆにおける踵部を載置するための踵載置部１４１ｂが略水平に延びて形成されている。

カバー部１４２は、台部１４１の上面から被施術者の足Ｆにおけるつま先部分から足の甲部分までを収容可能な高さで台部１４１の一部を覆いつつ足裏用マッサージ器１００の後部側が開口した袋状の部材である。具体的には、カバー部１４２は、台部１４１の上面上から露出する駆動部ケース１０２、第１マッサージローラ１１０および足温ヒータ１３０の全部および第２マッサージローラ１２０の一部を覆うとともに台部１４１における踵載置部１４１ｂを露出させる形状に形成されている。また、カバー部１４２には、その上面中央部に開口部が形成されており、この開口部から駆動部ケース１０２の上面に露出した操作パネル１０５が露出している。

ハウジング１４０における台部１４１上およびカバー部１４２の内周面上には、これらの各表面および同各表面に続く縁部をそれぞれ覆う布カバー１５０が設けられている。布カバー１５０は、台部１４１上およびカバー部１４２の内側に配置される被施術者の足Ｆを保護および保温するための布部材であり、柔軟で肌触りの良い材料（例えば、ポリエステルやポリウレタンなどの樹脂素材や綿）で構成されている。この布カバー１５０は、図示しない着脱機構（例えば、ボタン、ホックおよび面ファスナなど）によってハウジング１４０に対して着脱自在に取り付けられている。すなわち、足裏用マッサージ器１００の使用時においては、台部１４１上に露出する第１マッサージローラ１１０、第２マッサージローラ１２０および足温ヒータ１３０は、台部１４１上に敷かれる布カバー１５０によって覆われた状態となる。

なお、この布カバー１５０は、図２においては足裏用マッサージ器１００における内部構成の理解を助けるために図示を省略している。また、この足裏用マッサージ器１００は、家庭用電源からの電力の導入するための図示しない電源コードなども備えているが、これらについては、本発明に直接関わらないため、その説明は省略する。

（足裏用マッサージ器１００の作動）
次に、このように構成した足裏用マッサージ器１００の作動について説明する。まず、この足裏用マッサージ器１００を使用する被施術者は、足裏用マッサージ器１００を用意する。次に、被施術者は、足裏用マッサージ装置１００を起動させる。具体的には、被施術者は、足裏用マッサージ器１００における図示しない電源コードを家庭用電源の差し込み口（所謂コンセント）に差し込んだ後、操作パネル１０５を操作して足裏用マッサージ器１００の電源を入れる。これにより、足裏用マッサージ器１００のコントローラ１０４は、図示しない所定の制御プログラムを実行することにより被施術者からの指令の入力を待つ待機状態となる。

次に、被施術者は、椅子やソファなどに腰掛けた状態で両足を足裏用マッサージ器１００内に挿入する。具体的には、被施術者は、自身の両足のつま先側をカバー部１４２内に挿入して台部１４１上に配置する。この場合、被施術者は、自身の足裏における指の付け根部分を布カバー１５０で覆われた第１マッサージローラ１１０上に位置させるとともに踵部分を台部１４１における踵載置部１４１ｂ上に配置する。これにより、被施術者の足Ｆにおける足裏は、指の付け根部分が第１マッサージローラ１１０上に位置し、内側足根小球部分が足温ヒータ１３０上に位置し、土踏まず部分が第２マッサージローラ１２０上に位置し、踵部分が踵載置部１４１ｂ上に位置した状態となる。また、この場合、施術者は、第１マッサージローラ１１０側から第２マッサージローラ１２０側が下り傾斜しているため、楽な姿勢で足Ｆを載置することができる。

一方、足温ヒータ１３０は、被施術者の足裏における内側足根小球部分が載置されることによって下方に撓み変形するとともに、この撓み変形した状態でヒータ支持体１３２によって支持される。これにより、被施術者の足Ｆと足温ヒータ１３０とは布カバー１５０を介して密着した状態でヒータ支持体１３２によって安定的に支持される。そして、この場合、ヒータ支持体１３２は、上面が曲面状に形成されているため同上面側に撓み変形した足温ヒータ１３０に損傷を与えることがない。

次に、被施術者は、操作パネル１０５を操作することにより、足裏用マッサージ器１００のコントローラ１０４に対してマッサージ動作の開始を指示する。この指示に応答して、
コントローラ１０４は、ＲＯＭなどの記憶装置に予め記憶されている図示しない制御プログラムを実行することによって駆動モータ１０３および足温ヒータ１３０の作動を開始させる。

これにより、駆動モータ１０３に連結された第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０は、互いに同一の回転方向に同一の回転速度で回転駆動することによって被施術者の足裏のマッサージを開始する。また、足温ヒータ１３０は、発熱を開始することによって被施術者の足裏を温める。すなわち、足裏用マッサージ器１００のコントローラ１０４は、足温ヒータ１３０によって被施術者の足裏を温めながら第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０によって被施術者の足裏を押圧するマッサージを行う。この場合、コントローラ１０４は、前記制御プログラムに従って駆動モータ１０３および足温ヒータ１３０の作動をそれぞれ制御することにより、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の回転方向、回転速度および足温ヒータ１３０の発熱量を変化させながら足裏のマッサージを行う。

これら第１マッサージローラ１１０、第２マッサージローラ１２０および足温ヒータ１３０によってマッサージが行なわれている場合においては、被施術者の足裏における凹んだ部分である指の付け根部分および土踏まずの部分に第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の各上側部分が嵌った状態となるとともに、同足裏における踵部分が台部１４１の踵載置部１４１上で安定的に支持されている。このため、足裏用マッサージ器１００は、回転駆動する第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０上において被施術者の足Ｆの位置ずれを防止しながら安定的に支持した状態でマッサージを行うことができる。また、この場合、足温ヒータ１３０は、被施術者の足Ｆにおけるつま先部分に近い内側足根小球部分を位置ずれさせることなく安定的に温めることができるため、冷え易いつま先部分を効果的に温めることができる。

また、被施術者の足Ｆへのマッサージ時においては、足温ヒータ１３０が被施術者の足裏の直下位置に配置されているため、足裏を短時間に効率よく温めることができるとともに第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の加熱を防止することができる。また、足温ヒータ１３０は、被施術者の足Ｆの載置によって図示上側に凸状に湾曲するため、熱の放射領域が放射状に広がって加温領域を広げることができる。一方、足温ヒータ１３０を支持するヒータ支持体１３２は、足温ヒータ１３０を支持する上面に形成された穴１３２ａによって足温ヒータ１３０から受けた熱を逃がすことができるため、過渡に加熱されることを防止することができる。

そして、足裏用マッサージ器１００によるマッサージを終了する場合には、被施術者は、操作パネル１０５を操作して第１マッサージローラ１１０、第２マッサージローラ１２０および足温ヒータ１３０の作動を停止させた後、または直接足裏用マッサージ器１００の電源を切るとともにハウジング１４０内から両足を外すことによって足裏用マッサージ器１００の使用を終了することができる。これにより、足温ヒータ１３０は、凸状の湾曲状態が解消させて水平状態に復帰してヒート支持体１３２から離隔するため早期に冷却される。また、足裏用マッサージ器１００の使用によって布カバー１５０が汚損した場合には、被施術者は、布カバー１５０をハウジング１４０から取り外して布カバー１５０を洗濯または補修して再度取り付けることができるとともに、新品の布カバー１５０に交換することもできる。

上記作動説明からも理解できるように、上記実施形態によれば、足裏用マッサージ器１００は、被施術者のつま先側に配置される第１マッサージローラ１１０と、同被施術者の踵側に配置される第２マッサージローラ１２０との間に足裏を温めるための足温ヒータ１３０を備えて構成されている。そして、この場合、足温ヒータ１３０は、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０のうちで上端部の高さが低い方の第１マッサージローラ１１０または第２マッサージローラ１２０における回転中心軸以上の高さ位置に配置されている。すなわち、足裏用１００マッサージ器は、足温ヒータ１３０が２つのマッサージローラ間であってかつ被施術者の足裏の直下位置に配置されているため、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０が足温ヒータ１３０によって加熱されることがないとともに被施術者の足裏を足裏から近い位置で温めることができる。これにより、足裏用マッサージ器１００は、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０が加熱されることによる不快感を解消できるとともに足裏を適度に温めながら消費エネルギを低く抑えることができる。

さらに、本発明の実施にあたっては、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。なお、下記各変形例を示す図３〜図７においては、上記実施形態における弦楽器用ピック１００の構成部分に対応する部分に同じ符号を付して、これらの説明は適宜省略する。

例えば、上記実施形態においては、第１マッサージローラ１１０は被施術者の足裏における指の付け根部分をマッサージするように配置されるとともに、第２マッサージローラ１２０は同足裏における土踏まず部分をマッサージするように配置されている。しかし、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の配置位置は、被施術者足長を超えない範囲の間隔で足裏におけるマッサージを行いたい部分に対応する位置に配置されていればよい。したがって、例えば、第１マッサージローラ１１０は被施術者の足裏における内側足根小球部分をマッサージするように配置するとともに、第２マッサージローラ１２０は同足裏における踵部分をマッサージするように配置するようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、第１マッサージローラ１１０を第２マッサージローラ１２０に対して上端部が高い位置になるように配置した。しかし、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の高さ方向の配置位置は、上記実施形態に限定されるものではない。すなわち、第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラ１２０とは、互いに同じ高さ位置に配置されてもよいし、第１マッサージローラ１１０に対して第２マッサージローラ１２０を高い位置に配置するようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、足温ヒータ１３０は、被施術者の足裏における内側足根小球部分を温めるように配置した。しかし、足温ヒータ１３０の配置位置は、第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラとの間において足裏における加温したい部分に対応する位置に配置されていればよい。したがって、足温ヒータ１３０は、例えば、被施術者の足裏における土踏まずの部分を温めるように配置することができる。また、足温ヒータ１３０は、第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラとの間において２つ以上設けることもできる。

また、上記実施形態においては、足温ヒータ１３０は、第１マッサージローラ１１０における施術用突起１１３の上端部に対して若干低い高さ位置に配置した。すなわち、足温ヒータ１３０は、互いに異なる高さ位置に配置された第１マッサージローラ１１０と第２マッサージローラ１２０のうち、高い高さ位置に配置された第１マッサージローラ１１０の回転中心となる駆動軸１１１の中心軸よりも高い位置に配置した。しかし、足温ヒータ１３０は、少なくとも熱を発する発熱部が第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０のうちで、少なくとも低い側の第１マッサージローラ１１０または第２マッサージローラ１２０の回転中心軸より高い位置に配置されていればよい。したがって、足温ヒータ１３０は、例えば、第１マッサージローラ１１０の上端部より高い位置に配置されていてもよいし、第２マッサージローラ１２０の回転中心軸の高さ位置以上で第１マッサージローラ１１０の回転中心軸の高さ位置以下の範囲の高さ位置に配置してもよい。なお、足温ヒータ１３０の高さ位置は、足裏への加温の効率および第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０への加熱を考慮すれば、好ましくは高い位置に配置された第１マッサージローラ１１０または第２マッサージローラ１２０側の回転中心軸よりも高い位置に配置する方がよい。

また、上記実施形態においては、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０と足温ヒータ１３０とをそれぞれ手の指の太さ以上の隙間Ｓ１を介して配置した。しかし、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０と足温ヒータ１３０との間の隙間Ｓ１は、手や足の指の太さ未満に設定されていてもよい。この場合、手や足の指が進入できない構成や、手や足の指が進入しても巻き込みが生じない構成を採用することもできる。前者としては、例えば、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０と足温ヒータ１３０との間に指の侵入防止用のカバーを設置することや、第１マッサージローラ１１０および第２マッサージローラ１２０の回転方向を足温ヒータ１３０側において下方から上方に向かって回転するように構成することができる。また、後者としては、例えば、センサー感知による駆動モータ１０３の作動停止や第１マッサージローラ１１０、第２マッサージローラ１２０および足温ヒータ１３０を柔軟な素材で構成することが考えられる。

また、上記実施形態においては、足温ヒータ１３０は、フィルム状に形成した。しかし、足温ヒータ１３０は、被施術者の足Ｆを温めることができれば、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、足温ヒータ１３０は、温風を吹き出すように構成してもよいし、台部１４１に対して懐炉を着脱自在に取り付けるように構成することもできる。

また、上記実施形態においては、足温ヒータ１３０は、被施術者の足Ｆが載置された際にヒータ支持体１３２によって支持されるように構成した。しかし、足温ヒータ１３０は、常にヒータ支持体１３２によって支持されるように構成、すなわち、足温ヒータ１３０とヒータ支持体１３２との間の隙間Ｓ２を省略して構成することもできる。また、足温ヒータ１３０は、ヒータ支持体１３２を省略して支柱１３１のみによって支持することもできる。

また、上記実施形態においては、ヒータ支持体１３２は、足温ヒータ１３０との接触面となる上面を足温ヒータ１３０の幅より狭い幅で形成することにより足温ヒータ１３０の両端部が湾曲可能な長さで張り出すように構成した。しかし、ヒート支持体１３２は、足温ヒータ１３０における一方の端部の湾曲を確保する場合においては、同一方の端部を湾曲可能な長さで張り出すように同端部から引っ込んだ位置で支持するように構成すれば、必ずしも足温ヒータ１３０の幅より狭い幅で形成する必要はない。また、ヒータ支持体１３２は、足温ヒータ１３０が湾曲変形不要な場合には、足温ヒータ１３０の全面を支持するように構成することもできる。さらに、ヒータ支持体１３０は、足温ヒータ１３０との接触面となる上面を曲面状に形成したが、曲面以外の形状、例えば、平面状に形成してもよいことは当然である。

Ｆ…足、Ｓ１，Ｓ２…隙間、
１００…足裏用マッサージ器、
１０１…ベース体、１０２…駆動部ケース、１０３…駆動モータ、１０４…コントローラ、１０５…操作パネル、
１１０…第１マッサージローラ、１１１…駆動軸、１１２…施術用ローラ、１１３…施術用突起、
１２０…第２マッサージローラ、１２１…駆動軸、１２２…施術用ローラ、１２３…施術用突起、
１３０…足温ヒータ、１３１…支柱、１３２…ヒータ支持体、１３２ａ…穴、
１４０…ハウジング、１４１…台部、１４１ａ…貫通孔、１４１ｂ…踵載置部、１４２…カバー部、
１５０…布カバー。

Claims (6)

1. 被施術者の足裏をマッサージする足裏用マッサージ器であって、
   回転駆動する棒状体の表面に前記被施術者の足裏をマッサージするための施術用突起を有した第１マッサージローラと、
   前記第１マッサージローラに対して前記施術者の足長を超えない範囲の間隔を介した位置に配置されて回転駆動する棒状体の表面に前記施術用突起を有した第２マッサージローラと、
   前記第１マッサージローラと前記第２マッサージローラとの間に配置されて前記被施術者の足裏を温めるための足温ヒータとを備え、
   前記足温ヒータは、
   熱を発する発熱部が少なくとも前記第１マッサージローラおよび前記第２マッサージローラのうちで上端部の高さが低い方の前記第１マッサージローラまたは前記第２マッサージローラにおける回転中心軸以上の高さ位置に配置されていることを特徴とする足裏用マッサージ器。
2. 請求項１に記載した足裏用マッサージ器において、
   前記第１マッサージローラおよび前記第２マッサージローラは、
   前記足温ヒータに対してそれぞれ前記被施術者の指の太さ以上の間隔を介して配置されていることを特徴とする足裏用マッサージ器。
3. 請求項１または請求項２に記載した足裏用マッサージ器において、
   前記足温ヒータは、可撓性を有するフィルム状に形成されていることを特徴とする足裏用マッサージ器。
4. 請求項３に記載した足裏用マッサージ器において、さらに、
   前記足温ヒータを撓み変形可能な長さだけ張り出させた状態で同足温ヒータを裏面側から支持するためのヒータ支持体を備えていることを特徴とする足裏用マッサージ器。
5. 請求項４に記載した足裏用マッサージ器において、
   前記ヒータ支持体は、
   前記足温ヒータを支持する面が曲面で構成されていることを特徴とする足裏用マッサージ器。
6. 請求項１ないし請求項５のうちのいずれか１つに記載した足裏用マッサージ器において、
   前記第１マッサージローラは、前記被施術者の足裏における指の付け根部分に対応する位置に配置されており、
   前記第２マッサージローラは、前記被施術者の足裏における土踏まずに対応する位置に配置されており、
   前記足温ヒータは、前記被施術者の足裏における内側足根小球に対応する位置に配置されていることを特徴とする足裏用マッサージ器。