JP5021154B2 - ネマチック液晶組成物 - Google Patents

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Description

本発明は、ネマチック液晶組成物に関する。
最近、情報処理技術の開発及び情報処理を遂行する情報処理装置の技術開発と共に膨大なデータを短時間内に処理することができるようになった。これと共に、処理されたデータを使用者が認識できるように可視的に表現するために、多様な応用分野にかけて表示装置の開発が共に行われている。
特に、半導体技術の急速な進歩によって各種電子装置の個体化、低電圧及び低電力化と共に電子機器の小型化及び軽量化によって新しい環境に適合した電子表示装置、即ち、薄くて軽いながら低い駆動電圧及び低い消費電力の特徴を有した平板表示(plat panel display)装置に対した要求が急激に増大されている。
そのうち、液晶表示装置は低い消費電力及び低い駆動電圧を有しているだけでなく、既存に多い研究が進行されて、陰極線管(cathode ray tube;CRT)に近い画像表示をすることができるので、その要求が急増しているし、多様な電子装置に広範囲に使用されている。
現在、前記液晶表示装置はノートブック(note book)、モニター及び家庭用TVだけでなく、各種中小型の表示装置に領域を拡大している。特に、家庭用TVに対した研究が活発に進行されているし、TN(Twisted Nematic)、IPS(CE)及びVAモードなどが家庭用TVの駆動方式に論じられている。しかし、IPS(CE)及びVAモードは広い視野角を有しているという長所があるが、応答速度が遅れて動画像を具現しにくい。また、工程上の収率を確保することが厳しいし、製造原価が多少高い問題点がある。
反面、TNモードは、工程収率確保及び製造原価においては競争力があるが、視野角が狭小であり、応答速度が遅れる問題点がある。
即ち、液晶表示装置に特性を満足させることができる液晶は、応答速度を向上させるために低い粘度特性を有しなければならないし、駆動電圧を低くするために誘電率異方性(Δε)を増加させなければならない。また、広い温度範囲においてネマチック相を有しなければならないし、複屈折率(Δn)値が約0.20(約、25℃)以上でなければならない。
しかし、一般的なTN、IPS及びVAモード用ネマチック液晶の応答速度は約20乃至30msであって、円滑な同映像具現のためには更に短縮しなければならない。
視野角に対した補償問題は補償フィルムなどの開発で次第に改善されているが、応答速度は液晶そのものの問題点として液晶の開発が望まれている。
また、既存のCRTのような性能を有するように液晶表示装置を利用して高輝度の表示を実現させるためにはバックライトの光量を増加させなければならない。これによって、バックライトの管電流などによって高い熱が発生する。
一般的に液晶表示装置は、電極が形成された二枚の基板の間に液晶を注入して製作され、電極が形成された二枚の基板に外部から電圧を印加することで、基板の間に存在する液晶が外部光源を選択的に透過または遮断してデータを可視的に表示する装置である。この時、バックライトは前記液晶と非常に近接して直接的に光が伝達されるようになる。従って、前記バックライトの管電流によって発生した熱はすぐ液晶表示装置の液晶に伝達されるようになる。
従って、高い相転移温度を有する液晶が必要である。しかし、現在常用化されているTN、IPS及びVAモード用ネマチック液晶の相転移温度は約70乃至80℃で低いので、高輝度の表示を実現するためには厳しさが伴う。
従って、本発明の目的は高い温度に耐えることができ、応答速度が速いネマチック液晶組成物を提供することにある。
前記目的を達成するために本発明は、下記式(1)で表示される化合物及びホスト混合物を含むネマチック液晶組成物を提供する。
(1)
前記式(1)において、Rは、C2n+1O、C2n+1、C2n+1S及びC2n−1で構成されたグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時、nは1乃至15の整数;
Aは下式(2)〜(5)からなるグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時aは0または1;
・・・(2)
・・・(3)
・・・(4)
・・・(5)
Bは、下式(6)〜(9)からなるグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時bは0または1;
−CHCH− ・・・(6)
−C=C− ・・・(7)
−C≡C− ・・・(8)
・・・(9)
Dは、下式(10)〜(17)で構成されたグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時dは0または1;
・・・(10)
・・・(11)
・・・(12)
・・・(13)
・・・(14)
−CHCH− ・・・(15)
−C=C− ・・・(16)
−C≡C− ・・・(17)
Xは、H、F、Cl、Br、NCS及びCNからなるグループのうち、選択されたいずれかの一つ;
Yは、NCS、SCN及びFからなるグループのうち、選択されたいずれかの一つである。
本発明によるネマチック液晶組成物は、前記液晶組成物全体を基準に約1乃至90重量%の前記式(1)で表示される化合物及び約10乃至99重量%のホスト混合物を含む。前記ネマチック液晶組成物のうち、前記式(1)で表示される化合物の量が1重量%以上であれば希望する効果を達成することができる。また、90重量%以下であれば応答速度特性を満足させやすい。
前記式(1)で表示される化合物を下記式(18)〜(31)の化合物で構成されたホスト混合物と混合することで、液晶組成物を提供する。下記式(18)〜(31)のうち、Rはメチル基、Rはエチル基、R2dはビニル基、Rはプロピル基、R3dはアリル基、Rはペンチル基を示す。
・・・(18)
・・・(19)
・・・(20)
・・・(21)
・・・(22)
・・・(23)
・・・(24)
・・・(25)
・・・(26)
・・・(27)
・・・(28)
・・・(29)
・・・(30)
・・・(31)
また、前記ホスト混合物は、下記式(18)〜(24)及び(28)〜(34)の化合物を含むことができる。ここで下記式(18)〜(24)及び(28)〜(34)のうち、Rはメチル基、Rはエチル基、R2dはビニル基、Rはプロピル基、R3dはアリル基、Rはペンチル基を示す。
・・・(18)
・・・(19)
・・・(20)




・・・(21)




・・・(22)



・・・(23)
・・・(24)
・・・(28)




・・・(29)
・・・(30)
・・・(31)
・・・(32)
・・・(33)
・・・(34)
前記ネマチック液晶組成物は、ツイストネマチック(TN)液晶表示装置に使用されてもよいし、スーパーツイストネマチック(STN)液晶表示装置に使用されることもできる。また、薄膜トランジスタ(TFT)ツイストネマチック(TN)液晶表示装置に使用されてもよいし、IPS(in plane switching)液晶表示装置に使用されることもできる。さらに、VA(Vertically aligned)液晶表示装置に使用されることもできる。
本発明を用いれば、相転移温度が高くて応答速度が速いネマチック液晶組成物を実現することができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施例をより詳細に説明する。
まず、本発明の実施例で使用した第1ホスト混合物は、約6.6重量%の前記式(18)の化合物、約5.4重量%の前記式(19)の化合物、約20.8重量%の前記式(20)の化合物、約4.1重量%の前記式(21)の化合物を含み、約11.07重量%の前記式(22)の化合物、約2.5重量%の前記式(23)の化合物、約2.5重量%の前記式(24)の化合物を含み、約3.4重量%の前記式(25)の化合物、約9重量%の前記式(26)の化合物、約9.4重量%の前記式(27)の化合物を含み、約8.66重量%の前記式(28)の化合物、約8重量%の前記式(29)の化合物、約3.6重量%の前記式(30)の化合物及び約4.97重量%の前記式(31)の化合物を含む。
実施例1
下記式(1−1)で表示される化合物約7重量%及び第1ホスト混合物約93重量%を混合して液晶組成物を製造した。
・・・(1−1)
前記液晶組成物の液晶上で、等方性液体状に相転移する温度であるTNIは約87.9℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.0909であって、誘電率異方性(Δε)は約6.1(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−1)で表示される化合物のm.pは約97.8℃であり、TNIは約192.5℃であった。また、前記式(1−1)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.302であって、誘電率異方性(Δε)は約12であった。
実施例2
前記式(1−1)で表示される化合物約17重量%及び第1ホスト混合物約83重量%を混合して液晶組成物を製造した。
前記液晶組成物のTNIは約96℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.115であって、誘電率異方性(Δε)は約6.68(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−1)で表示される化合物のm.pは約97.8℃であり、TNIは約192.5℃であった。また、前記式(1−1)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は、約0.302であって、誘電率異方性(Δε)は約12であった。
実施例3
前記式(1−1)で表示される化合物約30重量%及び第1ホスト混合物約70重量%を混合して液晶組成物を製造した。
前記液晶組成物TNIは約113.8℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.1431であって、誘電率異方性(Δε)は約7.5(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−1)で表示される化合物のm.pは約97.8℃であり、TNIは約192.5℃であった。また、前記式(1−1)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.302であって、誘電率異方性(Δε)は約12であった。
実施例4
下記式(1−2)で表示される化合物約7重量%及び第1ホスト混合物約93重量%を混合して液晶組成物を製造した。




(1−2)
前記液晶組成物のTNIは約90.3℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.0899であって、誘電率異方性(Δε)は約6.3(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−2)で表示される化合物のm.pは約109.7℃であり、TNIは約227.6℃であった。また、前記式(1−1)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.288であって、誘電率異方性(Δε)は約14.7であった。
実施例5
前記式(1−2)で表示される化合物約17重量%及び第1ホスト混合物約83重量%を混合して液晶組成物を製造した。前記液晶組成物のTNIは約103.5℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.115であって、誘電率異方性(Δε)は約7.14(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−2)で表示される化合物のm.pは約109.7℃であり、TNIは約227.6℃であった。また、前記式(1−2)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.288であって、誘電率異方性(Δε)は約14.7であった。
実施例6
前記式(1−2)で表示される化合物約30重量%及び第1ホスト混合物約70重量%を混合して液晶組成物を製造した。前記液晶組成物のTNIは約124.3℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.1389であって、誘電率異方性(Δε)は約8.4(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−2)で表示される化合物のm.pは約109.7℃であり、TNIは約227.6℃であった。また、前記式(1−2)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.288であって、誘電率異方性(Δε)は約14.7であった。
実施例7
下記式(1−3)で表示される化合物である約17.7重量%及び第1ホスト混合物約82.3重量%を混合して液晶組成物を製造した。




(1−3)
前記液晶組成物のTNIは約101.5℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.111であって、誘電率異方性(Δε)は約6.65(約、20℃)であった。
前記式(1−3)で表示される化合物のm.pは約87.4℃であり、TNIは約215℃であった。また、前記式(1−3)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.274であって、誘電率異方性(Δε)は約11.5であった。
実施例8
下記式(1−4)で表示される化合物約7重量%及び第1ホスト混合物約93重量%を混合して液晶組成物を製造した。



(1−4)
前記液晶組成物のTNIは約89.5℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.0899であって、誘電率異方性(Δε)は約6.1(約、20℃)であった。
前記式(1−4)で表示される化合物のm.pは約90℃でり、TNIは約216℃であった。また、前記式(1−4)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.274であって、誘電率異方性(Δε)は約12.1であった。
実施例9
前記式(1−4)で表示される化合物約17重量%及び第1ホスト混合物約83重量%を混合して液晶組成物を製造した。
前記液晶組成物のTNIは約102℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.111であって、誘電率異方性(Δε)は約6.41(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−4)で表示される化合物のm.pは約90℃であり、TNIは約216℃であった。また、前記式(1−4)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.274であって、誘電率異方性(Δε)は約12.1であった。
実施例10
前記式(1−4)で表示される化合物約30重量%及び第1ホスト混合物約70重量%を混合して液晶組成物を製造した。
前記液晶組成物のTNIは約120.8℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.1347であって、誘電率異方性(Δε)は約7.6(約、20℃)であった。
この時、前記式(1−4)で表示される化合物のm.pは約90℃であり、TNIは約216℃であった。また、前記式(1−4)で表示される化合物の複屈折率(Δn)は約0.274であって、誘電率異方性(Δε)は約12.1であった。
実施例11
全体組成物を基準に約6.3重量%前記式(18)で表示される化合物、約5.2重量%の前記式(19)で表示される化合物、約20.1重量%の前記式(20)で表示される化合物、約4.4重量%の前記式(21)で表示される化合物を含み、約6.8重量%の前記式(29)で表示される化合物、約2.4重量%の前記式(24)で表示される化合物、約2.9重量%の前記式(31)で表示される化合物を含み、約3.3重量%の前記式(32)で表示される化合物、約8.7重量%の前記式(33)で表示される化合物、約9.1重量%の前記式(34)で表示される化合物を含み、約2.9重量%の前記式(23)で表示される化合物、約7.2重量%の前記式(28)で表示される化合物、約2.3重量%の前記式(30)で表示される化合物を含み、約10.2重量%の前記式(22)で表示される化合物を含み、約4重量%の前記式(1−1)で表示される化合物及び約4.2重量%の前記式(1−2)で表示される化合物を含む液晶組成物を製造した。
前記液晶組成物のTNIは約89℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.094であって、誘電率異方性(Δε)は約6.3(約、20℃)であった。
比較実施例1
前記第1ホスト混合物で構成された液晶組成物を製造した。前記液晶組成物のm.pは約−30℃であり、TNIは約80℃であった。また、複屈折率(Δn)は約0.075であって、誘電率異方性(Δε)は約5.63であった。
液晶組成物の特性評価
前記比較実施例1、実施例2、実施例5、実施例7、実施例9及び実施例11によって製造された素子の応答速度、しきい電圧及び電圧保持率を評価した。その結果を表1に示す。
表1を参照すると、しきい電圧及び電圧保持率が全体的に類似の様相を示したが、実施例2によって製造された素子の応答速度が一番速いことに示された。前記比較実施例1によって製造された素子は一般的に使用している液晶組成物を使用して製造したものであって、前記比較実施例1の応答速度に比べて本発明の化合物を含む液晶組成物の応答速度は約4ms以上速い。
また、前記実施例2の素子を製造するために使用された液晶組成物のTNIは約96℃であって、前記温度は一般的に使用されている液晶組成物である比較実施例1の相転移温度が約80℃であることに比べて約15℃以上高いことが示された。
本発明の化合物のTNIは約190乃至220℃であった。反面、前記比較実施例1において、TNIは約80℃であった。従って、本発明の化合物の相転移温度が約2倍以上高いことに示された。また、複屈折率は約0.2以上であることで広い温度でネマチック相を構成することができたし、誘電率異方性は約10以上であることで駆動電圧を低くすることができた。
結果的に、前記実施例1乃至10を参照すると、本発明によって製造された化合物の含量を増加させるほど液晶組成物のTNIは増加することに示された。
このように、ネマチック液晶組成物用化合物は、複屈折率及び誘電率異方性が大きくて、相転移温度が高くて応答速度が速いことが示された。従って、高輝度の液晶表示装置を具現するために、バックライトから高い熱が前記液晶に提供されても液晶の特性を均一に維持することができる。
すなわち、本発明の化合物を利用して液晶組成物として使用することで、液晶組成物の相転移温度を上昇させることができ、応答速度を向上させることができる。また、複屈折率及び誘電率異方性を増加させて高輝度の液晶表示装置を提供することができる。
前記液晶表示装置は、ツイストネマチック(Twisted Nematic)液晶表示装置、スーパーツイストネマチック(Super Twisted Nematic)液晶表示装置、薄膜トランジスタツイストネマチック(Thin Film Transistor−Twisted Nematic)液晶表示装置、IPS(In Plane Switching)液晶表示装置及びVA(vertical align)モードの液晶表示装置などであることができる。
本発明の化合物を利用して液晶組成物として使用することで、液晶組成物の相転移温度を上昇させることができ、応答速度を向上させることができる。また、複屈折率及び誘電率異方性を増加させて高輝度の液晶表示装置を提供することができる。
従って、優秀な性能を有する液晶表示装置を提供することができる。
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。

Claims (8)

  1. 下記式(1)で表示される化合物及びホスト混合物を含むネマチック液晶組成物;

    前記式(1)において、Rは、C2n+1O、C2n+1、C2n+1S及びC2n−1で構成されたグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時、nは1乃至15の整数であり、
    前記ホスト混合物は下記式(18)〜(24)、(28)〜(31)の全ての混合物を含むことを特徴とするネマチック液晶組成物;ここで下記式(18)〜(24)、(28)〜(31)のうち、Rはメチル基、Rはエチル基、R2dはビニル基、Rはプロピル基、R3dはアリル基、Rはペンチル基を示す。

    ・・・(18)

    ・・・(19)

    ・・・(20)

    ・・・(21)

    ・・・(22)

    ・・・(23)

    ・・・(24)

    ・・・(28)

    ・・・(29)

    ・・・(30)

    ・・・(31)
  2. 前記液晶組成物全体を基準として前記式1で表示される化合物を乃至90重量%及び前記ホスト混合物を10乃至99重量%含むことを特徴とする請求項1記載のネマチック液晶組成物。
  3. 下記式(1)で表示される化合物及びホスト混合物を含むネマチック液晶組成物;

    前記式(1)において、Rは、C2n+1O、C2n+1、C2n+1S及びC2n−1で構成されたグループのうち、選択されたいずれかの一つであり、この時、nは1乃至15の整数であり、
    前記ホスト混合物は、下記式(18)〜(24)及び(28)〜(34)の全ての化合物を含むことを特徴とするネマチック液晶組成物;ここで下記式(18)〜(24)及び(28)〜(34)のうち、Rはメチル基、Rはエチル基、R2dはビニル基、Rはプロピル基、R3dはアリル基、Rはペンチル基を示す。

    ・・・(18)

    ・・・(19)

    ・・・(20)

    ・・・(21)

    ・・・(22)

    ・・・(23)

    ・・・(24)

    ・・・(28)

    ・・・(29)

    ・・・(30)

    ・・・(31)

    ・・・(32)

    ・・・(33)

    ・・・(34)
  4. ツイストネマチック(TN)液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項1又は3に記載のネマチック液晶組成物。
  5. スーパーツイストネマチック(STN)液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項1又は3に記載のネマチック液晶組成物。
  6. 薄膜トランジスタ(TFT)ツイストネマチック(TN)液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項1又は3に記載のネマチック液晶組成物。
  7. IPS(in plane switching)液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項1又は3に記載のネマチック液晶組成物。
  8. VA(Vertically aligned)液晶表示装置に使用されることを特徴とする請求項1又は3に記載のネマチック液晶組成物。
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