JP5020794B2 - 試料断面作製装置の試料遮蔽機構 - Google Patents
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Description
1)試料加工位置はイオンビーム下遮蔽材部分と接している事から遮蔽板輻射熱で試料上が高温になる。
2)遮蔽材冷却はイオンビーム照射範囲から外れた箇所に接続しなければならない。
3)試料自体もイオンビーム照射範囲から外れた箇所でないと冷却できない。
4)特に熱伝導の悪い試料の場合、3)の場合よりも効果的に冷却ができない。
このように、従来の試料遮蔽方法の場合、熱に弱い試料、例えばPET又はプラスチックの場合、熱により試料が破損し、試料の作製が困難である。
(2)請求項2記載の発明は、前記熱遮断手段は、断熱材又は気体又は真空の層であることを特徴とする。
(3)請求項3記載の発明は、前記第2の遮蔽手段に冷却伝導用編組線を取り付けたことを特徴とする。
(2)請求項2記載の発明によれば、前記熱遮断手段として断熱材又は空気又は真空の層を設けることで、第1の遮蔽手段からの熱が試料に伝達されることを防止することができる。
(3)請求項3記載の発明によれば、前記第2の遮蔽手段に冷却伝導用編組線を取り付けることにより、試料を効果的に冷却することができる。
2 遮蔽材保持部
3 遮蔽材
4 遮蔽材
5 熱遮断部
6 試料支持部材
7 冷却伝導用編組線
Claims (3)
- 試料を部分的に覆うように試料に密着して遮蔽手段を配置すると共に、遮蔽手段にイオンビームを照射し、前記遮蔽手段の端縁部から露出した試料をイオンビームにより除くことによって、試料に断面を形成する試料断面作製装置に用いる試料遮蔽機構であって、
前記遮蔽手段は、前記端縁部を有しイオンビームの照射を受ける第1の遮蔽手段と該第1の遮蔽手段の中に収容され試料面と密着する面を有する第2の遮蔽手段から構成されると共に、前記第1の遮蔽手段と第2の遮蔽手段との間に熱を遮断するための熱遮断手段を設けることを特徴とする試料断面作製装置の試料遮蔽機構。 - 前記熱遮断手段は、断熱材又は気体又は真空の層であることを特徴とする請求項1記載の試料断面作製装置の試料遮蔽機構。
- 前記第2の遮蔽手段に冷却伝導用編組線を取り付けたことを特徴とする請求項1又は2記載の試料断面作製装置の試料遮蔽機構。
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