JP5016191B2 - 多モードイオン化源、およびこれを用いてイオンを生じる方法ならびに多モードイオン化質量分析計 - Google Patents

多モードイオン化源、およびこれを用いてイオンを生じる方法ならびに多モードイオン化質量分析計 Download PDF

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Description

本発明は、一般に、質量分析計に関するものであり、とりわけ、多イオン生成技法を単一イオン源に取り入れた大気圧イオン源(API)に関するものである。
質量分析計は、分子をイオン化し、次に、その質量対電荷(m/z)比に基づいて、分子の分類及び識別を行うことによって正常に機能する。このプロセスにおける2つの重要なコンポーネントとして、イオンを発生するイオン源と、イオンを分類する質量分析部がある。質量分析計には、いくつかの異なるタイプのイオン源が利用可能である。各イオン源は、特定の利点を有しており、異なるクラスの化合物に用いるのに適合する。異なるタイプの質量分析部も利用される。それぞれ、必要な情報タイプに応じた利点及び欠点がある。
過去十年間にわたる液体クロマトグラフィ/質量分析(LC/MS)の進歩の大部分は、新しいイオン源、及び、検体分子をイオン化し、結果生じるイオンを移動相から分離する技法の開発におけるものであった。従来のLC/MSシステムは、準大気圧または部分真空下において機能したが、APIは、大気圧で発生する。さらに、従来、これらの旧式システムでは、一般に、全てのコンポーネントが真空下におかれたが、APIは、真空外で発生し、その後、真空内にイオンが送り込まれる。
先行アプローチが成功するのは、化合物の数が極めて制限された場合だけであった。API技法の導入によって、LC/MSを利用してうまく分析することが可能な化合物の数は大幅に増大した。この技法では、最初に、検体分子が大気圧でイオン化される。次に、検体イオンが、中性分子から空間的及び静電気的に分離される。一般的なAPI技法には、エレクトロスプレーイオン化(ESI)、大気圧化学イオン化(APCI)、及び、大気圧光イオン化(APPI)がある。これらの技法のそれぞれに、利点及び欠点がある。
エレクトロスプレーイオン化は、最も古い技法であり、部分的に化学に依存して、検体が質量分析計に達する前に、溶液中において検体イオンを発生する。LC溶離剤が、強い静電界のかかった、加熱された乾燥ガスの存在する、大気圧の室内に噴射(噴霧)される。静電界によって、LC溶離剤及び検体分子が充電される。加熱された乾燥ガスによって、小滴中の溶媒が蒸発する。小滴が収縮すると、小滴の電荷密度が増大する。最終的には、同様の電荷を持つイオン間の斥力が、凝集力を超えて、イオンが放出され(脱離し)、気相になる。イオンは、吸引されて、毛管またはサンプリングオリフィスを通り、質量分析部に送り込まれる。小滴からのイオン放出時から質量分析部へのイオン到達時までの間で、主として、プロトン移動及び電荷交換といった、いくつかの気相反応が生じる可能性もある。
エレクトロスプレーは、蛋白質、オリゴヌクレオチド、ペプチド等のような大きい生体分子の分析にとりわけ有効である。この技法は、ベンゾジアゼピン及び硫酸化抱合体のようなより小さい有極性分子の分析にも役立つ可能性がある。有効に分析可能な他の化合物には、イオン化塩及び有機染料がある。
大分子は、2つ以上の電子を獲得することが多い。一般的なLC/MS計測器の質量範囲(または、より正確には質量対電荷範囲)が約3000m/zであっても、複数荷電によって、150,000uもの分子の分析が可能になるという利点が得られる。大分子が多くの電荷を獲得する場合、デコンボルーションと呼ばれる数学的プロセスを利用して、検体の実際の分子重量を求めることが可能である。
大気圧で実施される第2の一般的な技法は、大気圧化学イオン化(APCI)である。APCIの場合、LC溶離剤が、大気圧で、加熱した気化器(一般に250〜400℃)によって噴霧される。熱によって液体が気化し、結果生じる気相溶媒分子が、コロナ放電で生じる電子によってイオン化される。溶媒イオンは、次に、化学反応(化学イオン化)によって電荷を検体分子に移動させる。検体イオンは、毛管またはサンプリングオリフィスを通って、質量分析部に送り込まれる。APCIには、いくつかの重要な利点がある。この技法は、広範囲にわたる有極性及び無極性分子に適用可能である。この技法は、エレクトロスプレーのように複数荷電を生じることはめったになく、従って、1500u未満の分子に利用するのに特に有効である。以上の理由及び高温の必要から、APCIは、熱的に不安定である可能性のある大生体分子に関して、エレクトロスプレーほど役に立たない。APCIは、検体が、通常、無極性のため、エレクトロスプレーよりも、順相クロマトグラフィに用いられる場合が多い。
LC/MSに関する大気圧光イオン化は、比較的新しい技法である。APCIのように、気化器によってLC溶離剤が気相に変換される。放電灯が、狭いイオン化エネルギー範囲で光子を発生する。このエネルギー範囲は、できるだけ多くの検体分子をイオン化し、同時に、溶媒分子のイオン化を最小限に抑えるように慎重に選択される。結果生じるイオンは、毛管またはサンプリングオリフィスを通って、質量分析部に送り込まれる。APPIは、一般にAPCIによって分析されるのと同じ化合物の多くに適用可能である。APPIは、とりわけ、無極性の高い化合物及び低流量(<100ul/min)といった、APCIの感度が低下する場合のある、2つの用途において有望である。検体の性質と分離状態は、エレクトロスプレー、APCI、または、APPIといったイオン化技法が最良の結果を生じる上においてかなりの影響を及ぼす。最も有効な技法を予測するのは、必ずしも容易ではない。
上述のこれらの技法では、異なるメカニズムによって分子をイオン化する。あいにく、これらの技法のどれにも、汎用サンプルイオン発生器はない。汎用イオン化の欠如は、しばしば潜在的な利点とみなすことが可能な場合もあるが、大いに相違するサンプルの迅速な分析を担う分析者には重大な欠点を露呈することになる。極めて限られた時間と、分析しなければならない、ずらりと並んだ数多くのサンプルに直面した分析者が関心を示すのは、単一技法及び単一組の条件で、できるだけ多種類のサンプルをイオン化することが可能なイオン源である。あいにく、こうしたAPIイオン源技法は得られなかった。
陽イオン検出と陰イオン検出との迅速な切換えを利用して、サンプルイオン化の範囲を改善しようとする試みがなされてきた。陽イオン/陰イオンを急速に切り換えると、結果として、API技法で検出される化合物のパーセンテージが増すことになる。しかし、それによって、より汎用性の高いAPIイオン発生の必要がなくなるわけではない。
以上の理由から、複数イオン源(エレクトロスプレー、APCI、及びAPPI)を組み合わせた利点をもたらすことが可能な、ただし、個々の制限を受けない、イオン源を用いることが望ましい。さらに、あるイオン源から別のイオン源への切換えを必要とせず、さらに、イオン源を機能させるのに手動操作を必要としないイオン源を備えることが望ましい。
従って、本発明の目的は、迅速に、効率よく、かつ有効に、様々なサンプルのイオン化が可能な多モードイオン源を提供することにある。
本発明について詳述する前に、本明細書及び付属の請求項において用いられる限りにおいて、「ある」、「その」といった単数形には、文脈において別様の明確な指示がない限り、複数の指示物が含まれるという点に特に言及しておかなければならない。従って、例えば、「ある導管」への言及には、2つ以上の「導管」が含まれる。ある「エレクトロスプレーイオン化源」またはある「大気圧イオン化源」への言及には、2つ以上のエレクトロスプレーイオン化源」または「大気圧イオン化源」が含まれる。本発明の説明及び請求において、以下の用語は、以下の定義に従って用いられることになる。
「隣接した」という用語は、近い、隣の、または隣り合ったという意味になる。隣接した何かは、別のコンポーネントと接触することもできるし、他のコンポーネントを包囲する(と同軸をなす)こともできるし、他のコンポーネントから間隔をあけることもできるし、あるいは他のコンポーネントの一部を含むことも可能である。例えば、噴霧器に隣接した「乾燥装置」は、噴霧器の隣に間隔をあけて配置することもできるし、噴霧器と接触することもできるし、噴霧器を包囲するか、噴霧器または噴霧器の一部によって包囲されることもできるし、噴霧器を含むか、噴霧器に含まれることもできるし、噴霧器と隣り合うこともできるし、あるいは噴霧器の近くに位置することも可能である。
「導管」という用語は、イオンまたはガスを収容するか、または輸送するために利用可能な、任意のスリーブ、毛管、輸送装置、ディスペンサ、ノズル、ホース、パイプ、プレート、ピペット、オリフィス、壁面のオリフィス、コネクタ、管、カップリング、コンテナ、ハウジング、構造、または装置を表している。
「コロナニードル」という用語は、コロナ放電を生じさせるために利用可能な任意の導管、ニードル、物体、または装置を表している。
「分子縦軸」という用語は、噴射方向において最もイオン濃度の高い領域を通るように描くことが可能な、理論上の軸またはラインを表わしている。上記用語は、導管の軸に対する分子縦軸の関係のために採用された。場合によっては、イオン源またはエレクトロスプレー噴霧器の縦軸が、導管の縦軸からオフセットすることもあり得る(理論上の軸は直交するが、3次元空間においてアライメントがとれない)。「分子縦軸」という用語の利用は、それらの実施態様を本発明の広い範囲内に含むように採用された。直交するという用語は、ほぼ垂直に、すなわち、ほぼ90度の角度でアライメントがとれることを表わしている。例えば、「分子縦軸」は、導管の軸と直交することが可能である。実質的に直交するという用語は、90±20度を表わしている。しかし、本発明は、これらの関係に制限されるものではなく、「分子縦軸」と導管の縦軸との間に形成されるさまざまな鋭角及び鈍角を含むことが可能である。
「噴霧器」という用語は、液体から小滴またはエアゾルを生じさせる、当該技術において既知の任意の装置を表している。
「第1の電極」という用語は、ESI源から生じる噴流または噴霧の方向づけまたは制限を行うため、あるいは噴霧器まわりの電界を強めて、荷電小滴の形成を助けるため、噴霧器またはエレクトロスプレーイオン化源に隣接して用いることが可能な任意の設計または形状の電極を表わしている。
「第2の電極」という用語は、第1の電極から導管にイオンを送るために用いることが可能な任意の設計または形状の電極を表わしている。
「乾燥装置」という用語は、イオン化蒸気を乾燥または部分乾燥させることが可能な、任意のヒータ、ノズル、ホース、導管、イオンガイド、同軸構造、赤外線(IR)ランプ、u波ランプ、加熱表面、ターボスプレー装置、または加熱ガス導管を表している。イオン化蒸気の乾燥は、計測器の感度の維持または向上において重要である。
「イオン源」または「源」という用語は、検体イオンを発生する任意の源を表わしている。
「イオン化領域」という用語は、任意のイオン源と導管との間の領域を表わしている。
「エレクトロスプレーイオン化源」という用語は、エレクトロスプレーイオンを発生するための噴霧器及び関連部分を表わしている。噴霧器は、大地電位であっても、なくてもかまわない。この用語も、当該技術において周知のエレクトロスプレーイオン化技法を用いて生じるイオンと同様かまたは同じ荷電粒子を放電させることが可能な電極を備えた管のような、機器または装置を含むものと広義に解釈すべきである。
「大気圧イオン化源」という用語は、イオンの発生技術において既知の一般的な用語を表わしている。この用語は、さらに、周囲温度及び周囲圧力範囲でイオンを発生するイオン源を表わしている。イオン化源によっては、制限するわけではないが、エレクトロスプレー、APPI及びAPCIイオン源を含むことも可能である。
「検出部」という用語は、イオンを検出することが可能な任意の装置、機器、機械、コンポーネント、またはシステムを表わしている。検出部には、ハードウェアまたはソフトウェアを含む場合もあれば、含まない場合もあり得る。質量分析計において、一般的な検出部は、質量分析部を含んでいて、かつ質量分析部に結合されているか、あるいは、そのいずれかである。
「順次」または「順次アライメント」という用語は、連続して配置されたイオン源の利用を表わしている。イオン源は、次から次へと後続する。これは、線形配列であっても、なくてもかまわない。
本発明の説明は、図面を参照して行われる。図面は、一定の比率で描かれたものではなく、すなわち、明瞭に提示するために一部の寸法が誇張されている場合もある。
図1には、質量分析計の一般的なブロック図が示されている。本発明は、様々な異なるタイプの質量分析計に用いることができるので、このブロック図は、一定の比率によるものではなく、一般的なフォーマットで描かれている。本発明の質量分析計1には、多モードイオン源2、輸送システム6、及び検出部11が含まれている。本発明は、その最も広義の意味において、単一APIイオン源のイオン化範囲を拡大し、複数イオン情報メカニズムを単一イオン源に組み込むものである。実施態様の1つでは、これが、ESI機能と1つ以上のAPCI及び/またはAPPI機能を組み合わせることによって実現される。第1のイオン源または機能によってイオン化されない検体は、第2のイオン源または機能によってイオン化すべきである。
図1及び図2を参照すると、多モードイオン源2には、第1のイオン源3と、第1のイオン源3より下流の第2のイオン源4が含まれている。第1のイオン源3は、第2のイオン源4と空間的に分離することもできるし、あるいは、第2のイオン源4と一体化することも可能である。第1のイオン源3は、第2のイオン源4と順次アライメントをとることも可能である。しかし、順次アライメントが必要というわけではない。「順次」または「順次アライメント」という用語は、連続して配置されたイオン源の利用を表わしている。イオン源は、次から次へと後続する。これは、線形配列であっても、なくてもかまわない。第1のイオン源3が第2のイオン源4と順次アライメントがとれる場合、イオンは、第1のイオン源3から第2のイオン源4に送られなければならない。第2のイオン源4には、多モードイオン源2の全て若しくは一部、輸送システム6の全て若しくは一部、またはその両方の全て若しくは一部を含むことが可能である。
第1のイオン源3には、大気圧イオン源を含むことが可能であり、第2のイオン源4には、1つ以上の大気圧イオン源を含むことも可能である。本発明にとって重要なのは、エアゾルの形態で荷電小滴及びイオンが得られるようにするため、第1のイオン源3が、エレクトロスプレーイオン源または同様のタイプの装置であると言うことである。さらに、エレクトロスプレー技法には、後で検出し、デコンボルーションを施して、蛋白質のような大分子の特性を解明することが可能な、複合荷電種をもたらすという利点がある。第1のイオン源3は、多モードイオン源2内のいくつかの位置、定位置、または場所に配置することが可能である。図には、導管37(毛管として図示)に対して直交するように配置された第1のイオン源3が示されている。直交するの意味するところは、第1のイオン源3が、導管37の導管縦軸9に対して垂直な「分子縦軸」7を備えるということである(明確化のため図2を参照されたい)。「分子縦軸」という用語は、噴射方向において最もイオン濃度の高い領域を通るように描くことが可能な、理論上の軸またはラインを表わしている。上記用語は、導管の軸に対する「分子縦軸」の関係のために採用された。場合によっては、イオン源またはエレクトロスプレー噴霧器の縦軸が、導管の縦軸からオフセットすることもあり得る(理論上の軸は直交するが、3次元空間においてアライメントがとれない)。「分子縦軸」という用語の利用は、それらのオフセット実施態様を本発明の広い範囲内に含むように採用された。この用語は、また、イオン源及び/または噴霧器の縦軸が導管の縦軸9に対して実質的に直交する状況(図示のように)を含むように定義されている。さらに、図には、本発明が実質的に直交する構成で示されているが(分子縦軸が導管縦軸と実質的に直交する)、分子縦軸と導管縦軸の間で、さまざまな角度(鈍角及び鋭角)を形成することが可能である。
図2には、本発明の第1の実施態様の断面図が示されている。この図には、多モードイオン源2のさらなる詳細が示されている。多モードイオン源2には、全て、単一イオン源ハウジング10に収容された、第1のイオン源3、第2のイオン源4、及び導管37が含まれている。この図に示すように、第1のイオン源3は、イオン源ハウジング10内において第2のイオン源4に密結合され、一体化されている。イオン源ハウジング10は、図に示されているが、本発明の必要な構成要素というわけではない。予測では、イオン源は、独立したハウジングに納めることもできるし、あるいは、イオン源がイオン源ハウジング10と共に用いられることが全くない構成において、利用することさえ可能である。イオン源は、通常、大気圧(約760トル)で動作するが、代わりに、約20〜約2000トルの圧力に保つことも可能である。イオン源ハウジング10は、ガスを除去するための排気ポート12を備えている。
第1のイオン源3(図2にはエレクトロスプレーイオン源として示されている)には、噴霧器8と乾燥装置23が含まれている。噴霧器8のコンポーネントは、それぞれ、独立したものとすることも、あるいは、イオン源10と一体化することも(図2〜図5に示すように)可能である。噴霧器8とイオン源ハウジング10が一体化される場合、イオン源ハウジング10に対する噴霧器8の取り付けには噴霧器カップリング40を用いることが可能である。
噴霧器8には、噴霧器導管19、噴霧器注入口42を備えた噴霧器キャップ17、及び噴霧器先端20が含まれている。噴霧器導管19は、噴霧器キャップ17から噴霧器先端20まで延びる縦通ボア28を備えている(図には、噴霧器導管19が、ボアのアライメントが取れるようにして、2つの部分に分割された、分割設計で示されている)。縦通ボア28は、イオン化領域15内に放出される荷電エアゾルを形成するため、噴霧器先端20にサンプル21を送るように設計されている。噴霧器8は、イオン化領域15に放出される荷電エアゾルを形成するためのオリフィス24を備えている。乾燥装置23は、噴霧器先端20で発生し、そこから放出された荷電エアゾルに対してスイープガスを供給する。スイープガスは、加熱して、直接または間接的にイオン化領域15に供給することが可能である。スイープガス導管25を利用して、スイープガスをイオン化領域15に直接供給することが可能である。スイープガス導管25は(図2に示すように)イオン源ハウジング10に取り付けてもよいし、一体化してもよい。スイープガス導管25がイオン源ハウジング10に取り付けられる場合、独立したイオン源ハウジングボア29を用いて、スイープガス源23からスイープガス導管25に向けてスイープガスを送ることが可能である。スイープガス導管25は、噴霧器導管19の一部を含むこともできるし、あるいは、噴霧器先端20からエアゾルが供給される際、エアゾルに対してスイープガスが送られるように、噴霧器導管19を部分的または完全に包囲することも可能である。
ESI液に荷電するため噴霧器先端20に電界を加えることが重要であるという点に留意すべきである。噴霧器先端20は、高電界強度を発生するのに十分なほど小さくなければならない。噴霧器先端20は、一般に、直径が100〜300ミクロンである。第2のイオン源4が、APCIイオン源である場合、コロナニードル14の電圧は、500〜6000Vの間で、4000Vが一般的である。光子源は、通常、噴霧器先端20の電界に影響しないので、この電界は、APPIにとってクリティカルなものではない。多モードイオン源2の第2のイオン源4が、APCI源である場合、初期ESIプロセスの妨げにならないように、噴霧器の電界は、コロナニードル14に印加される電圧から分離する必要がある。上述の実施態様(図2に示す)の場合、接地した噴霧器が用いられる。この設計は、ユーザにとってより安全であり、より弱電流で、より低コストの電源(図示及び解説されない電源)が利用される。
第2のイオン源4がAPCIである実施態様の1つでは、オプションの第1の電極30及び第2の電極33が、第1のイオン源3に隣接して用いられる(図2参照。本書で解説の電極に関するさらなる情報については、「Apparatus for Delivering Ions from a Grounded Electrospray Assembly to a Vacuum Chamber」と題する米国特許出願公開第09/579,276号明細書参照)。噴霧器先端20と第1の電極30との電位差によって、先端に荷電エアゾルを発生する電界が生じ、一方、第2の電極33と導管37との電位差によって、イオンを導管37に向けて送る、または、導くための電界が生じる。コロナ放電は、コロナニードル14にかかる高電界によって生じるが、この電界は、主として、コロナニードル14と導管37との電位差によって生じるものであり、多少は、第2の電極33の電位による影響もある。例証のためであって、制限のためではないが、それぞれの電極における典型的な1組の電界は、噴霧器先端20(大地電位)、第1の電極30(−1kV)、第2の電極33(大地電位)、コロナニードル14(+3kV)、導管37(−4kV)である。これらの電位例は、陽イオンの場合であり、陰イオンの場合、電位の符号が逆になる。第1の電極30と第2の電極33との間の電界は、陽荷電イオン及び小滴に関して制動するので、スイープガスを用いて、電界に逆らってそれらを押し進め、それらが第2の電極33を確実に通過するようにする。
電界が電位差によって生じるので、適正な電位差が保たれる限りにおいて、電極の絶対電位の選択はほぼ任意である。一例として、可能性のある1組の電位は、噴霧器先端20(+4kV)、第1の電極30(+3kV)、第2の電極33(+4kV)、コロナニードル14(+7kV)、導管37(大地電位)である。電位の選択は、任意ではあるが、通常、利便性に従って、また、計測器設計の実際の態様に従って決定される。
第2のイオン源4に対するAPPIの利用は、イオン化プロセスの補助に電界を必要としないので、APCIの利用とは状況が異なる。図4には、APPIを用いる、詳細に後述する本発明の実施態様の断面図が示されている。図5には、第1の電極30の使用が示されているが、オプションにより、APPI源に第2の電極を用いることも可能である。
噴霧器先端20と導管37との間の電界は、標準的なエレクトロスプレーイオン源の場合と同様、エレクトロスプレーの発生と、導管37へのイオンの移送の両方に役立つ。例えば、導管37をほぼ大地電位にまたは大地電位に保ったまま、噴霧器先端20に1kV以上の正電位を印加することもできるし、あるいは、噴霧器先端20をほぼ大地電位にまたは大地電位に保ったまま、導管37に1kV以上の正電位を印加することも可能である(陰イオンの場合、極性が逆になる)。いずれにせよ、紫外線(UV)ランプ32は、導管37及び噴霧器先端20から十分に距離をあければ、電界への影響はほとんどない。あるいはまた、導管37の電位と噴霧器先端20の電位との間の適切な電位値の別の電極またはケーシングによって、ランプを遮蔽することも可能である。
乾燥装置23は、噴霧器8に隣接して配置され、第1のイオン源3によって生じる荷電エアゾルを乾燥させるように設計されている。荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置23は、赤外線(IR)ランプ、加熱表面、ターボスプレー装置、マイクロ波ランプ、及び加熱ガス導管からなる群から選択される。ESIエアゾルの乾燥は、クリティカルなステップであるという点に留意されたい。エアゾルが非イオン化検体を遊離させるのに十分なほど乾燥しなければ、APCIまたはAPPIプロセスは無効になる。乾燥は、エレクトロスプレーによって生じるイオンの損失を回避するように実施しなければならない。イオンの損失は、表面への放電によって、または、イオンを有用なイオンサンプリング容積から流出できるようにすることによって、生じる可能性がある。乾燥解決法は、両方の問題を取り扱わねばならない。荷電エアゾル及びイオンを乾燥させて、閉じ込めるための実用的な方法は、高温不活性ガスの利用である。電界は、大気圧では、イオン制御にわずかな効果しかない。不活性ガスは、電荷を放散させないし、熱源とすることが可能である。イオン及び荷電小滴を限られた空間内に閉じ込めることが可能な力のベクトルを示すように、不活性ガスを供給することも可能である。これは、エアゾルに対して平行に、同軸をなして流れるガスを利用して、または、エアゾルに対して垂直方向にガスを流すことによって実現可能である。乾燥装置23は、噴霧器先端20から生じるエアゾルにスイープガスを供給することが可能である。実施態様の1つでは、乾燥装置23に、加熱ガスを供給するためのガス源または他の装置を含むことが可能である。ガス源は、当該技術において周知のところであり、どこか他で解説されている。乾燥装置23は、独立したコンポーネントとすることもできるし、あるいは、イオン源ハウジング10と一体化することも可能である。乾燥装置23は、噴霧器導管25によっていくつかのガスを供給することが可能である。本発明には、例えば、窒素、アルゴン、キセノン、二酸化炭素、空気、ヘリウム等のようなガスを用いることが可能である。ガスは不活性である必要はなく、十分な量のエネルギーまたは熱を有することが可能である。本発明には、これらの固有の特性を含む、当該技術において周知の他のガスを利用することも可能である。他の実施態様では、スイープガス及び乾燥ガスについて、異なるまたは別個の導入箇所を備えることが可能である。例えば、スイープガスは、同じ導管(図2及び図4に示すように)または異なる導管(図3及び図5)を用いて導入することが可能であり、次に、スイープガスの導入箇所よりさらに下流において、別個に噴霧ガスをシステムに加えることが可能である。ガスの代替導入箇所(導管、ポート等)によって、ガス/コンポーネント及び温度を維持または変更する柔軟性を高めることも可能である。第2のイオン源4には、APCIまたはAPPIイオン源を含むことが可能である。図2には、APCI構成をなす場合の、第2のイオン源4が示されている。第2のイオン源4は、さらに、実施態様例として(制限するわけではないが)、コロナニードル14、コロナニードルホルダ22、及び、コロナニードルジャケット27を含むことが可能である。コロナニードル14は、イオン源ハウジング10内において第1のイオン源3より下流に配置することが可能である。コロナニードル14の高電位による電界によって、コロナ放電が生じ、その結果、さらに、第1のイオン源3から流れてくる蒸気流中の検体がAPCIプロセスによってイオン化されることになる。陽イオンの場合、正のコロナが利用されるが、この場合、電界はコロナニードルから周囲に向けられる。陰イオンの場合、負のコロナが利用され、電界はコロナニードル14に向けられる。検体イオン、蒸気、及びエアゾルの混合物が、第1のイオン源3からイオン化領域15に流入し、APCIまたはAPPIプロセスによるさらなるイオン化を受けることになる。上述の乾燥ガスまたはスイープガスには、第1のイオン源3からイオン化領域15に混合物を輸送するための手段が含まれている。
図3には、図2と同様の実施態様が示されているが、スイープガス、噴霧ガス、及び乾燥ガスのそれぞれの導入箇所に関するある設計が含まれている。ガスを組み合わせることによって、荷電エアゾルを乾燥させることが可能になる。上述のように、噴霧ガス及びスイープガスは、解説のように導入することが可能である。しかし、この設計では、乾燥ガスは、乾燥ガスポート45及び46によって1つ以上の乾燥ガス源44に導入することが可能である。この図には、第2の電極33の一部を構成する、乾燥ガス源44と乾燥ガスポート45及び46が示されている。これは、必要というわけではなく、これらのコンポーネントは、独立したものとしてイオン源ハウジング10に組み込むこともできるし、あるいは、その一部として組み込むことも可能である。
図4には、図2と同様の実施態様が示されているが、異なる第2のイオン源4が含まれている。さらに、この実施態様の場合、オプションの第1の電極30及び第2の電極33は用いられない。第2のイオン源4には、APPIイオン源が含まれる。紫外線ランプ32が、第1のイオン源3と導管37の間に挿入されている。紫外線ランプ32には、分子のイオン化が可能な、当該技術において周知の任意の数のランプが含まれている。いくつかのUVランプ及びAPPIイオン源は、当該技術において既知のところであって、用いられており、本発明にも用いることが可能である。第2のイオン源4は、第1のイオン源3より下流のいくつかの場所に配置することが可能であり、本発明の広義の範囲が、図に示され、説明される実施態様に制限されるとか、あるいは、それらに焦点を絞ったものであると解釈すべきではない。他のコンポーネント及び部品については、上記APCIの実施態様で説明したものと同様とすることが可能である。はっきりさせるため、上記説明を参照されたい。
輸送システム6(図1に略示された)には、イオンを受け取って、ある場所またはチャンバから別の場所またはチャンバに移送するための1つの導管37、または、任意の数の毛管、導管、または装置を含むことが可能である。図2〜図5には、単純な導管37を含む場合の輸送システム6がより詳細に示されている。導管37は、イオン源ハウジング10内において、コロナニードル14またはUVランプ32に隣接して配置され、エレクトロスプレーエアゾルからイオンを受け取るように設計されている。導管37は、イオン源3より下流に配置され、当該技術において周知のさまざまな材料及び設計を含むことが可能である。導管37は、イオン化領域15(図1には示されていない)内に放出される、イオン源3及びイオン源4から生じた検体イオンを受け取り、収集するように設計されている。導管37は、検体イオンを受け取って、別の場所に輸送するオリフィス38を備えている。当該技術において周知の他の構造及び装置を用いて、導管37を補助することも可能である。ガス導管5によって、イオン化領域15内のイオンに乾燥ガスを供給することが可能である。乾燥ガスは、イオン化領域15内の検体イオンと相互作用して、イオン源2及び/またはイオン源3から供給された溶媒和エアゾルから溶媒を除去する。導管37には、当該技術において周知のさまざまな材料及び装置を含むことが可能である。例えば、導管37には、スリーブ、輸送装置、ディスペンサ、毛管、ノズル、ホース、パイプ、ピペット、ポート、コネクタ、管、オリフィス、壁面のオリフィス、カップリング、コンテナ、ハウジング、構造、または装置を含むことが可能である。いくつかの例では、導管は、ただ単にイオンを受け取るためのオリフィスを含むだけにすることも可能である。図2〜図5の場合、導管37は、毛管がガス導管5内に配置され、本発明の独立したコンポーネントをなす特定の実施態様として示されている。「導管」という用語は、広義に解釈すべきであり、図面に示す実施態様の範囲に制限されるものと解釈すべきではない。「導管」という用語は、イオンを受け取るために利用可能な任意のスリーブ、毛管、輸送装置、ディスペンサ、ノズル、ホース、パイプ、プレート、ピペット、ポート、コネクタ、管、オリフィス、カップリング、コンテナ、ハウジング、構造、または装置を表している。
検出部11が、第2のイオン源4より下流に配置されている(図1には、検出部11だけしか示されていない)。検出部11には、輸送システム6によって収集され、輸送された検体強化イオンを検出するための質量分析部または当該技術において周知の他の同様の装置を含むことが可能である。検出部11には、当該技術において周知のところである、検体イオンの検出を助けることが可能な任意のコンピュータ・ハードウェア及びソフトウェアを含むことも可能である。
図5には、図4と同様の実施態様が示されているが、さらに、第1の電極30及び第2の電極33も含まれている。さらに、本発明のこの実施態様には、スイープガス、噴霧ガス、及び、乾燥ガスの分離も含まれる。図3において上述のように、独立した乾燥ガス源44を用いて、乾燥ガスポート45及び46を介して乾燥ガスが供給される。
本発明及びコンポーネントについてある程度詳細に述べてきたが、本発明の動作方法について、順を追って説明することにする。多モードイオン源2を用いてイオンを発生する方法には、エレクトロスプレーイオン化源のような第1の大気圧イオン化源によって荷電エアゾルを発生するステップと、第2の大気圧イオン化源を利用して、第1の大気圧イオン化源によって生じた荷電エアゾルをイオン化するステップと、多モードイオン化源から生じたイオンを検出するステップが含まれている。図2を参照すると、サンプル21が、縦通ボア28に至る噴霧器注入口42によって第1のイオン源3に供給される。サンプル21には、当該技術において周知のところであり、質量分析計に用いられてきた、任意の数の材料を含むことが可能である。サンプル21は、大気圧イオン化源(すなわち、ESI、APPI、またはAPPIイオン化源)によるイオン化が可能な任意のサンプルとすることが可能である。本明細書では開示されないが、当該技術において既知のところである、他のイオン化源を利用することも可能である。噴霧器導管19は、サンプル21を噴霧器先端20に向かって送るために利用される縦通ボア28を備えている。乾燥装置23は、スイープガス導管25を通じてイオン化サンプルにスイープガスを導入することが可能である。スイープガス導管25は、噴霧器導管19を包囲または収容し、スイープガスを噴霧器先端20に対して噴射する。次に、噴霧器先端20から噴射されるエアゾルが、第1の電極30及び第2の電極33によって生じる電界を印加される。第2の電極33は、荷電エアゾルを導管37に向けて送る電界を発生する。しかし、荷電エアゾルは、導管37に達する前に、まず、第2のイオン源4にさらされる。図2に示す第2のイオン源4は、APCIイオン源である。本発明は、第1のイオン源3及び第2のイオン源4の同時使用に制限されるものと解釈すべきではない。しかし、これは、本発明の重要な特徴である。第1のイオン源3は、第2のイオン源4と同様、「オン」または「オフ」にすることも可能である。換言すれば、本発明は、APCI及びAPPIイオン源の一方または両方があっても、なくても、ESIイオン化源単独の利用が可能になるように設計されている。ESIイオン源と共に、またはESIイオン源抜きで、APCIまたはAPPIイオン源を利用することも可能である。
図4には、第2のイオン源4がAPPIイオン源として示されている。第1のイオン源3を用いて、分子をイオン化した後、イオン源の一方または両方、あるいは、複数のイオン源を用いるのは、本発明の範囲内である。換言すれば、第2のイオン源には、当該技術において既知のところであり、第1のイオン源3によってまだ荷電されていない、または、電荷が増加していない分子の一部をイオン化する、1つの、1つを超える、2つの、2つを超える、あるいは、多数のイオン源を含むことが可能である。他モードイオン化装置を動作させるための重要なステップがいくつか存在する。例えば、放出物は、噴霧器先端における電界強度が約108V/cm以上になるように、高電界のかかった噴霧器から出なければならない。これによって、液体分子の荷電が可能になる。次に、液体は、電界のかかった噴霧器によって荷電エアゾルに変換される。荷電エアゾルは、荷電分子と非荷電分子を含むことが可能である。ESI技法を用いて荷電されない分子は、APCIまたはAPPIイオン源によって荷電される可能性があり得る。スプレーニードルは、噴霧の助け(空気圧によるような)を利用して、高液体流量の動作を行えるようにすることが可能である。上述のように、次に、荷電エアゾルは乾燥させられる。乾燥のメカニズムは、さまざまな可能性があり、高温ガス、あるいは、赤外線波またはマイクロ波のような電磁放射線を含むことが可能である。次に、エアゾル、イオン、及び、蒸気の組み合わせが、コロナ放電または真空紫外線にさらされる。この結果、第2のイオン形成メカニズムが生じることになる。最後に、ESIプロセスと第2のイオン源の両方によるイオンが導管37に送り込まれるように、イオン源における電圧傾度を維持することが重要である。次に、イオンは、輸送システム6を通って検出部11まで進む(図2〜図5には、輸送システム6は略示されていない)。
もちろん、本発明は、特定の実施態様に関連して解説されたが、以上の説明並びに付随する例は、本発明を例示することを意図したものであって、制限を意図したものではない。本発明の範囲内における他の態様、利点、及び修正については、本発明に関する技術者には明らかであろう。
本明細書において後述及び前述の全ての特許、特許出願、及び刊行物は、ここに引用することで本明細書の一部をなすものとする。
質量分析計の概略的なブロック図である。 本発明の第1の実施態様を示す拡大断面図である。 本発明の第2の実施態様を示す拡大断面図である。 本発明の第3の実施態様を示す拡大断面図である。 本発明の第4の実施態様を示す拡大断面図である。

Claims (16)

  1. (a)イオン源ハウジングと、
    (b)前記ハウジング内に配置され、荷電エアゾルを提供するためのオリフィスを備える噴霧器と、
    (c)前記噴霧器の前記オリフィスに隣接し、前記荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置と、
    (d)前記ハウジング内に配置され、前記噴霧器より下流に位置し、前記荷電エアゾルをさらにイオン化するためのコロナニードルと、
    (e)前記コロナニードルに隣接したオリフィスを備え、前記荷電エアゾルからイオンを受け取るための導管と、
    (f)前記噴霧器の前記オリフィスと前記導管の前記オリフィスとの間に置かれ、前記噴霧器の前記オリフィスからイオンを生じさせるための第1の電極と、
    (g)前記第1の電極と前記導管の前記オリフィスとの間に置かれ、前記第1の電極から前記導管の前記オリフィスに向かってイオンを送るため、前記コロナニードルの上流に位置する第2の電極と
    を含んでなる多モードイオン化源。
  2. 前記荷電エアゾルを乾燥させるための前記乾燥装置が、IRランプ、レーザ、加熱表面、マイクロ波ランプ、ターボスプレー装置、及び加熱ガス導管からなる群から選択される請求項1に記載の多モードイオン化源。
  3. 前記ハウジングは、1.333kPa〜266.6kPa(10トル〜2000トルの範囲に圧力が保たれる請求項1または2に記載の多モードイオン化源。
  4. (a)荷電エアゾルを提供するためのエレクトロスプレーイオン化源と、
    (b)前記エレクトロスプレーイオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置と、
    (c)前記エレクトロスプレーイオン化源より下流にあり、前記荷電エアゾルをさらにイオン化するための大気圧イオン化源と、
    (d)前記大気圧イオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルからイオンを受け取るためのオリフィスを備えた導管と
    を含んでなり、
    前記乾燥装置は、第1の電極と第2の電極を含んでおり、該第2の電極がイオンを前記導管に向けるのを助けるものである、多モードイオン化源。
  5. 前記大気圧イオン化源が大気圧化学イオン化源(APCI)である請求項4に記載の多モードイオン化源。
  6. 前記エレクトロスプレーイオン化源が噴射方向を表す分子縦軸を備えるとともに、前記導管も長手方向を示す縦軸を備えており、前記エレクトロスプレーイオン化源の分子縦軸が前記導管の縦軸と実質的に直交する請求項4又は5に記載の多モードイオン化源。
  7. (a)多モードイオン化源と、
    (b)前記多モードイオン化源より下流にあり、前記多モードイオン化源によって生じるイオンを検出するための検出部と
    を含んでなる多モードイオン質量分析計であって、
    前記多モードイオン化源が、
    i. 荷電エアゾルを提供するためのエレクトロスプレーイオン化源と、
    ii. 前記エレクトロスプレーイオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置と、
    iii. 前記エレクトロスプレーイオン化源より下流にあり、前記荷電エアゾルをさらにイオン化するための大気圧イオン化源と、
    iv. 前記大気圧イオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルからイオンを受け取るためのオリフィスを備えた導管と
    を含んでなり、
    前記乾燥装置は、第1の電極と第2の電極を含んでおり、該第2の電極がイオンを前記導管に向けるのを助けるものである、多モードイオン質量分析計。
  8. 前記大気圧イオン化源が大気圧化学イオン化源(APCI)である請求項7に記載の多モードイオン化質量分析計
  9. 前記エレクトロスプレーイオン化源が噴射方向を表す分子縦軸を備えているとともに、前記導管も長手方向を示す縦軸を備えており、前記エレクトロスプレーイオン化源の分子縦軸が前記導管の縦軸と実質的に直交する請求項7又は8に記載の多モードイオン化質量分析計
  10. 前記荷電エアゾルを乾燥させるための前記乾燥装置が、IRランプ、マイクロ波、蒸気管、ターボスプレー装置、及び加熱ガス導管からなる群から選択される請求項7〜9のいずれか一項に記載の多モードイオン化質量分析計
  11. 多モードイオン化源を用いてイオンを生じる方法であって、
    (a)エレクトロスプレーイオン化によって荷電エアゾルを生じるステップと、
    (b)前記荷電エアゾルを第1の電極で方向づけるステップと、
    (c)前記エレクトロスプレーイオン化によって生じた前記荷電エアゾルを乾燥するステップと、
    (d)第2の電極を用いて前記荷電エアゾルを下流へ導くステップと、
    (e)前記第1及び第2の電極の下流で大気圧イオン化源を用いて前記荷電エアゾルをイオン化するステップと
    を含んでなる方法。
  12. 前記大気圧イオン化源が大気圧化学イオン化源(APCI)である請求項11に記載の方法。
  13. (a)荷電エアゾルを提供するための第1の大気圧イオン化源と、
    (b)前記第1の大気圧イオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置と、
    (c)前記第1の大気圧イオン化源より下流にあり、前記乾燥した荷電エアゾルをさらにイオン化するための第2の大気圧イオン化源と、
    (d)前記第2の大気圧イオン化源に隣接し、前記乾燥した荷電エアゾルからイオンを受け取るためのオリフィスを備えた導管と
    を含み、
    前記乾燥装置は、第1の電極と第2の電極を含んでおり、該第2の電極がイオンを前記導管に向けるのを助けるものである、多モードイオン化源。
  14. 多モードイオン化源を用いてイオンを生じる方法であって、
    (a)第1の大気圧イオン化源によって荷電エアゾルを生じるステップと、
    (b)前記荷電エアゾルを第1の電極で方向づけるステップと、
    (c)前記荷電エアゾルを乾燥するステップと、
    (d)前記電荷エアゾルを前記第1の大気圧イオン化源から第2の電極を用いて下流に導くステップと、
    (e)前記第2の電極の下流に位置する第2の大気圧イオン化源を用いて、前記乾燥した荷電エアゾルをイオン化するステップと
    を含んでなる方法。
  15. (a)荷電エアゾルを提供するためのエレクトロスプレーイオン化源と、
    (b)前記荷電エアゾルを方向づける第1の電極と、
    (c)前記エレクトロスプレーイオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルを乾燥させるための乾燥装置と、
    (d)前記エレクトロスプレーイオン化源より下流にあり、前記荷電エアゾルをさらにイオン化するための大気圧イオン化源と、
    (e)前記大気圧イオン化源に隣接し、前記荷電エアゾルからイオンを受け取るためのオリフィスを備えた導管と、
    (f)前記イオンを前記導管に向けるのを助ける第2の電極と
    を含んでなり、
    前記大気圧イオン化源は、大気圧光イオン化源(APPI)である、多モードイオン化源。
  16. (a)前記請求項15に記載の多モードイオン化源と、
    (b)前記多モードイオン化源より下流にあり、前記多モードイオン化源によって生じるイオンを検出するための検出部と
    を含んでなる多モードイオン質量分析計。
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Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7135689B2 (en) * 2002-02-22 2006-11-14 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for ion production enhancement
US7132670B2 (en) * 2002-02-22 2006-11-07 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for ion production enhancement
US6825462B2 (en) * 2002-02-22 2004-11-30 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for ion production enhancement
GB2425399B (en) * 2002-05-31 2007-03-14 Waters Investments Ltd A high speed combination multi-mode ionization source for mass spectrometers
US7078681B2 (en) * 2002-09-18 2006-07-18 Agilent Technologies, Inc. Multimode ionization source
US7091483B2 (en) * 2002-09-18 2006-08-15 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for sensor control and feedback
US6646257B1 (en) * 2002-09-18 2003-11-11 Agilent Technologies, Inc. Multimode ionization source
WO2004097891A2 (en) * 2003-04-29 2004-11-11 Sri International Direct liquid injection inlet to a laser photoionization apparatus
US7199364B2 (en) * 2004-05-21 2007-04-03 Thermo Finnigan Llc Electrospray ion source apparatus
US7882799B2 (en) * 2004-10-18 2011-02-08 Msp Corporation Method and apparatus for generating charged particles for deposition on a surface
US7034291B1 (en) 2004-10-22 2006-04-25 Agilent Technologies, Inc. Multimode ionization mode separator
WO2006060130A2 (en) * 2004-11-09 2006-06-08 E.I. Dupont De Nemours And Company Ion source for a mass spectrometer
US20060255261A1 (en) * 2005-04-04 2006-11-16 Craig Whitehouse Atmospheric pressure ion source for mass spectrometry
US20070023677A1 (en) * 2005-06-29 2007-02-01 Perkins Patrick D Multimode ionization source and method for screening molecules
EP1933134A4 (en) 2005-09-16 2009-06-24 Shimadzu Corp mass
US7385190B2 (en) * 2005-11-16 2008-06-10 Agilent Technologies, Inc. Reference mass introduction via a capillary
US7411186B2 (en) * 2005-12-20 2008-08-12 Agilent Technologies, Inc. Multimode ion source with improved ionization
GB0608024D0 (en) * 2006-04-24 2006-05-31 Micromass Ltd Mass spectrometer
US7642510B2 (en) * 2006-08-22 2010-01-05 E.I. Du Pont De Nemours And Company Ion source for a mass spectrometer
EP2070102B1 (en) * 2006-09-25 2018-03-14 DH Technologies Development Pte. Ltd. Multiple sample sources for use with mass spectrometers, and apparatus, devices, and methods therefor
US8288719B1 (en) * 2006-12-29 2012-10-16 Griffin Analytical Technologies, Llc Analytical instruments, assemblies, and methods
WO2008115855A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-25 Inficon, Inc. Portable light emitting sampling probe
WO2008146333A1 (ja) * 2007-05-30 2008-12-04 Shimadzu Corporation 質量分析装置
US7659505B2 (en) 2008-02-01 2010-02-09 Ionics Mass Spectrometry Group Inc. Ion source vessel and methods
CN202196744U (zh) 2008-04-04 2012-04-18 安捷伦科技有限公司 离子源和质谱系统
GB0903908D0 (en) * 2009-03-06 2009-04-22 Micromass Ltd A dual mass spectrometry system
GB0903914D0 (en) 2009-03-06 2009-04-22 Micromass Ltd A duel source mass spectromerty system
GB0903911D0 (en) 2009-03-06 2009-04-22 Micromass Ltd A dual source mass spectrometry system
JP5461348B2 (ja) * 2010-09-01 2014-04-02 株式会社コガネイ イオン生成装置
EP2428796B1 (de) * 2010-09-09 2015-03-18 Airsense Analytics GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Ionisierung und Identifizierung von Gasen mittels UV-Strahlung und Elektronen
EP3582251B1 (en) * 2011-04-20 2020-12-16 Micromass UK Limited Atmospheric pressure ion source by interacting high velocity spray with a target
US10026600B2 (en) 2011-11-16 2018-07-17 Owlstone Medical Limited Corona ionization apparatus and method
US9443709B2 (en) * 2011-11-16 2016-09-13 Owlstone Limited Corona ionization device and method
CN103512943A (zh) * 2012-06-26 2014-01-15 吉林省维远科技有限公司 一种用于挥发性有机化合物在线检测专用质谱仪
TWI488216B (zh) * 2013-04-18 2015-06-11 Univ Nat Sun Yat Sen 多游離源的質譜游離裝置及質譜分析系統
US9018598B2 (en) * 2013-05-18 2015-04-28 Brechtel Manufacturing, Inc. Aerosol ionizer
CN105431921B (zh) * 2013-08-02 2017-08-25 株式会社岛津制作所 电离装置及质谱仪
JP6059814B2 (ja) 2013-08-30 2017-01-11 アトナープ株式会社 分析装置
JP2013254752A (ja) * 2013-09-25 2013-12-19 Shimadzu Corp 液体クロマトグラフ質量分析装置
CN104713941B (zh) * 2013-12-13 2017-12-19 中国科学院大连化学物理研究所 一种有机和无机爆炸物全面分析仪
EP3107114A4 (en) * 2014-02-10 2017-02-22 Shimadzu Corporation Mass spectrometer and mass spectrometry method
CN104269339B (zh) * 2014-10-09 2017-02-01 东华理工大学 双通道离子源喷头
CN104269340B (zh) * 2014-10-09 2017-02-01 东华理工大学 三通道离子源喷头
CN104792854B (zh) * 2015-03-31 2018-05-15 广州禾信分析仪器有限公司 一种亚微米气溶胶化学组成的实时、在线快速质谱分析系统与方法
CN105185686B (zh) * 2015-08-31 2017-05-24 中国科学院电子学研究所 采用电喷雾/电晕放电双模式离子源的离子迁移率谱仪
TWI625524B (zh) * 2016-04-14 2018-06-01 國立中山大學 使用多游離源作爲連接介面及游離技術的層析質譜裝置
CN106876241A (zh) * 2017-03-13 2017-06-20 中国石油大学(华东) 超声雾化大气压辉光放电电离装置
WO2018223111A1 (en) 2017-06-03 2018-12-06 Shimadzu Corporation Ion source for mass spectrometer
CN109256320A (zh) * 2017-07-12 2019-01-22 赵晓峰 一种三相样品进样和电离的装置
CN107607611A (zh) * 2017-09-06 2018-01-19 大连工业大学 一种应用固相萃取直接进样的高分辨率质谱分析方法
CN110534396A (zh) * 2019-07-25 2019-12-03 广州汇弘科技有限公司 复合型质谱离子源装置
JPWO2023026355A1 (ja) * 2021-08-24 2023-03-02
WO2023089685A1 (ja) * 2021-11-17 2023-05-25 株式会社日立ハイテク 質量分析計、および質量分析計の制御方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE30171E (en) 1973-08-27 1979-12-18 Hewlett-Packard Company Multiconfiguration ionization source
US3992632A (en) 1973-08-27 1976-11-16 Hewlett-Packard Company Multiconfiguration ionization source
US3886365A (en) 1973-08-27 1975-05-27 Hewlett Packard Co Multiconfiguration ionization source
US4105916A (en) 1977-02-28 1978-08-08 Extranuclear Laboratories, Inc. Methods and apparatus for simultaneously producing and electronically separating the chemical ionization mass spectrum and the electron impact ionization mass spectrum of the same sample material
US4377745A (en) 1978-12-01 1983-03-22 Cherng Chang Mass spectrometer for chemical ionization, electron impact ionization and mass spectrometry/mass spectrometry operation
US4266127A (en) 1978-12-01 1981-05-05 Cherng Chang Mass spectrometer for chemical ionization and electron impact ionization operation
JPH02135655A (ja) * 1988-11-16 1990-05-24 Hitachi Ltd 大気圧イオン化質量分析計
JP3160050B2 (ja) * 1992-03-13 2001-04-23 株式会社日立製作所 質量分析計
US5668370A (en) 1993-06-30 1997-09-16 Hitachi, Ltd. Automatic ionization mass spectrometer with a plurality of atmospheric ionization sources
JP3087548B2 (ja) 1993-12-09 2000-09-11 株式会社日立製作所 液体クロマトグラフ結合型質量分析装置
JP3415682B2 (ja) * 1994-08-10 2003-06-09 株式会社日立製作所 キャピラリー電気泳動・質量分析計
CN2195138Y (zh) * 1994-08-24 1995-04-19 东南大学 质谱计的封闭式气体放电离子源
JP3274302B2 (ja) * 1994-11-28 2002-04-15 株式会社日立製作所 質量分析計
US5808308A (en) 1996-05-03 1998-09-15 Leybold Inficon Inc. Dual ion source
US6191418B1 (en) 1998-03-27 2001-02-20 Synsorb Biotech, Inc. Device for delivery of multiple liquid sample streams to a mass spectrometer
US6630664B1 (en) 1999-02-09 2003-10-07 Syagen Technology Atmospheric pressure photoionizer for mass spectrometry
US6410914B1 (en) * 1999-03-05 2002-06-25 Bruker Daltonics Inc. Ionization chamber for atmospheric pressure ionization mass spectrometry
DE60038033T2 (de) * 1999-10-29 2009-04-23 MDS Inc. doing business through its MDS Sciex Division, Concord Atmosphärendruckphotoionisation : ein neues ionisationsverfahren für flüssigchromatographie-massenspekrometrie
SE9904318D0 (sv) * 1999-11-29 1999-11-29 Amersham Pharm Biotech Ab Method and device for electrospray ionisation
JP2002015697A (ja) * 2000-06-30 2002-01-18 Jeol Ltd エレクトロスプレー・イオン源
GB2425399B (en) * 2002-05-31 2007-03-14 Waters Investments Ltd A high speed combination multi-mode ionization source for mass spectrometers
US6646257B1 (en) * 2002-09-18 2003-11-11 Agilent Technologies, Inc. Multimode ionization source

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