JP5008317B2 - ユニポーラダイオード - Google Patents
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Description
また、請求項3に係る発明は、請求項2に記載のユニポーラダイオードにおいて、n型チャネル層と高抵抗層は、III族窒化物系化合物から成る半導体層であることを特徴とする。
請求項6に係る発明は、請求項4又は請求項5に記載のダイオードにおいて、p型領域に設けられた第3の電極を有し、陽極と第3の電極を接続したことを特徴とする。
図3は、本発明の変形例に係るユニポーラダイオード150の構成を示す断面図である。図3のユニポーラダイオード150は、図1のユニポーラダイオード100の構成において、n−GaN領域3内部の、境界面34付近下部に付加的に2つのp−GaN領域5を形成したものである。2つのp−GaN領域5は、n−GaN領域3とn−GaNから成るチャネル層2との界面3aまで達しない位置に形成されている。これにより、p−GaN領域4から延びる空乏層を更に図3右側方向に拡大させ得る作用を有する。
図1のユニポーラダイオード100、図3のユニポーラダイオード150は導電性n−GaN基板10を用いたが、サファイア基板を用いても良い。また、図1のユニポーラダイオード100のn−GaNから成るn型領域は、ドープされていないGaNを用いても良く、或いは、n−GaNから成るチャネル層2を形成可能な任意の材料で形成しても良い。図6のユニポーラダイオード300及び図7のユニポーラダイオード400の陽極Anは導電性n−GaN基板10の裏面に設けたが、n−GaNから成るチャネル層2にp型領域を介さずに電気的に接続されれば良く、任意の位置に設けることができる。
2:n−GaNから成るチャネル層
3:n−GaNから成るn型領域
4:p−GaN領域(p層)
5:p−GaN領域(p層)
10:導電性n−GaN基板
20:サファイア基板
Claims (7)
- 半導体を用いたユニポーラダイオードであって、
電流が流れるn型チャネル層と、
前記n型チャネル層の上方に形成された陰極と、
前記n型チャネル層を介して前記陰極に対して電流を供給する陽極と、
前記n型チャネル層の下方において前記n型チャネル層と接合する層であって、少なくとも前記陰極と対向する領域に形成されたp型領域と、該p型領域以外の領域に形成されたn型領域とを有する半導体層と、
前記陰極と前記陽極間に印加される電圧に応じて厚さが変化する、前記n型チャネル層と前記p型領域との接合により形成される空乏層と、
を有し、
前記電圧により、前記n型チャネル層の前記p型領域の上部領域における電流路を前記空乏層の厚さの拡大により遮断し、空乏層の厚さの縮小により導通させるようにした
ことを特徴とするユニポーラダイオード。 - 前記n型チャネル層の上部に該n型チャネル層に接合した高抵抗層を有し、
前記陰極は前記高抵抗層の上部において該高抵抗層に接合し、
前記電流路は、前記n型チャネル層と前記高抵抗層との界面に形成される2次元電子ガスによるチャネルである
ことを特徴とする請求項1に記載のユニポーラダイオード。 - 前記n型チャネル層と前記高抵抗層は、III族窒化物系化合物から成る半導体層であることを特徴とする請求項2に記載のユニポーラダイオード。
- 実質的に不純物無添加のIII族窒化物系化合物から成る平板状の高抵抗層と、
前記高抵抗層の一方の面に全面に設けられ、前記高抵抗層よりも電子親和力の大きいn型のIII族窒化物系化合物から成るn型チャネル層と、
前記高抵抗層の他方の面に互いに距離を隔てて設けられた陰極及び陽極と、
前記n型チャネル層の前記高抵抗層とは反対側の面において前記n型チャネル層と接合するIII族窒化物系化合物から成る層であって、少なくとも前記陰極と対向する領域に形成されたp型領域と、該p型領域以外の領域に形成されたn型領域とを有する半導体層と、
前記陰極と前記陽極間に印加される電圧に応じて厚さが変化する、前記n型チャネル層と前記p型領域との接合により形成される空乏層と、
を有し、
前記電圧により、前記p型領域の上部領域における前記n型チャネル層と前記高抵抗層との界面に形成れる電流路を前記空乏層の厚さの拡大により遮断し、空乏層の厚さの縮小により導通させるようにした
ことを特徴とするユニポーラダイオード。 - 実質的に不純物無添加のIII族窒化物系化合物から成る平板状の高抵抗層と、
前記高抵抗層の一方の面に全面に設けられ、前記高抵抗層よりも電子親和力の大きいn型のIII族窒化物系化合物から成るn型チャネル層と、
前記高抵抗層の他方の面に設けられた陰極と、
前記n型チャネル層の前記高抵抗層とは反対側の面において前記n型チャネル層と接合するIII族窒化物系化合物から成る層であって、少なくとも前記陰極と対向する領域に形成されたp型領域と、該p型領域以外の領域に形成されたn型領域とを有する半導体層と、
前記n型チャネル層に対して、前記n型領域を介して導通する陽極と、
前記陰極と前記陽極間に印加される電圧に応じて厚さが変化する、前記n型チャネル層と前記p型領域との接合により形成される空乏層と、
を有し、
前記電圧により、前記p型領域の上部領域における前記n型チャネル層と前記高抵抗層との界面に形成れる電流路を前記空乏層の厚さの拡大により遮断し、空乏層の厚さの縮小により導通させるようにした
ことを特徴とするユニポーラダイオード。 - 前記p型領域に設けられた第3の電極を有し、
前記陽極と前記第3の電極を接続したことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のユニポーラダイオード。 - n型のIII族窒化物系化合物から成る平板状のn層と、
前記n層の一方の面に設けられた陰極と、
前記n層の前記陰極とは反対側の面において前記n層と接合するIII族窒化物系化合物から成る層であって、少なくとも前記陰極と対向する領域に形成されたp型領域と、該p型領域以外の領域に形成されたn型領域とを有する半導体層と、
前記n層に、前記n型領域を介して導通する陽極と、
前記陰極と前記陽極間に印加される電圧に応じて厚さが変化する、前記n層と前記p型領域との接合により形成される空乏層と、
を有し、
前記電圧により、前記n層の前記p型領域の上部領域における電流路を前記空乏層の厚さの拡大により遮断し、空乏層の厚さの縮小により導通させるようにした
ことを特徴とするユニポーラダイオード。
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