JP5005702B2 - 湿度センサー - Google Patents

湿度センサー Download PDF

Info

Publication number
JP5005702B2
JP5005702B2 JP2008540727A JP2008540727A JP5005702B2 JP 5005702 B2 JP5005702 B2 JP 5005702B2 JP 2008540727 A JP2008540727 A JP 2008540727A JP 2008540727 A JP2008540727 A JP 2008540727A JP 5005702 B2 JP5005702 B2 JP 5005702B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
conductive
humidity sensor
groove
barrier material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2008540727A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009516192A (ja
Inventor
ホーフマン ロマノ
エム エム ミケロン ジュリエン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NXP BV
Original Assignee
NXP BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NXP BV filed Critical NXP BV
Publication of JP2009516192A publication Critical patent/JP2009516192A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5005702B2 publication Critical patent/JP5005702B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/22Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating capacitance
    • G01N27/223Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating capacitance for determining moisture content, e.g. humidity
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/43Electric condenser making

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

本発明は、湿度センサー及びその製造方法に関する。
既存の湿度測定デバイスは、ごく低い湿度レベルを正確に測定できないことがしばしばある。更に、既存のデザインの大部分は拡大縮小できないため、既にサイズが小さくなっている集積回路に統合することが不可能である。
米国特許第4,057,823号明細書は、集積回路に統合した湿度センサーについて記載している。集積回路の狭小な領域を、陽極エッチングによって多孔質にしている。かかる領域は、酸化されて、多孔質前記多孔質の領域の一部に蒸着した多孔質の二酸化ケイ素と金属電極とを形成している。多孔質構造によって誘電体中に広い表面積が生じるということは、環境湿度が誘電体中に拡散し、二酸化ケイ素上に吸着することを意味する。このデバイスの電気容量又は導電度は変化し、且つ測定可能である。
米国特許第4,057,823号明細書
残念ながら、この特許は1977年に遡るものであり、ここに記載されているプロセスは、現代の集積回路プロセスと容易に統合できない。また、この構造は容易に使用できない。すなわち、特許文献1中で示された実施例において、直径“60ミル(mil)”(約1.5mm)の電極は、1010オームのオーダーの抵抗値を生じるが、これは測定が難しい。抵抗を減少させるため更に面積を広げると、センサーが占めている既に広い集積回路の領域を更に広げることになる。
従って、現在の集積回路プロセスと容易に適合する方法によって製造可能であり、集積回路に統合して用いるか、又は別個のデバイスとして用いるかの何れかとすることのできる湿度センサーが依然として必要とされている。
本発明は、各々少なくとも一つの素子を有しており、これら素子は、少なくとも0.3mmの全平行長で互いに平行に延び、かつ、1μm以下で離間している第1及び第2導電性電極と、
10%超の気孔率を有し、第1導電性電極と第2導電性電極とを隔てる多孔質誘電体と、を含む湿度センサーを提供する。実施態様において、気孔率は20%超であり、特定の実施態様において、気孔率は30%超である。
半導体プロセスで使用されていた従来の絶縁体は二酸化ケイ素であり、これは約4.1の誘電率を有する。相互接続技術を改善する必要性に促されて、銅の相互接続と、絶縁体として多孔質の低誘電率(low−k)有機ケイ酸ガラス材料とを用いる改良導電層が提案されている。ここで、“k”とは誘電率を指す。
かかる多孔質の低誘電率材料は、トリコン(Trikon)社からオリオン(Orion)(登録商標)、AMAT社からBDIIx(登録商標)、アスミ(ASMi)社からオーロラ(Aurora)(登録商標)などの商標名で、化学気相蒸着(CVD)を用いた成長用に市販されている。スピンオンすることによって代替の材料を蒸着することが可能であり、かかる材料としては、ダウケミカル社(Dow Chemical)のシルク(SiLK)(登録商標)及びJSR社のLKD(登録商標)が挙げられる。
かかる多孔質材料の既知の問題は、特に全プロセスの後、(プロセスによる損傷によって親水性になる傾向があるため)湿気を吸収しうることである。
発明者らは、この性質が本発明の湿度センサーを提供するために使用可能であり、本発明は現在の集積回路プロセスに容易に統合することが可能であることを見出した。特に、該湿度センサーは、新たなプロセス技術に適したプロセス技術を用いているため、これらの技術を用いることによって、今後製造される可能性のある高度なデバイスに容易に統合できる。
好ましい実施態様において、前記第1及び第2導電性電極は相互嵌合した櫛状体であり、この櫛状体の歯は少なくとも0.3mmの全平行長で延びている素子であり、前記第1導電性素子及び前記第2導電性素子の歯は互いに1μm以下で離間している。
前記誘電体は、3.0未満の誘電率(k)を有する低誘電率誘電体であることが好ましい。かかる誘電体はオルトシリケートガラス(OSG)であることが好ましい。
実施態様において、前記第1及び第2導電性電極は銅製でもよい。他の代替物としてはアルミニウム等がある。
バリア層を導電性電極の周りに延ばして導電性電極を腐食から保護できる。かかるバリア層は誘電性でも、又は導電性でもよい。
バリアとしては、銅電極からなる両側面及び底面の第1バリア材、及び電極の上面の第2のバリア材を含むことができ、ここで該第1バリア材と第2バリア材は異なっていてもよい。
前記第2バリア材は、銅上に選択的に蒸着できるCoWB、WoWP、又はNiMoP等の材料でもよい。多孔質誘電体の更なる誘電体層がない実施態様を用いる場合には、銅線の先端をSiC又はSi等のCVD材料によって覆うことが可能であり、これは銅の拡散バリアとしての役割を果たすと共に、銅を腐食から守る。
第1バリア材は、化学気相蒸着(CVD)又は物理気相蒸着(PVD)によって蒸着してもよい。第1バリア材は金属、例えばTiN、TaN、WN、又はRuでもよい。
更に、本発明は、第1電極と第2電極の間に0.5から1MV/cmの電場を印加し、湿度の指標として、第1電極と第2電極との間を通過する電流を測定することによる、上述のような湿度センサーの使用法に関する。
更なる態様においては、10%以上の気孔率を有する多孔質誘電体を蒸着し、前記多孔質誘電体をエッチングし、それぞれ少なくとも0.3mmの全平行長で平行に延び、1μm以下で離間している素子を有する第1及び第2溝を形成し、前記溝を導電体で充填して、少なくとも0.3mmの全平行長で互いに平行に延びており、1μm以下で離間している素子を有する第1及び第2導電性電極を形成することを含む、湿度センサーの製造方法を提供する。
本発明のより良い理解のため、これから、添付図面を参照しつつ、純粋に例として実施態様を記載する。図面は模式的であり、一定の縮尺ではない。同一及び類似の部品には、異なる図面においても、同一の参照番号を付す。
図1を参照すると、約2.7の誘電定数(k)を有する低誘電率定数の多孔質オルガノシリケートガラス20を回路基板10上に蒸着する。ガラス20は10%超の気孔率を有している。気孔率は、孔の容積を、孔及び孔の間の材料を含む全容積で除したものと定義される。
その後、下層反射防止コーティング(BARC)層22を、続いてレジスト24を蒸着する。それから、該レジスト24を図2に示すようにパターン化する。前記BARC層は、レジスト24の光リソグラフ性能を改善し、特に高分解能の光リソグラフに有用である。必要なければ、前記BARC層22は省いてもよい。
次に、溝26をエッチングして、第1及び第2溝の相互嵌合した櫛状構造を画定する。その後、前記レジスト24及びBARC層22を除去し、結果として図3の配置をもたらす。
その後、第1バリア材のバリア層28を表面全体に蒸着し、溝26の側面及び底面、並びに溝間の低誘電率誘電体20を被覆する。溝の形は、溝中に形成され、完成した電極の形と同様であり、図6を参照して以下で説明する。実施例において、バリア層28は物理気相蒸着(PVD)によって蒸着したTiNからなる。
次に、導電性充填材としてバルク銅30を蒸着し、溝を充填する。
それから、化学機械研磨工程により、表面上のバリア層28を含む上層表面、溝26の間のバリア層28上の銅、及び低誘電率誘電体層20の上面を除去し、図4の構造を生じさせる。
その後、第2バリア材からなる更なるバリア層32を、自己整合工程によって蒸着する。第2バリア材は、自己整合手法により銅上に成長可能なCoWB、CoWP、又はNiMoPでもよく、図5の構造を生じさせることができる。
従って、第1バリア層28及び第2バリア層32は、協働して銅30の上面、両側面、及び底面にバリアを形成する。該バリアは銅を腐食から守る。バリア層28、32及び銅30が電極を形成する。
銅で形成された第1及び第2電極40、42の相互嵌合した櫛状構造を示す、湿度センサーの上面図を図6に与える。また、該図は、第1及び第2ボンディングパッド44、46もそれぞれ示している。前記櫛状構造は、電極の素子として歯48を有する。前記電極40、42を溝26中に形成するので、溝26は同じ構造を有していることが分かるであろう。
第1及び第2電極40、42の歯48は互い違いであり、互いに平行である。各櫛状体の歯48がもう一方の櫛状の歯と重複している全長は0.3mm超であり、歯48間の間隙は横方向に1μm未満である。このようにして、狭小な領域において大きな全長を得ることが可能になる。
当業者であれば理解できるであろうが、ボンディングパッド44、46自体を更なるアルミニウム相互接続の層によって接続し、同じ回路基板上の他のデバイスに不動態化して、湿度センサーを他のデバイスと統合してもよい。
あるいは、前記デバイスが別個のデバイスである場合、例えば接着することによってボンディングパッドと接触させてもよい。
第1電極40及び第2電極42の間を通過する電流について、図7に電極間に加えた電場の関数として二つの状態を示すが、一方は湿気ありであり、もう一方は湿気なしである。湿気無しのサンプルは、熱処理して確実に完全に乾燥させた。
前記サンプルには、相互嵌合した電極の全長が1cmで、気孔率が40%のOSG材料を使用した。電極の素子は200nm離れていた。すなわち、櫛状部分の間隙は200nmである。
湿気を有するサンプルにおいては、2MV/cm超で故障が発生することに留意されたい。
従って、使用時には、第1電極40と第2電極42との間に0.5から1MV/cmの電場を印加して電流を測定する。図7から分かるように、電流を存在している湿気の尺度として用いており、電流は、湿気が存在する場合には存在しない場合よりも数桁大きくなる。
当業者は、別のプロセスが可能であることを理解するであろう。
図8は、更なる低誘電率誘電体層50を図5の構造の上に蒸着した一代替実施態様を示す。
更なる代替案を図9に示す。これは、より厚い低誘電体層20を形成し、次に、溝26を、この層全体ではなく、所定の厚さのみをエッチングすることによって行われる。
この実施態様では、電極40、42を多孔質低誘電率誘電体で囲んでいる。
当業者は、これらデバイスのプロセスの詳細に関して、多くの別法をとることが可能であることに気づくであろう。
特に、適切である如何なる多孔質低誘電率誘電体又はバリア材を使用してもよい。銅の代わりにアルミニウム電極を使用してもよい。
回路基板はシリコン基板でもよく、絶縁基板等の任意の代替回路基板もまた使用できる。
前記湿度センサーは、回路基板上に単一のセンサーとして形成可能であり、あるいは、集積回路に統合してもよい。
図1は、本発明の湿度センサーの製造方法の工程における側断面図を示す。 図2は、本発明の湿度センサーの製造方法の工程における側断面図を示す。 図3は、本発明の湿度センサーの製造方法の工程における側断面図を示す。 図4は、本発明の湿度センサーの製造方法の工程における側断面図を示す。 図5は、本発明の湿度センサーの製造方法の工程における側断面図を示す。 図6は、図5の湿度センサーの上面図である。 図7は、図5及び図6の湿度センサーで行なった測定結果を示す。 図8は、湿度センサーの代替の実施態様の側断面図を示す。 図9は、湿度センサーの代替の実施態様の側断面図を示す。

Claims (8)

  1. 各々少なくとも一つの素子(48)を有しており、これら素子は、少なくとも0.3mmの全平行長で互いに平行に延び、かつ、1μm以下で離間している第1及び第2導電性電極(40、42)と、
    10%超の気孔率を有し、第1導電性電極(40)と第2導電性電極(42)とを隔てる多孔質誘電体(20)と、
    腐食から導電性電極を保護するために導電性電極の周囲に延びるバリア層(28、32)と、
    を具え、
    前記多孔質誘電体(20)が、3.0未満の誘電率を有する低誘電率誘電体オルトシリケートガラスであ
    前記バリア層(28、32)が、導電性電極(40、42)の両側面及び底面の第1バリア材(28)、及び導電性電極(40、42)の上面の第2バリア材(32)を含み、前記第1バリア材と前記第2バリア材とが異なる、
    湿度センサー。
  2. 前記第1及び第2導電性電極が相互嵌合した櫛状体であり、該櫛状体の歯(48)は少なくとも0.3mmの全平行長で延びている素子であり、前記第1及び第2導電性素子の歯は互いに1μm以下で離間している、請求項1に記載の湿度センサー。
  3. 前記第2バリア材(32)は、導電性電極材料上に選択的に蒸着することが可能なバリア材である、請求項1又は2に記載の湿度センサー。
  4. 前記第2バリア材(32)が誘電体バリアである請求項1又は2に記載の湿度センサー。
  5. 第1バリア材(28)が金属である、請求項の何れか一項に記載の湿度センサー。
  6. 第1電極と第2電極との間に0.5から1MV/cmの電場を印加し、
    湿度の指標として第1電極と第2電極(40、42)との間を通過する電流を測定する、
    請求項1〜の何れか一項に記載の湿度センサーの使用法。
  7. 少なくとも10%の気孔率を有する多孔質誘電体(20)を蒸着し;
    多孔質誘電体をエッチングして、それぞれ少なくとも一個以上の素子を有する第1溝及び第2溝(26)を形成し、ここで前記第1溝及び第2溝(26)の前記素子は、少なくとも0.3mmの全平行長で互いに平行に延びており、1μm以下で離間しており;
    前記溝(26)を導電体で充填して、少なくとも0.3mmの全平行長で平行に延びており、1μm以下で離間している素子を有する第1及び第2導電性電極(40、42)を形成し、
    前記溝を充填する工程が
    前記溝(26)の両側面上及び底面上に第1バリア材のバリア層(28)を蒸着すること、及び
    前記溝(26)に導電性充填材(30)を充填する、
    ことを含み、
    前記多孔誘電体(20)が、3.0未満の誘電率を有する低誘電率誘電体(20)であ
    更に、前記溝(26)を導電性充填材(30)で充填した後、第2バリア材(32)を前記導電性充填材上に選択的に蒸着して、導電性充填材(30)の上面、両側面及び底面に延びているバリア層(28、32)を形成する
    湿度センサーの製造方法。
  8. 前記第1及び第2溝(26)、並びに第1電極及び第2電極(40、42)が相互嵌合した櫛状体であり、前記櫛状体の歯は少なくとも0.3mmの全平行長で延びており、各櫛状体の歯がもう一方の櫛状体の歯との間で1μm以下離間している、請求項に記載の方法。
JP2008540727A 2005-11-17 2006-10-24 湿度センサー Active JP5005702B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05110874 2005-11-17
EP05110874.4 2005-11-17
PCT/IB2006/053907 WO2007057794A1 (en) 2005-11-17 2006-10-24 Moisture sensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009516192A JP2009516192A (ja) 2009-04-16
JP5005702B2 true JP5005702B2 (ja) 2012-08-22

Family

ID=37835286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008540727A Active JP5005702B2 (ja) 2005-11-17 2006-10-24 湿度センサー

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8079248B2 (ja)
EP (1) EP1952134A1 (ja)
JP (1) JP5005702B2 (ja)
CN (1) CN101310175A (ja)
WO (1) WO2007057794A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2934051B1 (fr) * 2008-07-16 2011-12-09 Commissariat Energie Atomique Detecteur d'humidite capacitif a dielectrique hydrophile nanoporeux
EP2282333B1 (en) * 2009-07-27 2013-03-20 Nxp B.V. Integrated circuit comprising moisture sensor
EP2336758B1 (en) * 2009-12-16 2012-08-29 Nxp B.V. Capacitive sensor
FR2990757B1 (fr) * 2012-05-15 2014-10-31 Commissariat Energie Atomique Capteur capacitif a materiau poreux ayant un agencement ameliore
EP2867659A4 (en) * 2012-05-30 2016-03-16 Medisens Wireless Inc SYSTEM AND METHOD FOR FLUID DETECTION
EP2708878B1 (en) 2012-09-12 2020-04-22 ams international AG Method of manufacturing an integrated circuit comprising a gas sensor
US10175188B2 (en) 2013-03-15 2019-01-08 Robert Bosch Gmbh Trench based capacitive humidity sensor
US9285334B2 (en) * 2013-06-06 2016-03-15 Zhi David Chen Hybrid dielectric moisture sensors
CN103630582B (zh) * 2013-12-11 2016-02-10 江苏物联网研究发展中心 一种mems湿度传感器及制备方法
TWI515429B (zh) * 2014-03-12 2016-01-01 友達光電股份有限公司 化學感測器及其製造方法
US9494538B2 (en) * 2014-04-04 2016-11-15 Deere & Company Agricultural moisture sensor with co-planar electrodes
JP6770238B2 (ja) 2017-03-31 2020-10-14 ミツミ電機株式会社 湿度センサ
JP7120519B2 (ja) 2018-07-12 2022-08-17 ミネベアミツミ株式会社 湿度センサ及びその製造方法
DE102018215018A1 (de) * 2018-09-04 2020-03-05 Infineon Technologies Ag Feuchtigkeitssensor
CN109724758A (zh) * 2018-12-11 2019-05-07 努比亚技术有限公司 一种进水检测装置、方法、移动终端及存储介质
CN115867797A (zh) 2020-07-02 2023-03-28 伊鲁米纳公司 具有场效应晶体管的装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4057823A (en) 1976-07-02 1977-11-08 International Business Machines Corporation Porous silicon dioxide moisture sensor and method for manufacture of a moisture sensor
GB8411981D0 (en) 1984-05-10 1984-06-13 Atomic Energy Authority Uk Sensors
ATE310950T1 (de) 1999-12-08 2005-12-15 Sensirion Ag Kapazitiver sensor
DE10134938A1 (de) * 2001-07-18 2003-02-06 Bosch Gmbh Robert Halbleiterbauelement sowie ein Verfahren zur Herstellung des Halbleiterbauelements
JP2003270189A (ja) * 2002-03-20 2003-09-25 Denso Corp 容量式湿度センサ
TW573119B (en) * 2002-08-28 2004-01-21 Nanya Technology Corp A moisture detecting method, a moisture detecting device and method of fabricating the same
US20040149032A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-05 Sell Jeffrey A Liquid level sensor
US7202177B2 (en) * 2003-10-08 2007-04-10 Lam Research Corporation Nitrous oxide stripping process for organosilicate glass
EP1730506B1 (en) * 2004-04-02 2018-09-26 Silicon Laboratories Inc. An integrated electronic sensor
DE102004031135A1 (de) * 2004-06-28 2006-01-19 Infineon Technologies Ag Resistives Halbleiterelement basierend auf einem Festkörperionenleiter
JP4492947B2 (ja) * 2004-07-23 2010-06-30 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
US7502109B2 (en) * 2005-05-17 2009-03-10 Honeywell International Inc. Optical micro-spectrometer

Also Published As

Publication number Publication date
EP1952134A1 (en) 2008-08-06
CN101310175A (zh) 2008-11-19
WO2007057794A1 (en) 2007-05-24
US20080316673A1 (en) 2008-12-25
US8079248B2 (en) 2011-12-20
JP2009516192A (ja) 2009-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5005702B2 (ja) 湿度センサー
US8174084B2 (en) Stress sensor for in-situ measurement of package-induced stress in semiconductor devices
JP4637914B2 (ja) 電気的構成部材
US10197520B2 (en) Integrated circuit with sensor and method of manufacturing such an integrated circuit
JP5547296B2 (ja) 湿度検出センサ及びその製造方法
US20050199041A1 (en) Sensor assembly for measuring a gas concentration
EP2416147A1 (en) Sensor device and manufacturing method
KR20110098441A (ko) 그라핀 전자 소자 및 제조방법
JP2002520841A (ja) パッシベーションを有する半導体素子
US10324054B2 (en) Method of manufacturing sensor device
KR20100104448A (ko) 커패시터 구조물 및 그 제조 방법
JP2005221450A (ja) 物理量センサ
JP2010192605A5 (ja)
US11674916B2 (en) Gas sensor
CN108231615B (zh) 确定集成芯片上的受监测层的特性的方法
KR101839811B1 (ko) 마이크로 센서
CN207217500U (zh) 集成电路和集成电路系统
CN108574042B (zh) 一种单芯片单轴或多轴磁阻传感器及其制造方法
CN105980840B (zh) 制造具有凸起接触的半导体器件的方法
JP2010165864A (ja) 半導体装置の製造方法
US20150108973A1 (en) Magnetic sensor and method for manufacturing the same
CN107003262B (zh) 电容式湿度传感器
JP2009002802A (ja) 被水センサおよび結露センサ
JP6569901B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
EP2738551B1 (en) Biosensor module comprising a biocompatible electrode

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111108

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120119

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120126

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120425

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120522

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120523

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5005702

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250