JP5001599B2 - 固体レーザ発振装置 - Google Patents
固体レーザ発振装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5001599B2 JP5001599B2 JP2006203383A JP2006203383A JP5001599B2 JP 5001599 B2 JP5001599 B2 JP 5001599B2 JP 2006203383 A JP2006203383 A JP 2006203383A JP 2006203383 A JP2006203383 A JP 2006203383A JP 5001599 B2 JP5001599 B2 JP 5001599B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solid
- state laser
- resonator
- light
- excitation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
- H01S3/09415—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0627—Construction or shape of active medium the resonator being monolithic, e.g. microlaser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094084—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light with pump light recycling, i.e. with reinjection of the unused pump light, e.g. by reflectors or circulators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/1022—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/1305—Feedback control systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/32—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures
- H01S5/323—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/32308—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm
- H01S5/32341—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising PN junctions, e.g. hetero- or double- heterostructures in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser emitting light at a wavelength less than 900 nm blue laser based on GaN or GaP
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
例えば、Nd:YVO4(1at%添加濃度)では、励起光吸収係数α=30cm-1(励起波長808.9nm)が得られ、結晶長1mmにて、シングルパス吸収率ηabsは95%にも達する。つまり、励起パワーを結晶長1mmで効率良く吸収することができる。Nd:YAG(濃度1at%)では、励起光吸収係数α=5cm-1(励起波長808nm)であるため、結晶長2mm程度で、シングルパス吸収率ηabs=63%が得られる。一般的には、励起光の吸収率を高めることが、高い固体レーザ装置の総合効率(電気入力から光出力への効率)向上のために必須である。また短い結晶長で励起光を吸収できるため、小型LD励起固体レーザ装置が実現可能である。
一般的に、単一周波数連続発振LDのスペクトル線幅は、100kHzから10MHz程度であるため、その場合のコヒーレンス長は、Lc=9.5m(10MHz)〜950m(100kHz)と非常に長く取れる。このため、報告例のレーザ装置(外部共振器の共振器長<1cm)では、励起光は実効的に外部共振器内を完全にコヒーレント光として往復することになり、先に述べた励起光が強めあう効果が期待できる。
前記固体レーザ媒質の両端面が、前記励起光を共振させる共振ミラーとして機能する第2の共振器を構成するものであり、
前記励起手段が、前記励起光として2つ以上の縦モードを有するとともに前記第2の共振器の共振器長以上のコヒーレンス長を有するレーザ光を出力し、前記第2の共振器内で共振するように前記固体レーザ媒質に入力するものであることを特徴とするものである。
を満たすものであることが望ましい。
前記固体レーザ媒質の一端面と前記非線形媒質の一端面とが接合されており、
前記固体レーザ媒質の他端面と前記非線形媒質の他端面とにより、前記発振光および前記励起光の両者を共振させる共振器が構成されており、
前記励起手段が、前記励起光として2つ以上の縦モードを有するとともに前記共振器の共振器長以上のコヒーレンス長を有するレーザ光を出力し、前記共振器内で共振するように前記固体レーザ媒質に入力するものであることを特徴とするものである。
2 励起用レーザ
3 共振器
4 固体レーザ媒質(レーザ結晶)
5 制御器
6 受光素子
7 励起光
8 発振光
9 出力光
10 ハーフミラー
M1、M2、M3 ミラー
Claims (13)
- 希土類イオンあるいは遷移金属イオンを添加した固体レーザ媒質と、該固体レーザ媒質が内部に配置され、該固体レーザ媒質からの出力光をレーザ発振させるための第1の共振器と、前記固体レーザ媒質を励起する励起光を出力する励起手段とを備えた固体レーザ発振装置において、
前記固体レーザ媒質の両端面が、前記励起光を共振させる共振ミラーとして機能する第2の共振器を構成するものであり、
前記励起手段が、前記励起光として2つ以上の縦モードを有するとともに前記第2の共振器の共振器長以上のコヒーレンス長を有するレーザ光を出力し、前記第2の共振器内で共振するように前記固体レーザ媒質に入力するものであることを特徴とする固体レーザ発振装置。 - 前記固体レーザ媒質の前記励起光に対する吸収率がシングルパスで40%以下であることを特徴とする請求項1記載の固体レーザ発振装置。
- 前記固体レーザ媒質の前記励起光に対する吸収率がシングルパスで20%以下であることを特徴とする請求項1記載の固体レーザ発振装置。
- 前記固体レーザ媒質の前記励起光に対する吸収率がシングルパスで10%以下であることを特徴とする請求項1記載の固体レーザ発振装置。
- 前記固体レーザ媒質が可視光を発光するものであることを特徴とする請求項1から5いずれか1項記載の固体レーザ発振装置。
- 前記励起手段がGaN系半導体レーザを備えていることを特徴とする請求項1から6いずれか1項記載の固体レーザ発振装置。
- 前記固体レーザ媒質の両端面が、前記第1の共振器をも構成するものであることを特徴とする請求項1から7いずれか1項記載の固体レーザ発振装置。
- 前記第1の共振器内に、前記固体レーザ媒質からの発振光の波長を変換する波長変換素子である非線形媒質を備えたことを特徴とする請求項1から7いずれか1項記載の固体レーザ発振装置。
- 希土類イオンあるいは遷移金属イオンが添加された固体レーザ媒質と、該固体レーザ媒質からの発振光の波長を変換する波長変換素子である非線形媒質と、前記固体レーザ媒質を励起する励起光を出力する励起手段とを備え、
前記固体レーザ媒質の一端面と前記非線形媒質の一端面とが接合されており、
前記固体レーザ媒質の他端面と前記非線形媒質の他端面とにより、前記発振光および前記励起光の両者を共振させる共振器が構成されており、
前記励起手段が、前記励起光として2つ以上の縦モードを有するとともに前記共振器の共振器長以上のコヒーレンス長を有するレーザ光を出力し、前記共振器内で共振するように前記固体レーザ媒質に入力するものであることを特徴とする固体レーザ発振装置。 - 前記励起手段と、前記固体レーザ媒質とが同一のパッケージに搭載されていることを特徴とする請求項1から10いずれか1項記載の固体レーザ発振装置。
- 前記励起手段と前記固体レーザ媒質とが単一の支持体もしくは接合されて一体化した支持体により保持されていることを特徴とする請求項11記載の固体レーザ発振装置。
- 前記励起手段と固体レーザ媒質とを温度調節する温度調節手段をさらに備えていることを特徴とする請求項1から12いずれか記載の固体レーザ発振装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006203383A JP5001599B2 (ja) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | 固体レーザ発振装置 |
US11/828,777 US7769070B2 (en) | 2006-07-26 | 2007-07-26 | Solid state laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006203383A JP5001599B2 (ja) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | 固体レーザ発振装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034459A JP2008034459A (ja) | 2008-02-14 |
JP5001599B2 true JP5001599B2 (ja) | 2012-08-15 |
Family
ID=39123600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006203383A Expired - Fee Related JP5001599B2 (ja) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | 固体レーザ発振装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7769070B2 (ja) |
JP (1) | JP5001599B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009004525A (ja) * | 2007-06-21 | 2009-01-08 | Fujitsu Ltd | 光源モジュール |
EP2325955A1 (en) * | 2009-11-23 | 2011-05-25 | Klastech- Karpushko Laser Technologies GmbH | Resonant cavity optically pumped laser and method of operating the same |
DE102010009048A1 (de) * | 2010-02-23 | 2011-08-25 | LPKF Laser & Electronics AG, 30827 | Laseranordnung |
JP2018094155A (ja) * | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 株式会社ユニタック | 皮膚レーザ治療器 |
WO2019221770A2 (en) * | 2017-10-06 | 2019-11-21 | Alakai Defense Systems, Inc. | Uv lasers and uv raman systems for effective and efficient molecular species identification with raman spectroscopy |
WO2019123516A1 (ja) | 2017-12-18 | 2019-06-27 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、euv光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 |
RU2738096C1 (ru) * | 2020-02-19 | 2020-12-08 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарёва" | Компактный твердотельный лазер красного диапазона спектра |
CN117293636B (zh) * | 2023-11-27 | 2024-02-23 | 长春理工大学 | 一种双梳中红外振荡器 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4860304A (en) * | 1988-02-02 | 1989-08-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Solid state microlaser |
US5048047A (en) * | 1990-09-12 | 1991-09-10 | International Business Machines Corporation | Passive absorptive resonator laser system and method |
JP2761678B2 (ja) * | 1991-05-10 | 1998-06-04 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザーダイオードポンピング固体レーザー |
JP2670647B2 (ja) * | 1991-05-10 | 1997-10-29 | 富士写真フイルム株式会社 | レーザーダイオードポンピング固体レーザー |
JP3036254B2 (ja) * | 1992-03-03 | 2000-04-24 | 松下電器産業株式会社 | 短波長光源 |
JPH06350168A (ja) * | 1993-06-08 | 1994-12-22 | Hitachi Metals Ltd | 固体レーザ発振器 |
JP2001036176A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザーダイオード励起固体レーザー |
JP2001257422A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体レーザモジュール |
US6816532B2 (en) * | 2001-05-15 | 2004-11-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser-diode-excited laser apparatus, fiber laser apparatus, and fiber laser amplifier in which laser medium doped with one of ho3+, sm3+, eu3+, dy3+, er3+, and tb3+is excited with gan-based compound laser diode |
-
2006
- 2006-07-26 JP JP2006203383A patent/JP5001599B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-07-26 US US11/828,777 patent/US7769070B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080069156A1 (en) | 2008-03-20 |
JP2008034459A (ja) | 2008-02-14 |
US7769070B2 (en) | 2010-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5001599B2 (ja) | 固体レーザ発振装置 | |
US11611194B2 (en) | Generation of high-power spatially-restructurable spectrally-tunable beams in a multi-arm-cavity VECSEL-based laser system | |
US5627849A (en) | Low amplitude noise, intracavity doubled laser | |
CA2758762C (en) | Intra-cavity optical parametric oscillator | |
EP0943167B1 (en) | Frequency conversion laser | |
JP2004504732A (ja) | 安定な固体ラマンレーザおよびそれを動作させる方法 | |
JP2015507348A (ja) | 波長可変型のvecselラマンレーザ | |
US8830565B2 (en) | Control of relaxation oscillations in intracavity optical parametric oscillators | |
US20100027571A1 (en) | Stabilized near-infrared laser | |
JP6214070B2 (ja) | 深紫外レーザ発生装置および光源装置 | |
JPH04283977A (ja) | レーザーダイオードポンピング固体レーザー | |
JP4231829B2 (ja) | 内部共振器型和周波混合レーザ | |
US5341393A (en) | Laser-diode-pumped solid-state laser | |
JP2002141588A (ja) | 固体レーザ装置および固体レーザ装置システム | |
JP5001598B2 (ja) | 固体レーザ発振装置および固体レーザ増幅装置 | |
JP4837830B2 (ja) | 高電力外部空洞光学的ポンピング半導体レーザー | |
EP3516747A1 (en) | Cascaded, long pulse and continuous wave raman lasers | |
US20070030878A1 (en) | Laser arrangement and method for the generation of a multimode operation with intracavity frequency doubling | |
Hao et al. | Single-frequency laser at 473 nm by twisted-mode technique | |
JP2010512651A (ja) | レーザ | |
JP6311619B2 (ja) | レーザモジュール及びレーザ装置 | |
McConnell et al. | Cavity-augmented frequency tripling of a continuous wave mode-locked laser | |
JP2670637B2 (ja) | レーザーダイオードポンピング固体レーザー | |
Quehl et al. | A tunable dual frequency Tm: YAG laser | |
JPH04335587A (ja) | レーザーダイオードポンピング固体レーザー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090217 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120321 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120515 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120518 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5001599 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |