JP4997421B2 - 可視光応答型光触媒の製造方法 - Google Patents
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Description
なお、プラズマ窒化処理では、チタンの温度を150℃〜250℃に保つのが好ましく、さらには、チタンの温度を200℃付近に保つことがより好ましい。
なお、窒素酸化物雰囲気は、二酸化窒素であることがより好ましい。
なお、プラズマ窒化処理では、圧力200Paの真空炉内にチタン材を保持し、チタン材と真空炉との間に590Vの電圧を印加し、電源の入/切を繰り返すことによりチタン材の温度を200℃に保つのがより好ましい。
図1は、本発明の一実施形態にかかる可視光応答型光触媒の製造方法を実施するための製造装置の構成を模式的に示した図である。
真空チャンバ2は、内部を所定の圧力に保つための真空管21と、真空管21内に設けられた基台22と、真空チャンバ2内の圧力を調整する圧力調整部23と、真空チャンバ2内の被処理物の温度を調整する温度調整部24とを備えている。
基台22は、陰極側の電極として機能するものであり、かつ、上面に被処理物を載置しておくためのものである。
圧力調整部23は、ガス供給部3の動作を制御して真空管21内を所定の圧力に保つものである。
温度調整部24は、基台22に載置された被処理物の温度を随時検知して後述のプラズマ電源4の動作を制御している。
プラズマ電源4は、真空管21と基台22との間に所定の電圧を印加して真空チャンバ2内でグロー放電を発生させるものである。
排気パイプ5は、真空チャンバ2内のガスを排気して真空にするためのものであり、図示しないコックにより開閉可能となっている。通常は、排気パイプ5のコックは閉められていて、真空チャンバ2は密閉された状態となっている。
基台22にTi基板(20×20mm)を載置し、真空チャンバ2内に二酸化窒素(NO2)を供給し、希釈ガスとして窒素ガス(N2)を用いてその濃度を33%に保った。また、真空チャンバ2内の圧力は、200Paとした。そして、Ti基板の温度を100℃としてプラズマ窒化処理を行ったもの、150℃としてプラズマ窒化処理を行ったもの、200℃としてプラズマ窒化処理を行ったもの、250℃としてプラズマ窒化処理を行ったもの、300℃としてプラズマ窒化処理を行ったものおよび550℃としてプラズマ窒化処理を行ったものの6種類を作成した。また、各プラズマ窒化処理はそれぞれ3時間行った。
このグラフから、各サンプルは、作成温度が上昇するのに伴い、スペクトルの吸収端が長波長側にシフトしているのが確認できる。また、可視光領域であるλ>380nmの波長の光を吸収していることも確認でき、Ti−O−N構成を有していることも確認できる。
真空チャンバ2内に二酸化窒素(NO2)を供給し、その濃度を、10%、20%および50%の3種類として、実験例1と同様の方法でサンプルを作成した。なお、各サンプルの温度は、常時200℃に保った。そして、実験例1と同様に、各サンプルについて光吸収を調べ、さらに、アセトアルデヒド分解能測定を行った。図4には、光吸収の結果を、図5には、アセトアルデヒド分解能測定の結果を示した。
真空チャンバ2内に供給するガスの種類を二酸化窒素(NO2)、一酸化窒素(NO)および亜酸化窒素(N2O)の3種類としてそれぞれにおいてサンプルを作成した。さらに、各ガスを用いた場合において、サンプルの温度を200℃に保ったもの、300℃に保ったものおよび500℃に保ったものの3種類を作成した。また、各ガスの濃度は33%に保った。そして、実験例1と同様に、各サンプルについて光吸収を調べ、さらに、アセトアルデヒド分解能測定を行った。なお、実験例3では、光を全く照射しない暗条件下と可視光領域の光を照射した明条件下とに切替えて実験を行った。
2 真空チャンバ
3 ガス供給部
4 プラズマ電源
23 圧力調整部
24 温度調整部
Claims (3)
- 可視光の照射に応答して光触媒反応を起こす可視光応答型光触媒の製造方法であって、
窒素ガスと窒素酸化物の雰囲気中においてチタン材に対してプラズマ窒化処理を施し、当該プラズマ窒化処理中はチタン材の温度を100℃〜300℃に保つようにすることを特徴とする可視光応答型光触媒の製造方法。
- 前記窒素酸化物は、二酸化窒素、一酸化窒素または亜酸化窒素のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型光触媒の製造方法。
- 前記プラズマ窒化処理は、圧力150Pa〜250Paの真空炉内にチタン材を保持し、チタン材と真空炉との間に550V〜650Vの電圧を印加し、電源の入/切を繰り返すことによりチタン材の温度を100℃〜300℃に保つものであることを特徴とする請求項1または2に記載の可視光応答型光触媒の製造方法。
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