JP4985755B2 - 培養カプセル内の培養ガス置換方法及び培養カプセル - Google Patents
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Description
請求項2記載の発明は、細胞培養カプセルであって、専用ディッシュを収容し得るディッシュ架台を有し下部をガス緩衝液槽とした培養カプセル本体に、本体内部を密閉する蓋体を設けると共に、前記ガス緩衝液槽内に注入したガス緩衝液表面と1乃至3mmの間隙を有し該液表面の直近に開口したガス供給チューブを設けている。
請求項3記載の発明は、緩衝液表面とディッシュ架台下部との間に保湿用無菌不織布を設置した。
培養カプセル4は底部にガス緩衝液34を満たせるカプセル本体4aと、メンブレンフィルター6及びガス供給チューブ5を有するカプセル蓋体4bとよりなり、カプセル本体4a内にはディッシュ架台8を内装している。ディッシュ架台8には複数段にディッシュ2をガス緩衝液3上の空間に支持している。ディッシュ2には組織細胞10と培養液1を収容する。ディッシュ架台8の下部にはガス緩衝液3の液面との間隙内に予めガス緩衝液で湿らせた無菌の保湿用不織布9を適宜手段で支持し、培養液1の蒸発量を低減させるようにしている。
前記延長チューブ12は、ガス供給チューブ5の伸縮性により完全密閉され、外部に漏れることなく、蓋体4bへの入口部位16も、同様にその伸縮性で完全密閉が保持できる。ガス供給延長チューブ12は、ガス緩衝液3の液面より1〜3mmの位置にて培養ガスが供給されるよう、予め長さが調整されており、ガス緩衝液3の液面の位置は、培養カプセル4の液面印に合わせ充填することで一定に管理できる。
基本的には供給される混合ガスは無菌・無塵ではあるが、配管中や電磁弁の潜在的に残留する付着物の再離散があるため、培養カプセル4の直前にガスラインヘパフィルター20を装着し、その後に接続されたガス供給チューブ5より培養カプセル4内に培養ガスを供給する。
培養カプセル4内への培養ガス供給構造の詳細を図4に示す。
培養ガスが置換された後の培養カプセル4内の空気は、図5に示す培養ガス出口より排出されるが、万が一に培養ガスが供給されなかった場合の逆流を考慮し、孔径0.2μmのメンブレンフィルター6を装着している。
本発明により、従来の直接培養ガスを置換する方法に対し、蒸発量を1/5以下に低減することができ、かつ、ガス緩衝液のバブリング時に飛散する水滴汚染を無くし、ほぼ同等の培養液の蒸発量とすることが可能となった。また、その保湿効果は保湿用の無菌不織布を設置することにより、更に培養液の蒸発量を抑えることができる。
2 ディッシュ
3 ガス緩衝液
4 培養カプセル
4a カプセル本体
4b カプセル蓋体
5 ガス供給チューブ
6 メンブレンフィルター
8 ディッシュ架台
9 保湿用不織布
10 組織細胞
11 開口端
12 延長チューブ
13 混合ガスボンベ
14 回路
15 コネクター
16 入口部位
17 減圧弁
18 流量調整弁
19 電磁弁
20 ヘパフィルター
Claims (3)
- 培養液を入れたディッシュを収容し得るディッシュ架台を有する密閉容器よりなり、底部にガス緩衝液を満たした培養カプセルの内部にガスを導入するに際して、前記ガスを供給するチューブを、前記ガス緩衝液面の直近に開口し、培養ガスを吹き当てることにより、積極的にガス緩衝液を蒸発させると共に、ガス緩衝液のバブリングによる水滴飛散を発生することなく培養カプセル内を保湿し、培養液の蒸発を防止することを特徴とする培養カプセルにおける培養ガス置換方法。
- 専用ディッシュを収容し得るディッシュ架台を有し下部をガス緩衝液槽とした培養カプセル本体に、本体内部を密閉する蓋体を設けると共に、前記ガス緩衝液槽内に注入したガス緩衝液表面と1乃至3mmの間隙を有し該液表面の直近に開口したガス供給チューブを設けたことを特徴とする細胞培養カプセル。
- 緩衝液表面とディッシュ架台下部との間に保湿用無菌不織布を設置したことを特徴とする請求項2記載の細胞培養カプセル。
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