JP4979055B2 - ゴム材料、それを用いたゴム組成物及び架橋ゴム - Google Patents
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Description
・シリカ:日本シリカ(株)製 VN3
・シランカップリング剤:デグサ社製 Si69
・亜鉛華:三井金属鉱業(株)製 亜鉛華1号
・ステアリン酸:花王(株)製 ルナックS−20
・硫黄:細井化学工業(株)製 ゴム用粉末硫黄
・加硫促進剤;大内新興化学工業(株)製 ノクセラーCZ
NR(RSS#3)100重量部、カーボンブラック(昭和キャボット(株)製、ショウブラックN330)50重量部、亜鉛華(同上)3重量部、ステアリン酸(同上)2重量部、硫黄(同上)2重量部、加硫促進剤(同上)1重量部を、ロールにより混練して160℃、20分の条件で加硫して架橋ゴムを作製した。
160℃、20分の加硫条件で得た加硫ゴムについて、光学顕微鏡(300倍)にてゴム断面を観察し、シリカ分散度を10段階にランク付けした限度見本に従い評価した。3名の評価による結果を平均し、比較例1を100とする指数で示した。値が大きいほど分散性が良好である。
各ゴム組成物をトレッド部に適用したサイズ215/60R16のラジアルタイヤを常法に従い製造し、1軸ドラム試験機を用い、内圧200kPa、負荷荷重400Kg、速度80Km/hでドラム上を走行する時の転がり抵抗を測定し、次式により各試験タイヤの転がり抵抗指数を計算し、比較例1のタイヤを100とする指数で示した。値が大きいほど転がり抵抗が小さく燃費性が良好である。
転がり抵抗(指数)=(比較例1タイヤの転がり抵抗)×100/(各タイヤの転がり抵抗)
Claims (7)
- ジフェニルジスルフィドを脱架橋剤として用い、二酸化炭素の溶媒下に加熱処理することにより、架橋ゴムを脱架橋反応させることを特徴とするゴム材料用高分子化合物の製造方法。
- 前記加熱処理の際、二酸化炭素が超臨界状態下であることを特徴とする請求項1に記載のゴム材料用高分子化合物の製造方法。
- 前記高分子化合物は、フェニルスルフィド基の含有量が1〜10重量%であり、数平均分子量が10,000から500,000であることを特徴とする請求項1または2に記載のゴム材料用高分子化合物の製造方法。
- ゴム材料用高分子化合物が、ゴム組成物中のシリカの分散性向上剤である請求項1〜3の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかの方法で得られた高分子化合物を、ジエン系ゴムをゴム主成分とするゴム成分100重量部中に、0.5〜30重量部含ませるとともに、シリカを該ゴム成分100重量部に対して20〜120重量部添加したことを特徴とする、空気入りタイヤのトレッドゴム用組成物の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかの方法で得られた高分子化合物を、ジエン系ゴムをゴム主成分とするゴム成分100重量部中に、0.5〜30重量部含ませるとともに、シリカを該ゴム成分100重量部に対して20〜120重量部添加したことを特徴とする、シリカの分散性が向上したゴム組成物の製造方法。
- 硫黄架橋されたゴムを脱架橋して得られる高分子化合物からなり、該高分子化合物は、分子中にフェニルスルフィド基を1〜10重量%含有し、数平均分子量が10,000〜500,000であることを特徴とする、ゴム組成物中のシリカの分散性向上剤。
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