JP4975289B2 - カーボンナノウォールを用いた電子素子 - Google Patents
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Description
本発明者は、カーボンナノウォールに関して、電圧電流特性を測定したところ、負性抵抗領域があること、履歴特性があること、微分抵抗値が電圧値によって変化する非線形特性があることなどを発見した。
本発明は、この発見に基づいて成された、カーボンナノウォールを用いた電子素子であり、本発明の従来技術は存在しない。
また、請求項2の発明は、基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、電圧電流特性において履歴を有し、同一電圧において異なる2値の抵抗値を有する電子素子である。
請求項4の発明は、基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、微分抵抗が電圧値に応じて変化する非線形特性を有する電子素子である。
また、請求項4の電子素子は、歪み発生器、変調器、その他の非線形素子として用いることができる。
第二電極(アノード)24は、反応室10内で第一電極22から離して配置される。両電極22,24の間隔は、例えば0.5〜10cm程度とすることができる。本実施例では約5cmとした。第二電極24は接地されている。カーボンナノウォールの製造時には、この第二電極24上に基板(基材)5を配置する。例えば、基材5のうちカーボンナノウォールを製造しようとする面が露出する(第一電極22に対向する)ようにして、第二電極24の表面上に基板5を配置する。第二電極24には、基材温度調節手段としてのヒータ25(例えばカーボンヒータ)が内蔵されている。必要に応じてこのヒータ25を稼動させることによって基板5の温度を調節することができる。
図2に示すように、基板には0.5mmの石英ガラス70と、図3に示すように、表面上に0.1μmのSiO2 膜72を形成した0.5mmのシリコン基板71とを用いた。これらの基板70、71上にカーボンナノウォール73、74を形成した。本実験例では、原料ガス32としてC2 F6 を使用した。ラジカル源ガス36としては水素ガス(H2 )を使用した。なお、カーボンナノウォールを堆積させる基板表面には、触媒(金属触媒等)を実質的に存在しない。
5,70,71…基板
10…反応室
14…ラジカル導入口
20…プラズマ放電手段
22…第一電極
24…第二電
Claims (4)
- 基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、電圧電流特性において負性抵抗領域を有する電子素子。
- 基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、電圧電流特性において履歴を有し、同一電圧において異なる2値の抵抗値を有する電子素子。
- 基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、電圧電流特性において履歴を有する電子素子。
- 基材上に立設したグラフェンシートの多重層で壁が構成されたカーボンナノウォールの上端面上に、間隔を隔てて一対の電極を形成した素子であって、微分抵抗が電圧値に応じて変化する非線形特性を有する電子素子。
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