JP4969427B2 - Lcdカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液 - Google Patents
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Description
なお、本発明における曇点は、下記の(1).または(2).の方法で測定した値である。
(1).レジスト現像液の試料を100mlのガラス瓶へ入れウオターバスに浸け、該ウオターバスの温度を徐々に上げて現像液が白濁する温度を測定する。
(2).メトラートレド社製の[曇点測定システムFP900]を用いて測定する。
アルカリ剤(a)と、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b)と、アルキル化オリゴ糖(c)と、イオン交換水を表1のように配合し、均一に撹拌混合して本発明のレジスト現像液P1〜P4を調製した。なお、上記のアルカリ剤(a)と、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b)と、アルキル化オリゴ糖(c)は、下記の通りである。
・アルカリ剤(a):水酸化カリウム
・ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b):スチレン付加数2、エチレンオキサイド平均付加モル数12.5からなるポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル
・アルキル化オリゴ糖(c)
c1:グルコース残基を3個有し、炭素数4個のブチル基を有するアルキル化オリゴ糖
c2:グルコース残基を3個有し、炭素数7個のヘプチル基を有するアルキル化オリゴ糖
c3:グルコース残基を3個有し、炭素数8個のオクチル基を有するアルキル化オリゴ糖
c4:グルコース残基を3個有し、炭素数10個のデシル基、炭素数12個のラウリル基、または炭素数14個のミリスチル基からなるアルキル化オリゴ糖の混合物
下記のように各々の成分を配合し、均一に混合撹拌して比較例のレジスト現像液Q1を調製した。
・水酸化カリウム 5部
・スチレン付加数2、エチレンオキサイド平均付加モル数12.5からなる
ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル 15部
・イオン交換水 80部
下記のように各々の成分を配合し、均一に混合撹拌して比較例のレジスト現像液Q2を調製した。
・水酸化カリウム 10部
・スチレン付加数2、エチレンオキサイド平均付加モル数12.5からなる
ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル 15部
・イオン交換水 75部
(曇点)
前記の各々のレジスト現像液の試料を100mlのガラス瓶へ入れウオターバスに浸け、該ウオターバスの温度を徐々に上げて白濁する温度を測定する。
前記の各々のレジスト現像液を用いて、25℃の温度条件下で、トキメック(株)製の「B型粘度計RB−80L BLアダプター」にてその粘度を測定した。
前記の各々のレジスト現像液をイオン交換水を用いて希釈倍率200倍に希釈し、希釈したレジスト現像液試料を作成した。次に、洗浄処理された表面にクロム金属の薄膜を有する無アルカリガラス基板A、または無アルカリガラス基板Bの表面に、公知の方法でザ・インクテック(株)製の顔料分散レジストである、IT−G R201G、IT−G R337、IT−G G756−3、IT−G B582、IT−G B601の各々を塗布し、加熱乾燥して2μm(乾燥厚み)の塗膜を得る。上記のレジストが塗布されたガラス基板A、またはガラス基板Bを使用し、上記のレジスト現像液試料を用いて下記の方法にて、その現像性に関し、現像時間、独立細線密着性、解像力または残渣を測定し評価した。
前記の各々のレジストが塗布された塗膜を有するガラス基板Aのレジスト塗膜を前記のレジスト現像液試料を用いてスプレー現像方法にて現像し、その現像時間および残渣を下記の方法で測定し評価した。評価結果を表3に示す。
(現像時間)
レジストが溶解し始め、ガラス基板Aの一部が見える時間(T1)と、レジストの溶解が完了してガラス基板Aの全部が表れる時間(T2)とを測定した。
前記ガラス基板Aのレジスト塗膜を60秒間現像し、その非画線部をエタノールを含浸させた白色トレシー(東レ(株)製)により拭き取りその着色の状態を下記の評価方法により評価した。
評価点:
○:白色トレシーに着色が、ほとんど認められない。
×:白色トレシーに着色が、著しく認められる。
前記の各々のレジストが塗布された塗膜を有するガラス基板Bのレジスト塗膜面に露光パターンとしてライン&スペースが1:1で2μm〜10μmは1μm刻みに、また10μm〜30μmは2μm刻みに、また30μm〜80μmは10μm刻みのパターンを介して、さらにガラス基板Bの塗膜面には露光パターンとして独立細線の2μm〜10μmは1μm刻みに、20μm〜100μmは5μm刻みのパターンを介して、露光ギャップ150μm、超高圧水銀灯により紫外線を照射して露光描画する。露光後、光硬化した塗膜を前記の希釈したレジスト現像液試料を使用して、スプレー現像方法にて現像し、未露光部分を溶解除去してテスト用カラーフィルター画素を形成した。上記の現像における現像時間、独立細線密着性、および解像力を下記の方法で測定した。評価結果を表4に示す。
(現像時間)
レジストが溶解し始め、ガラス基板Bの一部が見える時間(T3)と、レジストの溶解が完了してガラス基板Bの全部が表れる時間(T4)とを測定した。
前記の現像により得られた残存する画素の最小線幅を400倍の光学顕微鏡にて測定した。
前記の現像により得られた画素のライン&スペースの解像力を400倍の光学顕微鏡にて測定した。
Claims (8)
- 少なくともアルカリ剤(a)とポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b)とアルキル化オリゴ糖(c)とを含有し、該アルキル化オリゴ糖(c)が、その糖残基が2〜10であり、アルキル基の炭素数が4〜16であることを特徴とするLCDカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液。
- 前記ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b)のスチレンの付加数が、1〜3である請求項1に記載のレジスト現像液。
- 前記ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル(b)のエチレンオキサイド平均付加モル数が、10〜20である請求項1または2に記載のレジスト現像液。
- 前記アルカリ剤(a)が、水酸化ナトリウムおよび/または水酸化カリウムである請求項1に記載のレジスト現像液。
- 前記オリゴ糖を構成する単糖類が、グルコース、ガラクトースまたはフルクトースである請求項1に記載のレジスト現像液。
- 前記のアルキル基の炭素数が、4、5、6、7、または8である請求項1に記載のレジスト現像液。
- 前記アルキル化オリゴ糖(c)の配合割合が、レジスト現像液総量中において5〜10質量%である請求項1〜6のいずれか1項に記載のレジスト現像液。
- 曇点が、33℃を超える請求項1〜7のいずれか1項に記載のレジスト現像液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007316666A JP4969427B2 (ja) | 2007-12-07 | 2007-12-07 | Lcdカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007316666A JP4969427B2 (ja) | 2007-12-07 | 2007-12-07 | Lcdカラーフィルター用顔料分散レジスト現像液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009139679A JP2009139679A (ja) | 2009-06-25 |
JP4969427B2 true JP4969427B2 (ja) | 2012-07-04 |
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ID=40870332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4969427B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08286387A (ja) * | 1995-04-11 | 1996-11-01 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感放射線性組成物用アルカリ性現像液 |
JPH09171261A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Toagosei Co Ltd | アルカリ現像液 |
JP3991374B2 (ja) * | 1996-11-06 | 2007-10-17 | 三菱化学株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
EP1361480A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-12 | Shipley Co. L.L.C. | Residue reducing stable concentrate |
JP2003345037A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用現像液 |
JP2007102243A (ja) * | 2006-12-05 | 2007-04-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | カラーフィルターおよびその製造方法 |
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2007
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2009139679A (ja) | 2009-06-25 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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