JP4966435B2 - ガス分子検知素子、ガス分子検知装置及びガス分子検知方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明のガス分子検知素子は、被検知ガス分子と結合する検知部が、接続部を介して一対の金属電極間に固定されてなるガス分子検知素子であって、該検知部は、中心金属として鉄またはコバルトを有する単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体であり、該接続部は、該単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体に結合したメルカプトフェニレンエチニル基であることを特徴とする。
本発明のガス分子検知素子は、被検知ガス分子と結合する検知部が、接続部を介して一対の金属電極間に固定されてなるガス分子検知素子であって、該検知部は、中心金属として鉄またはコバルトを有する単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体であり、該接続部は、該単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体に結合したメルカプトフェニレンエチニル基である。
1.ナノギャップ電極作製
基板、例えばシリコン基板上に、蒸着により所定膜厚の金の電極層を形成する。その後、特開2006−128438号公報に開示されている手法に基づき、電子ビーム露光器により電極層にパターニングを行い、所定の電極幅と所定のギャップ幅を有するナノギャップ電極を作製する。この方法によれば、約2.5nmのキャップ幅を有するギャップ電極を作製できる。
次いで、金電極層の表面をピラニー溶液で洗浄した後、検知分子を含む溶液(溶媒:NaOMe、濃度:約1nmol/L)中に基板を浸漬させる。なお、チオール基(−SH)は非常に活性なため、MPE基そのままでは、ジスルフィド基が生じてしまう。それを防ぐため、シリル系保護基であるTIPSを用いることもできる。溶液をアルカリから酸性に制御することで、チオール基は脱保護される。
本発明のガス分子検知装置は、上記の本発明のガス分子検知素子と該ガス分子検知素子を保持する基板とを有する検知体と、被検知ガス分子以外のガス分子を除去するフィルター部と、該ガス分子検知素子の通電電流値の変化を測定する電流測定部とを少なくとも有する。
なお、図2では、フィルター部が基板に一体的に配置されている構成を示しているが、フィルター部は被検知ガス分子以外のガス分子を除去する機能を有していればよく、基板と別体となるように配置してもよい。例えば、フィルターを備えた配管を設け、該配管の出口がガス分子検知素子の近傍に位置するように配置してもよい。
本発明のガス分子検知方法は、本発明のガス分子検知装置を用いるものであれば特に限定されないが、少なくとも、標準ガスを用いた検量線作成工程(ステップ1)、吸着した標準ガスを脱離させる工程(ステップ2)、および被検知ガスの濃度を決定する工程(ステップ3)を含むことが好ましい。
本ステップでは、標準ガス(NO 10ppm、Arベース)を用いて検量線を決定する。
密閉容器24の中に、検知体12を配置する。次に、標準ガスを有するガスボンベ22を供給弁23につながる配管に接続する。次に、供給弁23と排気弁27を開く。このとき、標準ガスによる電流測定部18での電流測定値のデータを処理部19に送る。次に、処理部19は、標準ガスの濃度と電流測定値のデータから以下の(式1)に基づいて、係数Aを決定する。
ここで、ΔIは増加電流値(A)、Cは濃度(ppm)、Aは係数(A/ppm)である。
本ステップでは、吸着した標準ガスを脱離させる。
マニュピレータ26を操作して、検知体12のフィルター部13を外す。次に、排気弁27を開け、一定以上の放射照度(例えば、約200[J/(m2s)]以上)を有する白色ランプ25のスイッチをオンすることにより、検知体12に約5分間照射する。これにより、ステップ1においてポルフィリン環の中心金属に吸着した標準ガス分子を脱離させることが可能となる。次に、ランプ照射後、白色ランプ25のスイッチのオフにする。最後に、マニュピレータ26を操作して、フィルター部を元に戻した後、排気弁27を閉める。
本ステップでは、被検知ガスの濃度を決定する。
密閉容器24から検知体12を取り出す。次に、対象とする被検知ガスを検知体12に検知させる。このとき、被検知ガスによる電流測定部18での電流測定値のデータをデータ処理部19に送る。データ処理部19は、ステップ1で得られた係数Aと増加電流値のデータから上記の(式1)にしたがって、被検知ガスの濃度を決定する。
本実施例では、検知部に下記の化学式(2)で示される中心金属を有する単一ポルフィリン誘導体を用いた(以下、化合物1という)。接続部にはメルカプトフェニレンエチニル基を用いた。中心金属Mには鉄を用いた。
化合物1は、ピロールとMPE基をもつアルデヒドとフェニレンエチニル基をもつアルデヒドを用いて、Rothemund法により合成した。
シリコン基板上に、蒸着により約50μmの膜厚である金の電極層を形成した。その後、特開2006−128438号公報に開示されている手法に基づいて、電子ビーム露光器により電極層にパターニングを行い、約50μmの電極幅、約2.5nmのギャップ幅のナノギャップ電極を形成した。
作製した検知素子は、電極間に0.4Vの電圧を印加して、約120mAの電流が得られた。なお、印加電圧は、検知素子を損傷しない範囲で適宜設定することができる。
作製した検知素子を図2の検知体12に組み込み、標準ガス(NO 10ppm、Arベース)をArガスで希釈してNO濃度を変化させ、濃度範囲0.04ppmから20ppmで電流値の変化を測定した。測定は、室温で、電極間に電圧0.4Vを印加して行った。
本比較例では、検知部に下記の化学式(3)で示される中心金属を有する単一ポルフィリン誘導体を用いた(以下、化合物2という)。接続部にはメルカプトフェニレンビニル基(以下、MPV基という表現も用いる)を用いた。中心金属Mには鉄を用いた。
化合物2は、ピロールとMPV基をもつアルデヒドとフェニレンビニレン基をもつアルデヒドを用いて、Rothemund法により合成した。
化合物2を含む溶液を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりガス分子検知素子を作製した。
本比較例の検知素子は、0.4Vの印加電圧で、約1.1mAの電流が得られた。実施例1に比べると、約100分の1の大きさの電流であり、実施例1の検知素子よりも高抵抗であることがわかった。
作製した検知素子を図2の検知体12に組み込み、実施例1の場合と同様にして、NO濃度を変化させ、検知素子の電流値の変化を測定した。
本比較例では、検知部に下記の化学式(4)で示される中心金属を有する単一ポルフィリン誘導体を用いた(以下、化合物3という)。接続部にはメルカプトビフェニル基(以下、MBP基という表現も用いる)を用いた。中心金属Mには鉄を用いた。
化合物3は、ピロールとMBP基をもつアルデヒドとフェニル基をもつアルデヒドを用いてRothemund法により作製した。
化合物3を含む溶液を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりガス分子検知素子を作製した。
検知素子は、0.4Vの印加電圧で約0.57mAの電流が得られた。実施例1に比べると、約200分の1の大きさの電流であった。実施例1の検知素子よりも高抵抗であることがわかった。
作製した検知素子を図2の検知体12に組み込み、実施例1の場合と同様にして、NO濃度を変化させ、検知素子の電流値の変化を測定した。
本比較例では、検知部に下記の化学式(5)で示される中心金属を有する単一ポルフィリン誘導体を用いた(以下、化合物4という)。接続部にはメルカプトフェニル基(以下、MP基という表現も用いる)を用いた。中心金属Mには鉄を用いた。
化合物4は、ピロールとメルカプトフェニル基をもつアルデヒドとフェニル基をもつアルデヒドを用いてRothemund法により作製した。
化合物4を含む溶液を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりガス分子検知素子を作製した。
検知素子は、0.4Vの印加電圧で約0.042mAの電流が得られた。
作製した検知素子を図2の検知体12に組み込み、実施例1の場合と同様にして測定を行った。しかし、NO濃度を変化させても、検知素子の電流値は変化しなかった。
2 接続部
3 電極
11 ガス分子検知素子
12 検知体
13 フィルター部
14 基板
15 凹部
16 排気孔
17 直流電源
18 電流測定部
19 データ処理部
21 ガス分子検知装置
22 ガスボンベ
23 供給弁
24 密閉容器
25 白色ランプ
26 マニュピレータ
27 排気弁
Claims (4)
- 被検知ガス分子と結合する検知部が、接続部を介して一対の金属電極間に固定されてなるガス分子検知素子であって、
該検知部は、中心金属として鉄またはコバルトを有する単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体であり、該接続部は、該単一ポルフィリンまたは単一ポルフィリン誘導体に結合したメルカプトフェニレンエチニル基であり、被検知ガス分子がNO分子であるガス分子検知素子。 - 請求項1記載のガス分子検知素子と該ガス分子検知素子を保持する基板とを有する検知体と、
被検知ガス分子以外のガス分子を除去するフィルター部と、
該ガス分子検知素子の通電電流値の変化を測定する電流測定部とを少なくとも有するガス分子検知装置。 - 上記フィルター部に平均細孔2nmの活性炭を用いる請求項2記載のガス分子検知装置。
- 請求項2記載のガス分子検知装置を用いるNO分子のガス分子検知方法。
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