JP4963168B2 - 粉体製造装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明の第1実施形態の粉体製造装置1を示す。粉体製造装置1は、両端が小さく絞り込まれた筒状の直立した金属容器である粉体生成塔2と、粉体生成塔2の上端から粉体生成塔2の内部に生成すべき粉体の原料となる水溶液を噴霧するスプレー(噴霧手段)3と、粉体生成塔2の上端を封止し、送気ファン4から供給される空気(搬送ガス)をスプレー3の周囲から噴霧方向と同じく下向きに導入するように案内する1次空気流路(搬送ガス流路)5を有する封止ヘッダ6と、粉体生成塔2の胴壁に設けられ、内部に火炎を噴射して火炎旋回流を形成する複数の火炎噴射ノズル7と、火炎噴射ノズル7の粉体生成塔2の胴壁の下部に設けられ、冷却空気を導入する複数の冷却ノズル8と、粉体生成塔2の下端から延伸するように設けられた排気路9と、排気路9からバグフィルタ10を介して粉体生成塔2内部の気体を吸引して排気する排気ファン(排気装置)11とからなっている。粉体生成塔2は、両端がそれぞれ1次空気流路5と排気路9とに連通し、火炎噴射ノズル7や冷却ノズル8が設けられているが、直接大気に開放しない密閉容器であり、表面が保温材12で覆われている。また、バグフィルタ10の下流の排気路9にはオリフィス流量計13と、排気路9における気体の流量を調節できる絞り弁(流量制御手段)14とが設けられている。
粉体製造装置1は、スプレー3から噴射された水溶液のミストを火炎噴射ノズル7の火炎によって加熱し、乾燥熱分解することで所望の組成の粉体を生成する。冷却ノズル8から冷気を導入して生成した粉体を冷却し、1次空気流路5から供給した空気やミストから蒸発した水蒸気などを含む気体と共に生成した粉体を排気ファン11によって吸引して排気路9から排出する。バグフィルタ10は、排出した気体から粉体を分離して回収する。
粉体製造装置1’の粉体生成塔2’は、第1実施形態のように金属容器を保温した2重構造を有しておらず、耐熱ボード或いはキャスタブル耐火物からなる断熱材12’によって構成され、内壁面は断熱ボード或いはキャスタブル耐火物12’の表面である。また、粉体製造装置1’は、送気ファン4を有しておらず、粉体生成塔2’と大気との圧力差によって外気を吸入するようになっている。本実施形態のように、外気流路18’は、封止ヘッダ6’の開口6a封止する蓋体19と封止ヘッダ6’との間に形成される隙間であってもよい。
2,2’ 粉体生成塔
3 スプレー(噴霧手段)
4 送気ファン
5 1次空気流路(搬送ガス流路)
6 封止ヘッダ
7 火炎噴射ノズル
9 排気路
11 排気ファン(排気装置)
14 絞り弁(流量制御手段)
15 分配部
16 負圧部
17 整流部
18,20 外気流路
Claims (5)
- 密閉した筒状の粉体生成塔と、
前記粉体生成塔の内部に原料水溶液を噴霧する噴霧手段と、
前記粉体生成塔の内部に前記噴霧手段の周囲から搬送ガスを供給する搬送ガス流路と、
前記粉体生成塔の内部に火炎を噴射する火炎噴射ノズルと、
前記粉体生成塔から、前記粉体生成塔内の気体を排出する排気装置とを有し、
前記搬送ガス流路は、定常状態において大気に対して負圧となる負圧部に大気に開放された外気流路が設けられていることを特徴とする粉体製造装置。 - 前記負圧部は、流路の断面積が上流および下流の流路の断面積よりも小さいことにより、前記搬送ガスの流速が早く、圧力が低くなる部分であることを特徴とする請求項1に記載の粉体製造装置。
- 前記搬送ガス流路は、前記噴霧手段に前記原料水溶液を供給する流路の外周を取り囲む整流部と、前記整流部のさらに外側を取り囲み、前記負圧部を介して前記整流部に連通する分配部とを備えることを特徴とする請求項2に記載の粉体製造装置。
- 前記搬送ガス流路は、前記噴霧手段に前記原料水溶液を供給する流路の外周を取り囲み、前記粉体生成塔に開口する内管と、前記内管の外側を取り囲み、前記粉体生成塔側の端部が封止された外管と、前記外管の前記粉体生成塔と反対側の端部を封止する端壁とによって形成され、
前記負圧部は、前記内管の端部と前記端壁との間の隙間であることを特徴とする請求項2に記載の粉体製造装置。 - 前記排気装置は、前記粉体生成塔から排出する気体の流量を制御する流量制御手段を備えることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の粉体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005272044A JP4963168B2 (ja) | 2005-09-20 | 2005-09-20 | 粉体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005272044A JP4963168B2 (ja) | 2005-09-20 | 2005-09-20 | 粉体製造装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007083111A JP2007083111A (ja) | 2007-04-05 |
JP4963168B2 true JP4963168B2 (ja) | 2012-06-27 |
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ID=37970638
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005272044A Active JP4963168B2 (ja) | 2005-09-20 | 2005-09-20 | 粉体製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4963168B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7266358B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2023-04-28 | 太平洋セメント株式会社 | 噴霧微粒子製造装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2868039B2 (ja) * | 1992-01-31 | 1999-03-10 | 日亜化学工業株式会社 | 低級金属酸化物の製造方法 |
JP3346267B2 (ja) * | 1998-02-19 | 2002-11-18 | 信越化学工業株式会社 | 燃焼又は火炎加水分解用燃焼炉及び燃焼方法 |
JP2000044206A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 酸化物粉末製造方法 |
JP4516642B2 (ja) * | 1999-07-06 | 2010-08-04 | 大川原化工機株式会社 | 噴霧熱分解装置 |
JP4418980B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2010-02-24 | 株式会社奈良機械製作所 | 粉粒体生成装置 |
JP4431947B2 (ja) * | 2003-10-07 | 2010-03-17 | Tdk株式会社 | 単結晶セラミックス粒子、球状酸化物粉末 |
JP2005218938A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk | 微粒子製造装置 |
-
2005
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007083111A (ja) | 2007-04-05 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090724 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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