JP4962500B2 - 有機トランジスタ素子、その製造方法、有機発光トランジスタ及び発光表示装置 - Google Patents
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Description
工藤一浩、「有機トランジスタの現状と将来展望」、応用物理、第72巻、第9号、第1151頁〜第1156頁(2003年)
最初に、本発明の有機トランジスタ素子の製造方法について説明する。図1は、本発明の有機トランジスタ素子の製造方法の一例を示す工程フローである。本発明の有機トランジスタ素子の製造方法は、図1に示すように、有機半導体層14上に又は有機半導体層14を挟むように所定のパターンにウエットエッチングされた電極15s,15dが設けられてなる有機トランジスタ素子10の製造方法であって、その特徴は、電極15s,15dを所定のパターンにウエットエッチングする工程において、エッチング液が有機半導体層14のドーパントを含み、そのエッチング液で電極15s,15dをウエットエッチングするのと同時にドーパントを有機半導体層14にドーピングすることにある。以下、本発明に係る製造方法と得られた有機トランジスタ素子の構成について、図1の工程順に説明する。
次に、発光型の有機トランジスタ素子の製造方法について説明する。図2は、本発明の発光型の有機トランジスタ素子の製造方法の一例を示す工程フローである。この発光型の有機トランジスタ素子20と、図1の方法で得られた有機トランジスタ素子との大きな違いは、ゲート電極12が補助電極22として作用し、ソース−ドレイン電極15s,15dが第1電極25Aとして作用すると共に、電荷注入抑制層26、発光層27及び第2電極28を有する点にある。
上記の発光型の有機トランジスタ素子20においては、第1電極25Aを陽極とし、第2電極28を陰極として構成してもよいし、第1電極25Aを陰極とし、第2電極28を陽極として構成してもよい。第1電極25Aと第2電極28とが何れの極性を持つものであっても、補助電極22と第1電極25Aとの間に印加する電圧を制御して電荷量を鋭敏に変化させることができ、第1電極−第2電極間に流れる電流を制御して発光量を制御することができる。なお、第1電極25Aが陽極で第2電極28が陰極である場合には、第1電極25Aに接するように正孔注入層29A(図3を参照)が設けられていることが好ましく、第2電極28の接する側に電荷注入層が設けられる場合にはその電荷注入層は電子注入層29B(図11を参照)であることが好ましい。一方、第1電極25Aが陰極で第2電極28が陽極である場合には、第1電極25Aに接する側に電子注入層が設けられ、第2電極28の接する側に電荷注入層が設けられる場合にはその電荷注入層は正孔注入層であることが好ましい。
次に、本発明の有機発光トランジスタ及び発光表示装置について説明するが、以下により限定されるものではない。本発明の有機発光トランジスタは、上述した本発明の発光型の有機トランジスタ素子20がシート状基板の上にマトリクス配置されたものであり、上記本発明の発光型の有機トランジスタ素子20と、その有機トランジスタ素子20が備える第1電極25Aと第2電極28との間に一定電圧(ドレイン電圧VD)を印加する第1電圧供給手段と、その有機トランジスタ素子20が備える第1電極25Aと補助電極22との間に可変電圧(ゲート電圧VG)を印加する第2電圧供給手段とを有する。
補助電極22としての厚さ100nmのITO膜付きのガラス基板21上に、絶縁膜23としてポジ型のPVP系レジスト(東京応化工業株式会社製、商品名:TMR−P10)をスピンコート法により300nmの厚さで成膜した。次に、絶縁膜23上に、電荷注入材料であるポリ3ヘキシルチオフェン(アルドリッチ社製、商品名:Poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl)をインクジェット法で塗布し、活性層である有機半導体層24を厚さ50nm形成した。その後、その有機半導体層24上に、真空蒸着法により第1電極層25(陽極)としてのAu層(厚さ30nm)を一様に成膜し、その後、上記と同じPVP系のレジスト(東京応化工業株式会社製、商品名:TMR−P10)をスピンコート法により塗布した。次に、マスクを用いた露光、現像を行って50μmの幅d1で厚さ300nmの電荷(正孔)注入抑制層26を形成した。
補助電極22としての厚さ100nmのITO膜付きのガラス基板21上に、絶縁膜23としてポジ型のPVP系レジスト(東京応化工業株式会社製、商品名:TMR−P10)をスピンコート法により300nmの厚さで成膜した。次に、絶縁膜23上に、電荷注入材料であるポリ3ヘキシルチオフェン(アルドリッチ社製、商品名:Poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl)をインクジェット法で塗布し、活性層である有機半導体層24を厚さ50nm形成した。その後、その有機半導体層24上に、マスクを用いた真空蒸着法により第1電極25A(陽極)としてのAu(厚さ30nm)を成膜した後、第1電極25Aを覆うようにしてポジ型のレジスト(東京応化工業株式会社製、商品名:TMR−P10)をスピンコート法により塗布した。次に、第1電極25Aと同じ大きさになるように、マスクを用いた露光、現像を行って50μmの幅d1で厚さ300nmの電荷(正孔)注入抑制層26を第1電極25A上のみに形成した。
20 発光型の有機トランジスタ素子
11,21 基板
12 ゲート電極
13,23 絶縁膜
14,24 有機半導体層
15 電極層
15s ソース電極
15d ドレイン電極
15A 第1電極
16 エッチングマスク
22 補助電極
25 第1電極層
25A 第1電極
25a エッジ部
26 電荷注入抑制層
27 発光層
27A 電荷(正孔)輸送層
28 第2電極
29A 電荷(正孔)注入層
29B 電荷(電子)注入層
30 積層構造体
31 検出されたドープ領域
140 有機トランジスタ
163 画像信号供給源
164 電圧制御回路
180,181 画素
183 第一スイッチングトランジスタ
184 第二スイッチングトランジスタ
185 電圧保持用コンデンサ
186 グランド配線
187 第一スイッチング配線
188 第二スイッチング配線
189 定電圧印加線
193a 第一スイッチングトランジスタのソース
193b 第二スイッチングトランジスタのソース
194a 第一スイッチングトランジスタのゲート
194b 第二スイッチングトランジスタのゲート
195a 第一スイッチングトランジスタのドレイン
195b 第二スイッチングトランジスタのドレイン
209 電流供給線
VG ゲート電圧
VD ドレイン電圧
Claims (8)
- 有機半導体層上に又は有機半導体層を挟むように、所定のパターンにウエットエッチングされた電極が設けられてなるトップコンタクト型の有機トランジスタ素子の製造方法であって、
前記電極を所定のパターンにウエットエッチングする工程において、エッチング液が前記有機半導体層を酸化させて正孔を増やすドーパント又は前記有機半導体層を還元させて電子を増やすドーパントを含み、当該エッチング液で前記電極をウエットエッチングするのと同時に前記ドーパントを前記有機半導体層にドーピングすることを特徴とする有機トランジスタ素子の製造方法。 - 補助電極と絶縁膜がその順に設けられた基板を準備する工程と、前記絶縁膜上に有機半導体層を設ける工程と、前記有機半導体層上に又は前記有機半導体層を挟むように第1電極層を設ける工程と、前記第1電極層上に所定の大きさの電荷注入抑制層を設ける工程と、前記電荷注入抑制層をエッチングマスクとして前記第1電極層をウエットエッチングし、所定のパターンの第1電極を設ける工程と、前記電荷注入抑制層及び前記有機半導体層上に発光層を設ける工程と、前記発光層上に第2電極を設ける工程とを少なくとも有する発光型の有機トランジスタ素子の製造方法であって、
前記所定のパターンの第1電極を設ける工程において、エッチング液が前記有機半導体層を酸化させて正孔を増やすドーパント又は前記有機半導体層を還元させて電子を増やすドーパントを含み、当該エッチング液で前記第1電極層をウエットエッチングするのと同時に前記ドーパントを前記有機半導体層にドーピングすることを特徴とする発光型の有機トランジスタ素子の製造方法。 - 前記有機半導体層が、電荷注入材料、電荷輸送材料ないし発光材料を含む有機層である、請求項1又は2に記載の有機トランジスタ素子の製造方法。
- 基板上に設けられた有機半導体層と、前記有機半導体層上に又は前記有機半導体層を挟むように所定のパターンで設けられたソース−ドレイン電極とを有するトップコンタクト型の有機トランジスタ素子であって、
前記ソース−ドレイン電極が、前記有機半導体層を酸化させて正孔を増やすドーパント又は前記有機半導体層を還元させて電子を増やすドーパントを含むエッチング液でエッチングすることにより設けられたものであり、当該エッチング液で前記ソース−ドレイン電極をエッチングするのと同時に前記ドーパントが前記有機半導体層の少なくとも表面層にドーピングされてなることを特徴とする有機トランジスタ素子。 - 基板と、当該基板上に設けられた補助電極と、当該補助電極上に設けられた絶縁膜と、当該絶縁膜上に設けられた有機半導体層と、当該有機半導体層上に又は当該有機半導体層を挟むように所定のパターンで設けられた第1電極と、当該第1電極上に所定の大きさで設けられた電荷注入抑制層と、当該電荷注入抑制層及び前記有機半導体層上に設けられた発光層と、当該発光層上に設けられた第2電極とを有する発光型の有機トランジスタ素子であって、
前記第1電極が、前記有機半導体層を酸化させて正孔を増やすドーパント又は前記有機半導体層を還元させて電子を増やすドーパントを含むエッチング液でエッチングすることにより設けられたものであり、当該エッチング液で前記第1電極をエッチングするのと同時に前記ドーパントが前記有機半導体層の少なくとも表面層にドーピングされてなることを特徴とする発光型の有機トランジスタ素子。 - 前記有機半導体層が、電荷注入材料、電荷輸送材料ないし発光材料を含む有機層である、請求項4又は5に記載の有機トランジスタ素子。
- 請求項5に記載の有機トランジスタ素子と、当該有機トランジスタ素子が備える第1電極と第2電極との間に一定電圧を印加する第1電圧供給手段と、当該有機トランジスタ素子が備える第1電極と補助電極との間に可変電圧を印加する第2電圧供給手段とを有することを特徴とする有機発光トランジスタ。
- 複数の発光部をマトリクス状に配置した発光表示装置であって、前記複数の発光部の各々は、請求項4〜6のいずれかに記載の有機トランジスタ素子を有することを特徴とする発光表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008552187A JP4962500B2 (ja) | 2006-12-28 | 2007-12-28 | 有機トランジスタ素子、その製造方法、有機発光トランジスタ及び発光表示装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006353760 | 2006-12-28 | ||
JP2006353760 | 2006-12-28 | ||
JP2008552187A JP4962500B2 (ja) | 2006-12-28 | 2007-12-28 | 有機トランジスタ素子、その製造方法、有機発光トランジスタ及び発光表示装置 |
PCT/JP2007/075294 WO2008081936A1 (ja) | 2006-12-28 | 2007-12-28 | 有機トランジスタ素子、その製造方法、有機発光トランジスタ及び発光表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008081936A1 JPWO2008081936A1 (ja) | 2010-04-30 |
JP4962500B2 true JP4962500B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=39588616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008552187A Expired - Fee Related JP4962500B2 (ja) | 2006-12-28 | 2007-12-28 | 有機トランジスタ素子、その製造方法、有機発光トランジスタ及び発光表示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8431448B2 (ja) |
JP (1) | JP4962500B2 (ja) |
WO (1) | WO2008081936A1 (ja) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008036062B4 (de) * | 2008-08-04 | 2015-11-12 | Novaled Ag | Organischer Feldeffekt-Transistor |
EP2355139B1 (en) | 2008-11-28 | 2018-03-14 | Sony Corporation | Method of manufacturing a thin film transistor |
KR100994118B1 (ko) * | 2009-01-13 | 2010-11-15 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 발광 소자 및 그 제조 방법 |
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CN102822979B (zh) * | 2010-03-26 | 2015-08-26 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体器件 |
JP5656049B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2015-01-21 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP5884306B2 (ja) * | 2011-06-13 | 2016-03-15 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、ならびに電子機器 |
EP2648239B1 (en) * | 2012-04-05 | 2014-07-23 | Novaled AG | A method for producing a vertical organic field effect transistor and a vertical organic field effect transistor |
US8901547B2 (en) * | 2012-08-25 | 2014-12-02 | Polyera Corporation | Stacked structure organic light-emitting transistors |
KR101994332B1 (ko) | 2012-10-30 | 2019-07-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 트랜지스터 및 이를 포함하는 표시 장치 |
DE102012112796B4 (de) * | 2012-12-20 | 2019-09-19 | Novaled Gmbh | Vertikaler organischer Transistor, Schaltungsanordnung und Anordnung mit vertikalem organischen Transistor sowie Verfahren zum Herstellen |
KR101427776B1 (ko) * | 2013-01-23 | 2014-08-12 | 서울대학교산학협력단 | 준 면발광 수직형 유기발광 트랜지스터 및 그 제조 방법 |
EP2797133B1 (en) | 2013-04-23 | 2017-01-11 | Novaled GmbH | A method for producing an organic field effect transistor and an organic field effect transistor |
KR102072798B1 (ko) * | 2013-06-11 | 2020-02-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 보조 전극을 포함하는 유기 발광 소자 |
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CN104241330B (zh) | 2014-09-05 | 2017-05-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机发光二极管显示装置及其制作方法 |
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CN108878650B (zh) | 2017-05-10 | 2021-12-03 | 元太科技工业股份有限公司 | 有机薄膜晶体管 |
US11391970B2 (en) * | 2017-12-05 | 2022-07-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Reflective spatial light modulator, optical observation device, and light irradiation device |
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US11626568B1 (en) * | 2020-03-24 | 2023-04-11 | Apple Inc. | Organic light-emitting diode display with a conductive layer having an additive |
WO2022024239A1 (ja) * | 2020-07-29 | 2022-02-03 | シャープ株式会社 | 発光素子及び当該発光素子の駆動方法 |
CN116017997A (zh) * | 2021-10-20 | 2023-04-25 | Tcl科技集团股份有限公司 | 发光器件及其制备方法 |
CN116017998A (zh) * | 2021-10-20 | 2023-04-25 | Tcl科技集团股份有限公司 | 发光器件及其制备方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002343578A (ja) | 2001-05-10 | 2002-11-29 | Nec Corp | 発光体、発光素子、および発光表示装置 |
DE10150040A1 (de) * | 2001-10-10 | 2003-04-17 | Merck Patent Gmbh | Kombinierte Ätz- und Dotiermedien |
KR20040068572A (ko) * | 2001-12-06 | 2004-07-31 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 박막 트랜지스터의 소스 및 드레인 형성 방법 |
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JP2003324203A (ja) | 2002-04-30 | 2003-11-14 | Sharp Corp | 静電誘導型トランジスタ |
EP1383179A2 (en) * | 2002-07-17 | 2004-01-21 | Pioneer Corporation | Organic semiconductor device |
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JP2005277204A (ja) | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機電界効果トランジスタ |
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-
2007
- 2007-12-28 WO PCT/JP2007/075294 patent/WO2008081936A1/ja active Application Filing
- 2007-12-28 JP JP2008552187A patent/JP4962500B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-28 US US12/448,563 patent/US8431448B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008081936A1 (ja) | 2008-07-10 |
JPWO2008081936A1 (ja) | 2010-04-30 |
US20100090202A1 (en) | 2010-04-15 |
US8431448B2 (en) | 2013-04-30 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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