JP4961615B2 - フォトマスクの検査方法及び装置 - Google Patents

Description

本発明は、ペリクル付きのフォトマスクを検査するのに好適なフォトマスクの検査方法及び装置、特に単一の検査装置を用いてペリクル面の検査とペリクル枠外の領域の検査を行うことができるフォトマスクの検査方法及び装置に関するものである。

半導体集積回路や液晶パネルの現像工程においては、フォトマスクやレチクルが用いられ、所望のパターンが基板上に転写されている。また、フォトマスクとして、フォトマスクのパターンを保護し異物の付着を防止するため、パターン形成部分に光学的に透明な材料膜であるペリクル膜が形成されているペリクル付きのフォトマスクが広く使用されている。

ペリクル付きフォトマスクに比較的大きな（例えば、５０μｍ以上）異物が付着している場合、異物が基板上に転写されるため、異物検査装置を用いてペリクル面の異物検査が行われている。この検査装置では、フォトマスクのペリクル面に向けてライン状の光ビームを投射し、ペリクル面からの散乱光を光検出器で検出し、散乱光の強度から異物検出が行われている（例えば、特許文献１参照）。この異物検査装置では、ペリクル面のほぼ全幅にわたるライン状光ビームをペリクル面に向けて投射し、ペリクル面からの散乱光を対物レンズを介して1次元イメージセンサにより受光している。

特開２００２−２２８４２８号公報

ペリクル面上に異物が付着していると、露光装置において異物の像がそのまま基板上に転写されるため、ペリクル面の異物検査は必須の検査工程である。一方、フォトマスクのペリクル枠の外側の領域については、異物が付着しても露光装置により基板上に転写されないことから、従来の検査装置では、フォトマスクのペリクル面の外側領域について異物検査は行われていなかった。しかしながら、フォトマスクのペリクル枠外の領域に異物が付着している場合、ペリクル枠外の領域が異物源となり、露光装置に装着された後に、ペリクル枠外に付着している異物が露光装置内で飛散しペリクル面上に再付着する危険性がある。また、ペリクル枠外の領域に異物が付着していると、当該フォトマスクを露光装置に装着する際、フォトマスクの装着誤差が発生し、正しく露光できなくなる危険性もある。従って、フォトマスクのペリクル面だけでなく、ペリクル枠外の領域も検査できる検査装置の開発が強く要請されている。

一方、ペリクル面及びペリクル枠外領域を含めてフォトマスクの全面を走査する場合、ペリクルは段差を構成することになるため、走査ビーム又は散乱光がペリクル枠により遮光されてしまう。このため、前述した特許文献に記載の検査装置は、ペリクル面については検査を行うことができるが、ペリクル枠外の領域についは検査できないものである。

本発明の目的は、単一の検査装置を用いてペリクル面の検査及びペリクル枠外領域の検査の両方を行うことができるマスク検査方法及び装置を提供することにある。

本発明によるフォトマスクの検査方法は、光ビームを発生するレーザ光源と、前記光ビームを主走査方向に周期的に偏向するスキャナと、スキャナから出射した光ビームを第１及び第２の走査ビームに変換するビームスプリッタと、検査されるべきフォトマスクを支持すると共に主走査方向と直交する副走査方向に移動可能なステージと、前記第１及び第２の走査ビームを前記ステージ上に配置されたフォトマスクに向けてそれぞれ投射する第１及び第２の集束レンズと、光軸がフォトマスクの表面に対して垂直となるように配置され、フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、前記ｘ方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、対物レンズにより集光された散乱光を受光する１次元イメージセンサとを具え、前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸は同一面内に位置し、前記第１及び第２の走査ビームは、対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査する検査装置を用いてフォトマスクを検査する方法であって、
前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸とを含む面をペリクル枠の一辺と平行になるように設定し、
ペリクル枠外の領域を走査する際、前記第１及び第２の走査ビームにより、前記ペリクル枠の一辺の延在方向と直交する方向に主走査すると共に当該ペリクル枠の一辺の延在方向に沿って副走査することを特徴とする。

本発明は、フォトマスク及びペリクルは共に四角形であり、ペリクル枠とフォトマスクの辺とが互いに平行な関係にあることに基づき、ペリクル面及びペリクル枠外の領域を走査ビームにより２次元走査する。そして、散乱光を受光する対物レンズの光軸と走査ビームを形成する集束レンズの光軸とを同一面に位置するように設定すると共に対物レンズの光軸と集束レンズの光軸を含む面をペリクル枠に平行に設定する。２次元走査に際し、主走査方向を１つのペリクル枠と直交する方向に設定し、副走査方向を当該ペリクル枠の延在方向に設定する。このように構成すれば、ペリクルが段差となっても、散乱光ビーム及び走査ビームがペリクルにより遮光されることなく、フォトマスクの全面を走査することができる。しかも、ペリクル面の走査が終了した後、走査ビームの集束点がペリクル枠外の領域の表面上に位置するようにステージの位置をｚ方向に調整するだけでペリクル枠外の領域の走査を開始することができる。

本発明によるフォトマスクの検査方法は、光ビームを発生するレーザ光源と、前記光ビームをｘ方向に周期的に偏向するスキャナと、スキャナから出射した光ビームを第１及び第２の走査ビームに変換するビームスプリッタと、検査されるべきフォトマスクを支持するステージと、前記第１及び第２の走査ビームを前記ステージ上に配置されたフォトマスクに向けてそれぞれ投射する第１及び第２の集束レンズと、光軸がフォトマスクの表面に対して垂直となるように配置され、フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、前記ｘ方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、対物レンズにより集光された散乱光を受光する１次元イメージセンサとを具え、前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸は同一面内に位置し、前記第１及び第２の走査ビームは、対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査する検査装置を用いてフォトマスクを検査する方法であって、
検査すべきフォトマスクを、ｘ方向及びこれと直交するｙ方向並びにｘ方向及びｙ方向と直交するｚ方向に移動可能であると共にｘｙ面内において回転可能なステージ上に載置し、
前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸とを含む面をペリクル枠の第１の辺と平行になるように設定し、
ペリクル枠外の領域を検査する際、前記第１及び第２の走査ビームにより、前記ペリクル枠の第１の辺の延在方向と直交するｘ方向に主走査すると共にステージ移動により当該ペリクル枠の延在方向であるｙ方向に沿って副走査し、
前記ペリクル枠の第１の辺に沿う領域の走査が終了した後、ステージを回転させ、別のペリクル枠に沿って２次元走査を行なうことを特徴とする。

ステージを、ｘ，ｙ及びｚ方向に移動可能であると共にステージの中心部のまわりで回転可能な構成とすることにより、ステージを９０°回転させるだけで隣接するペリクル枠外領域を走査することが可能になる。

別の好適実施例として、第１のペリクル枠の辺に沿う走査が終了した後、ステージを１８０°回転させ、ペリクルをはさんで第１のペリクル枠の辺と対向する第２のペリクル枠に沿って2次元走査を行うことも可能である。フォトマスクの前記第１のペリクル枠の外側の領域及び第２のペリクル枠の外側の領域は、当該フォトマスクを別の工程に移動させるためのハンドラのハンドリング領域として利用することができ、この場合検査時間が短縮される。

本発明によるフォトマスクの検査方法の好適実施例は、集光レンズの光軸をはさんで互いに対向するように２本の走査ビームを形成し、２本の走査ビームがフォトマスクの同一位置を走査することを特徴とする。この場合、フォトマスク上に付着した異物は２方向から光ビームが照射されるため、散乱光の発生方向について方向性を有する異物であっても正確に検出することが可能になる。

本発明によるフォトマスクの検査方法の別の好適実施例は、主走査をレーザ光源から出射した光ビームをスキャナにより1次元スキャンすることにより行ない、副走査はステージ移動により行うことを特徴とする。

本発明によるフォトマスクの検査方法の別の好適実施例は、１つのペリクル枠の辺と直交する方向を主走査方向に設定し当該ペリクル枠の辺の延在方向を副走査方向に設定して、走査ビームによりペリクル面を全面にわたって走査し、その後走査ビームの集束点がペリクル枠外の基板表面上に位置するようにステージの位置をｚ方向に調整し、その状態でペリクル枠外の領域を走査することを特徴とする。

本発明によるフォトマスクの検査装置は、
光ビームを発生するレーザ光源と、
前記光ビームを第１の方向に周期的に偏向するスキャナと、
スキャナから出射した光ビームを検査すべきフォトマスクに向けて投射するレンズ系と、
フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、
前記第１の方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、前記集光レンズにより集光された散乱光を受光する1次元イメージセンサと、
検査すべきフォトマスクを保持するステージとを有し、四辺形のペリクル付きのフォトマスクを検査するのに好適なフォトマスクの検査装置であって、
前記ステージは、前記第１の方向と対応するｘ方向及びｘ方向と直交するｙ方向並びにｘ方向及びｙ方向と直交するｚ方向に移動可能であると共にｘｙ面内で回転可能なステージとし、
前記レンズ系の光軸と対物レンズの光軸は同一面内に位置し、
検査すべきフォトマスクは、ペリクル枠各辺が前記ｘ方向又はｙ方向と平行になるようにマスクステージ上に載置され、
フォトマスクを検査する際、前記スキャナによりｘ方向の主走査を行ない、ステージ移動によりｙ方向の副走査を行ない、
フォトマスクのペリクル面及びペリクル枠外の領域を検査する際、前記対物レンズの光軸と対物レンズの光軸を含む面がペリクル枠の一辺と平行になるように設定して2次元走査を行うことを特徴とする。

本発明によるフォトマスクの検査装置の好適実施例は、スキャナの後段に前記光ビームを２本の走査ビームに変換するビームスプリッタを配置し、前記対物レンズの光軸をステージのフォトマスク載置面に対して垂直になるように設定し、前記２本の走査ビームは、対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査するように設定されることを特徴とする。

本発明では、走査ビームを投射する集束レンズの光軸と散乱光を集光する対物レンズの光軸とを同一の面内に位置させ、集束レンズの光軸及び対物レンズの光軸を含む面をペリクル枠に平行になるように設定して2次元走査するので、ペリクル面及びペリクル枠外の領域の両方を単一の検査装置を用いて検査することができる。

図１は四辺形のペリクル付きフォトマスクの一例を示すものであり、図１（Ａ）は線図的平面図及び図１（Ｂ）はＩ−Ｉ線断面図である。フォトマスク１は、ガラス基板２を有し、ガラス基板２上に転写すべきパターンが形成されているパターン形成領域３が形成され、パターン形成領域３を覆うように矩形のペリクル４が形成されている。ペリクル４は、例えばニトロセルロースのような光学的に透明な薄膜からなるペリクル膜により構成されるペリクル面４ａと、ペリクル膜を支持するアルミ合金のペリクル枠（フレーム）とを有する。ペリクル枠は、４つの辺４ｂ〜４ｄからなり、各ペリクル枠の辺は直線状に形成する。ここで重要なことは、ガラス基板２とペリクル４とはほぼ相似形をなし、各ペリクル枠の辺４ｂ〜４ｄは、ガラス基板の隣接する辺と平行に設定されている。本発明では、単一の検査装置を用いて、ペリクル膜の表面であるペリクル面４ａについて検査すると共にガラス基板２のペリクル枠外の表面領域２ａの両方について検査する。

図２は本発明によるマスク検査装置の光学系の構成を示す線図である。レーザ光源１０から光ビームを放出する。光ビームは、エキスパンダ光学系１１により拡大光束に変換する。この光ビームはスキャナ１２により第１の方向（ｘ方向）に周期的に偏向する。スキャナとして、例えば振動ミラーや音響光学素子等の1次元ビーム偏向装置を用いることができる。スキャナから出射した光ビームはビームスプリッタ１３に入射する。ビームスプリッタ１３を透過したビームは、全反射ミラー１４で反射し、集束レンズ１５に入射し、集束ビームとして出射する。この集束ビームは、全反射ミラー１６で反射してフォトマスク１の検査面に集束した第１の走査ビームＳ１として入射する。この第１の走査ビームは、スキャナ１２により周期的に偏向されているから、第１の走査ビームＳ１は、フォトマスク１の表面を所定の周波数で第１の方向と対応する方向（紙面と直交する方向）に1次元走査することになる。

ビームスプリッタ１３で反射したビームは、集束レンズに入射し集束ビームとして出射する。この集束ビームは、全反射ミラー１８で反射し、集束した第２の走査ビームＳ２としてフォトマスク１の表面に入射する。第２の走査ビームＳ２も、スキャナ１２により周期的に偏向されているから、フォトマスク１の表面を所定の周波数で第１の方向と対応する方向（紙面と直交する方向）に1次元走査することになる。ここで、集束レンズ１５及び１７の光軸は同一面内に位置するように設定し、２本の走査ビームによりフォトマスクの同一部位を走査させる。従って、フォトマスクの表面は、法線をはさんで互いに反対方向に進行する２本の走査ビームにより所定の周波数で1次元走査されることになる。

フォトマスク１はステージ１９上に載置する。ステージ１９は、ｘ方向及びこれと直交するｙ方向並びにｘ方向及びｙ方向と直交するｚ方向に移動可能なステージにより構成する。さらに、ステージ１９は、ｘｙ面内でｚ軸の回りで回転可能であり、本例では９０°の角度でステップ状に回転可能なものとする。尚、ｘ方向は、スキャナ１２の偏向方向と対応する方向に設定する。また、検査に際し、フォトマスクのペリクル枠の一辺の延在方向がｘ方向（紙面と直交する方向）と直交するようにフォトマスクをセットし、ｘ方向を主走査方向とし、当該ペリクル枠の辺の延在方向がｙ方向となるようにセットする。そして、ステージをｙ方向に移動させて副走査を行う。これにより、フォトマスクの表面は、法線をはさんで互いに反対方向に進行する右回り円偏光及び左回り円偏光の２本の走査ビームＳ１及びＳ２により2次元走査されることになる。

フォトマスク１のペリクル面上又はガラス面上に異物が付着し、当該異物に走査ビームが入射すると、異物により散乱光Ｓ３が発生する。発生した散乱光Ｓ３を対物レンズ２０により集光する。対物レンズ２０の光軸は、フォトマスク１の表面（ステージ１９の載置面）に対して垂直となるように設定すると共に、集束レンズ１５及び１７の光軸を含む面内に位置するように設定する。尚、対物レンズ２０の配置位置は、ペリクル面及びガラス面が正常な場合、ペリクル面及びガラス面からの反射光が入射しないように設定する。尚、第１及び第２の走査ビームＳ１及びＳ２と対物レンズとの配置関係を図３に示す。

対物レンズ２０により集光された散乱光は、結像レンズ２１により1次元イメージセンサ２２上に結像する。1次元イメージセンサ２２は、スキャナ１２の偏向方向である第１の方向（ｘ方向）と対応する方向に配列した複数の受光素子を有し、各受光素子に蓄積された電荷は、駆動回路（図示せず）からの駆動信号によりスキャナの駆動周波数と同一の周波数で読み出される。1次元イメージセンサ２２の各受光素子は、異物により散乱光が発生した場合、当該散乱光により1次元走査されることになる。従って、1次元イメージセンサから閾値以上の出力信号が発生した場合、異物の付着等の欠陥の存在が検出される。そして、受光素子のアドレス情報により異物の存在位置のｘ方向のアドレスが特定され、ステージのｙ方向の位置情報から異物の存在位置のｙ方向アドレスが特定される。

図４は、走査ビームによるペリクル面及びガラス面の走査方法を説明する線図的斜視図である。フォトマスク１のペリクル面４ａを走査する場合、ステージをｚ方向に移動調整し、走査ビームがペリクル面上に集束するように設定する。また、フォトマスクは、１つのペリクル枠の辺４ｂが主走査方向（ｘ方向）と直交するように配置し、当該ペリクル枠の辺４ｂの延在方向に沿ってステージ移動して副走査を行う。そして、ステージをｘ方向及びｙ方向にジッグザッグ移動させてペリクル面を全面にわたって走査して検査を行う。

ペリクル面の走査が終了しペリクル枠外の領域２ａを走査する場合、ステージをｚ方向に移動させて、走査ビームＳ１及びＳ２がペリクル枠外の領域の表面上に集束するように調整する。この状態において、ペリクル３とガラス基板２とは互いに相似形であるため、走査ビームの主走査方向はペリクル枠の辺４ｃと直交する方向にあり、副走査は当該辺４ｃと平行な方向に設定されている。この状態でペリクル枠外の領域の検査を開始する。すなわち、スキャナにより光ビームをｘ方向に走査すると共にステージをｙ方向に移動させて副走査を行ってペリクル枠外の領域２ａを2次元走査する。この場合、ペリクル枠４ｃとガラス基板の隣接する辺とは互いに平行であるため、ステージをｘ方向及びｙ方向にジッグザッグ移動させることによりペリクル枠外の領域の全面を2次元走査することが可能である。この結果、ステージのｚ方向の位置を調整するだけで、ペリクル面及びペリクル枠外領域の両方を検査することができる。

さらに重要なこととして、本発明では、集束レンズ１５及び１７の光軸と対物レンズ２０の光軸を含む面をペリクル枠の一辺と平行になるように設定して検査を行う。ガラス基板の表面に対してペリクルは段差となるため、ペリクル枠が走査ビームや散乱光を遮光する不具合が発生してしまう。そこで、本発明では、集束レンズ１５及び１７の光軸と対物レンズ２０の光軸を含む面をペリクル枠の辺と平行になるように設定して副走査を行う。このように光軸を設定して副走査を行うことにより、段差となるペリクルによる影響を受けることなく、ペリクル枠外の領域を全面にわたって検査することが可能となる。

図５は、ステージの回転移動を利用してペリクル枠外の領域を全周検査する例を示す。フォトマスクは四角形であり、ペリクルも四角形である。この特性に基づきステージの９０°回転移動を利用してペリクル外領域を2次元走査する。フォトマスクの４つの角部に１〜４の符号を示す。ステージは反時計方向に９０°づつ回転させて位置決めを行う。初めに、角１から２に向けて＋ｙ方向にステージ移動して2次元走査する。次に、ステージを９０°回転させ、−ｙ方向にステージ移動して2次元走査する。さらに、ステージを９０°回転させ、＋ｙ方向にステージ移動して2次元走査する。さらに、ステージを９０°回転させ、−ｙ方向にステージ移動して2次元走査する。このように、ステージを３６０°回転させｙ方向に２回往復移動することにより、ペリクル枠の全周を検査することが可能である。

図６は、ペリクル枠外領域のスキャナのスキャン幅よりも広くい場合、４つの領域をそれぞれジッグザッグ走査して検査を行う例を示す。図６（Ａ）に示すように、角１と２と間の領域をジッグザッグ走査し、その後ステージを９０°回転させて次の領域を検査する。

また、図６（Ｂ）は、ステージを１８０°回転させて対向する２つのペリクル枠外領域を検査する例を示す。フォトマスクを次の工程に移動させるハンドラは、フォーク型のハンドラーが広く使用されている。従って、ペリクルをはさんで対向する２つのハンドリング領域だけを検査して、検査時間を短縮する手法を採用することも可能である。この場合、一方のハンドリング領域に対応する１つのペリクル枠外領域についてジッグザッグ走査して全面走査し、その後ステージを１８０°回転させて対向する他方のハンドリング領域に対応するペリクル枠外領域を走査する。

本発明は上述した実施例だけに限定されず種々の変更や変形が可能である。例えば、上述した実施例では、２本の走査ビームを用いて走査する例について説明したが、１本の走査ビームで走査し、異物による散乱光を検出することも可能である。
また、走査ビームをフォトマスクの面に垂直に入射させ、側方から出射する散乱光を受光するように構成することも可能である。

ペリクル付きフォトマスクの一例を示す平面図及び断面図である。 本発明による検査装置の光学系の構成を示す線図である。 フォトマスクの表面における走査ビームの入射状態及び散乱光の集光状態を示す線図である。 フォトマスク表面の走査状態を示す線図的斜視図である。 ステージの回転移動を利用してペリクル枠外領域を検査する例を示す線図である。 ステージの回転移動を利用してペリクル枠外領域を検査する例を示す線図である。

符号の説明

１ フォトマスク
２ ガラス基板
３ パターン形成領域
４ ペリクル
１０ レーザ光源
１１ エキスパンダ光学系
１２ スキャナ
１３ ビームスプリッタ
１４，１６，１８ 全反射ミラー
１５，１７ 集束レンズ
１９ ステージ
２０ 対物レンズ
２１ 結像レンズ
２２ 1次元イメージセンサ

Claims (8)

1. 四辺形のペリクル付きフォトマスクを検査するのに好適なフォトマスクの検査装置であって、
   光ビームを発生するレーザ光源と、
   前記光ビームを第１の方向に周期的に偏向するスキャナと、
   スキャナから出射した光ビームを第１及び第２の走査ビームに変換するビームスプリッタと、
   検査されるべきフォトマスクを支持するステージと、
   前記第１及び第２の走査ビームを前記ステージ上に配置されたフォトマスクに向けてそれぞれ投射する第１及び第２の集束レンズと、
   光軸がフォトマスクの表面に対して垂直となるように配置され、フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、
   前記第１の方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、対物レンズにより集光された散乱光を受光する１次元イメージセンサとを具え、
   前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸は同一面内に位置し、
   前記第１及び第２の走査ビームは、前記対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査し、
   検査に際し、前記スキャナによる第１の方向の主走査とステージ移動による第１の方向と直交する方向の副走査とが行われ、
   フォトマスクのペリクル面及びペリクル枠外の領域を検査する際、前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸とを含む面が前記ペリクル枠の一辺と平行になるように設定して２次元走査が行われることを特徴とするフォトマスクの検査装置。
2. 請求項１に記載のフォトマスクの検査装置において、前記ステージは、前記第１の方向と対応するｘ方向及びｘ方向と直交するｙ方向並びにｘ方向及びｙ方向と直交するｚ方向に移動可能であると共にｘｙ面内で回転可能なステージとして構成されていることを特徴とするフォトマスクの検査装置。
3. 光ビームを発生するレーザ光源と、前記光ビームを主走査方向に周期的に偏向するスキャナと、スキャナから出射した光ビームを第１及び第２の走査ビームに変換するビームスプリッタと、検査されるべきフォトマスクを支持すると共に主走査方向と直交する副走査方向に移動可能なステージと、前記第１及び第２の走査ビームを前記ステージ上に配置されたフォトマスクに向けてそれぞれ投射する第１及び第２の集束レンズと、光軸がフォトマスクの表面に対して垂直となるように配置され、フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、前記ｘ方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、 対物レンズにより集光された散乱光を受光する１次元イメージセンサとを具え、前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸は同一面内に位置し、前記第１及び第２の走査ビームは、対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査する検査装置を用いてフォトマスクを検査する方法であって、
   前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸とを含む面をペリクル枠の一辺と平行になるように設定し、
   ペリクル枠外の領域を走査する際、前記第１及び第２の走査ビームにより、前記ペリクル枠の一辺の延在方向と直交する方向に主走査すると共に当該ペリクル枠の一辺の延在方向に沿って副走査することを特徴とするフォトマスクの検査方法。
4. 光ビームを発生するレーザ光源と、前記光ビームをｘ方向に周期的に偏向するスキャナと、スキャナから出射した光ビームを第１及び第２の走査ビームに変換するビームスプリッタと、検査されるべきフォトマスクを支持するステージと、前記第１及び第２の走査ビームを前記ステージ上に配置されたフォトマスクに向けてそれぞれ投射する第１及び第２の集束レンズと、光軸がフォトマスクの表面に対して垂直となるように配置され、フォトマスクから発生した散乱光を受光する対物レンズと、前記ｘ方向と対応する方向に配列された複数の受光素子を有し、対物レンズにより集光された散乱光を受光する１次元イメージセンサとを具え、前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸は同一面内に位置し、前記第１及び第２の走査ビームは、対物レンズの光軸をはさんで互いに対向すると共にフォトマスクの同一点を走査する検査装置を用いてフォトマスクを検査する方法であって、
   検査すべきフォトマスクを、ｘ方向及びこれと直交するｙ方向並びにｘ方向及びｙ方向と直交するｚ方向に移動可能であると共にｘｙ面内において回転可能なステージ上に載置し、
   前記対物レンズの光軸と前記第１及び第２の集束レンズの光軸とを含む面をペリクル枠の第１の辺と平行になるように設定し、
   ペリクル枠外の領域を検査する際、前記第１及び第２の走査ビームにより、前記ペリクル枠の第１の辺の延在方向と直交するｘ方向に主走査すると共にステージ移動により当該ペリクル枠の延在方向であるｙ方向に沿って副走査し、
   前記ペリクル枠の第１の辺に沿う領域の走査が終了した後、ステージを回転させ、別のペリクル枠に沿って２次元走査を行なうことを特徴とするフォトマスクの検査方法。
5. 請求項４に記載のフォトマスクの検査方法において、前記ペリクル枠の第１の辺に沿う走査が終了した後、ステージをｚ軸の回りで９０°回転させて隣接するペリクル枠の辺に沿って２次元走査を順次行ない、ペリクルの全周にわたって２次元走査を行うことを特徴とするフォトマスクの検査方法。
6. 請求項４に記載のフォトマスクの検査方法において、前記ペリクル枠の第１の辺に沿う走査が終了した後、ステージをｚ軸の回りで１８０°回転させ、ペリクルをはさんで前記ペリクル枠の第１の辺と対向する第２の辺に沿って２次元走査を行うことを特徴とするフォトマスクの検査方法。
7. 請求項６に記載のフォトマスクの検査方法において、フォトマスクのペリクル枠の前記第１の辺の外側の領域及び前記第２辺の外側の領域は、当該フォトマスクを別の工程に移動させるためのハンドラのハンドリング領域として利用されることを特徴とするフォトマスクの検査方法。
8. 請求項４から７までのいずれか１項に記載のフォトマスクの検査方法において、ペリクル枠の１つの辺と直交する方向を主走査方向に設定し当該ペリクル枠の辺の延在方向を副走査方向に設定して、前記第１及び第２の走査ビームによりペリクル面をほぼ全面にわたって走査し、その後前記第１及び第２の走査ビームの集束点がペリクル枠外の基板表面上に位置するようにステージの位置をｚ方向に調整し、その状態でペリクル枠外の領域を走査することを特徴とするフォトマスクの検査方法。