JP4955217B2 - R−t−b系焼結磁石用原料合金及びr−t−b系焼結磁石の製造方法 - Google Patents

R−t−b系焼結磁石用原料合金及びr−t−b系焼結磁石の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、R−T−B系焼結磁石(ただし、Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする遷移金属元素の1種又は2種以上、Bはホウ素)に関し、特に高い保磁力を得ることのできるR−T−B系焼結磁石用原料合金に関するものである。
希土類磁石の中でも、磁気特性に優れかつSmCo系永久磁石に比して安価であることからR−T−B系焼結磁石が様々な分野において使用されている。このR−T−B系焼結磁石は粉末冶金法にて作製されるのが一般的である。出発原料としては、所望のR−T−B組成を溶解し、鋳型にて鋳造する方法が採られてきたが、磁気特性の低下をもたらすα−Fe析出を制御するためにストリップキャスト法にて合金が作製されるようになった。ストリップキャスト法による合金は、柱状の結晶が組織の大半を有している。従来、この柱状結晶のサイズを制御することにより、得られるR−T−B系焼結磁石の磁気特性を向上させる試みがなされている。
例えば、特許第2665590号公報(特許文献1)では、板厚0.05〜3mmで柱状結晶の短軸方向の平均結晶粒径が3〜30μmの範囲にある希土類−鉄−ボロン系磁気異方性焼結永久磁石原料用合金薄片が示されている。
特開平5−222488号公報(特許文献2)には、短軸方向0.1〜50μm、長軸方向0.1〜100μmの結晶粒径を有する合金鋳塊を用いることにより、磁気特性が向上することが報告されている。
また、磁気特性を向上させるために、平均粒径3〜50μmの柱状結晶粒を有する主相用母合金と平均粒径0.1〜20μmの結晶粒を有する粒界相用母合金を用いた製造方法が特開平7−176414号公報(特許文献3)に開示されている。
特開2000−219942号公報(特許文献4)には、チル晶、粒状結晶及び柱状結晶の存在比率を特定することにより、磁気特性が向上することが報告されている。
特許第2665590号公報 特開平5−222488号公報 特開平7−176414号公報 特開2000−219942号公報
R−T−B系焼結磁石を粉末冶金法にて製造する場合、原料合金→水素粉砕→粗粉砕→微粉砕→焼結→時効処理を経て製造される。この際、前述した従来技術のように原料合金の組織を制御することで磁気特性を向上させている。原料合金中の結晶粒の平均粒径は非常に重要なパラメータであり、これまでこの平均結晶粒径を制御することが行われていた。しかし、平均結晶粒径を制御しただけでは磁気特性、特に高い保磁力を確保することができないことがあった。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、高い磁気特性、特に高い保磁力を安定して得るための原料合金の最適な組織を提供することを目的とする。
原料合金中には、非常に細かい結晶粒から比較的大きい粗大な結晶粒が存在する。この合金の粗大な結晶粒が、磁気特性、特に保磁力に影響することを本発明者等は突き止めた。このように、原料合金中の粗大結晶粒が保磁力に影響することから、原料合金をストリップキャスト法で作製する際にロールに合金溶湯を傾注する際に冷却速度が速くなるようにし、例えば平均粒径で1μm程度まで原料合金の組織を全体的に細かくすることを検討した。しかし、このような組織全体が微細化された原料合金を使用すると、水素粉砕、粗粉砕及び微粉砕したときに、R(希土類)含有量が多くかつ粒径が0.1μm程度の超微粉が生成されやすくなる。このR含有量が多い超微粉は極めて酸化されやすい。したがって、R−T−B系焼結磁石として必要なRが酸化によって消費され、保磁力低下の原因となる。また、酸化が著しいと残留磁束密度も低下することとなる。
そこで、本発明者らは、平均粒径を微細化するという制御手法を採るのではなく、粗大な結晶粒の存在を制御することを試みた。その結果、原料合金の最大粒径を規制することにより、保磁力の高いR−T−B系焼結磁石を安定して得ることができた。このとき、結晶粒の平均粒径も保磁力、残留磁束密度に影響を与えるため、その範囲を規制する必要がある。すなわち本発明は、溶湯急冷法で作製されるR−T−B(ただし、Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする少なくとも1種以上の遷移金属元素、Bはホウ素)系焼結磁石用原料合金であって、原料合金の厚さは100〜800μmであり、原料合金は短軸及び長軸を有する柱状結晶を含み、柱状結晶の短軸の最大平均径をDmax、平均径をDaveとすると、Dmax≦6μm、2μm≦Dave≦5.5μmであることを特徴とする。
本発明の原料合金により得られる焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜35wt%、ホウ素(B)を0.5〜4.5wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.5wt%、Coを2wt%以下(0を含まず)、並びにFe及び不可避的不純物からなる組成を有する。
また本発明において、最大平均径をDmax、平均径をDaveは以下のように特定されるものとする。すなわち、単一の前記原料合金ロットについて、合金厚み方向と垂直な方向の単位長さをL、単位長さLの直線を横切る結晶の数をCとすると、L/Cを平均値Dとし、この平均値DをSEM(Scanning Electron Microscope)により10視野分求め、各々求められたD=L/C(n=1〜10)の平均値を平均径Daveとし、10視野分求められたD=L/Cの最大値を最大平均径Dmaxとする。
以下のR−T−B系焼結磁石を製造する方法についても同様である。
本発明において、柱状結晶の短軸の最大平均径をDmax、平均径をDaveとすると、Dmax≦5.5μm、2.5μm≦Dave≦5μmであることが好ましく、Dmax≦5μm、3μm≦Dave≦4.5μmであることがより好ましい。
一般に、R−T−B系焼結磁石の原料合金はR214B化合物を含んでおり、本発明もR214B化合物を含む原料合金に適用することができる。
本発明の原料合金を用いてR−T−B系焼結磁石を製造する方法は、溶湯急冷法で作製されるR−T−B(ただし、Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする少なくとも1種以上の遷移金属元素、Bはホウ素)系焼結磁石用原料合金を粉砕して得られた合金粉末からなる成形体を得る工程と、成形体を焼結する工程と、を備え、原料合金は、短軸及び長軸を有する柱状結晶を含み、柱状結晶の短軸の最大平均径をDmax、平均径をDaveとすると、Dmax≦6μm、2μm≦Dave≦5.5μmであることを特徴とする。
本発明において、成形体を構成する合金粉末は、D50が2〜6μm、D90が12μm以下あることが好ましい。
以上説明したように、本発明によれば、高い磁気特性を安定して得るための原料合金の最適な組織を提供することができる。そして、このような組織を有する原料合金を用いて作製されたR−T−B系焼結磁石は、高い磁気特性、特に高い保磁力を得ることができる。
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
<原料合金>
本発明のR−T−B系焼結磁石用原料合金は、溶湯急冷法で作製されるものである。溶湯急冷法としては、ストリップキャスト法を用いることができる。ストリップキャスト法は、溶融金属を回転するロール表面に噴出させて急冷凝固する手法である。冷却を一方向からする場合は、単ロール法や回転ディスク法を用いることができ、二方向から冷却する場合は、双ロール法を用いることができる。ストリップキャスト法により得られる薄帯は、柱状の結晶を有する。この柱状結晶は、ロール表面(冷却面)から鉛直な方向に沿って成長している。ストリップキャスト法により得られる薄帯は、柱状結晶のほかに、そのロール表面に接触した面に形成されるチル晶及び粒状の結晶を含むが、組織の大半を柱状結晶が占める。柱状結晶は、薄帯の長手方向の短軸、薄帯の厚さ方向の長軸を含んでいる。
本発明は、この柱状結晶の短軸の最大平均径Dmax及び平均径Daveを規制する。すなわち、本発明者等の検討によると、短軸の平均径Daveを規制したのみでは、安定して高い保磁力のR−T−B系焼結磁石を得ることができないのに対して、短軸の最大平均径Dmaxを規制することにより高い保磁力を安定して得ることができる。具体的には、短軸の最大平均径Dmaxを6μm以下に規制する。好ましくは5.5μm以下、さらに好ましくは5μm以下とする。特に本発明では短軸の最大平均粒径を前記範囲に規制するため、ストリップキャスト合金をロール表面に噴出させて冷却凝固する際に、ロール表面へ溶融金属を噴出する高さや量を調整し、さらには一定供給することが重要となる。但し、溶融金属の組成に応じて適正な温度や粘性が異なるためロール周速度と合わせて適宜設定しなければならない。
本発明は、柱状結晶の短軸の最大平均径Dmaxのみならず、平均径Daveを2〜5.5μmとする。短軸の平均径Daveが2μm未満では、微粉砕時における超微粉が増加し酸化量が増加する傾向にある。また、等軸晶であるチル晶が増加し、焼結磁石体とした時の残留磁束密度を低下させる要因ともなる。したがって、SEM(Scanning Electron Microscope)写真観察において、チル晶及び粒状結晶を10%以下、好ましくは5%以下とすることが好ましい。また、短軸の平均径Daveが5.5μmを超えると高い保磁力を得ることができない。好ましい短軸の平均径Daveは2.5〜5μm、さらに好ましい短軸の平均径は3〜4.5μmである。
ストリップキャスト法による薄帯の厚さは100〜800μmとすることが好ましい。薄帯の厚さが100μm未満であると薄帯中の微結晶が増大して平均径が小さくなる。また、薄帯の厚さが800μmを超すと粗大結晶が増大する傾向があり、短軸の最大径を6.5μm以下とし、かつ短軸の平均径を5.5μm以下にすることが困難となる。好ましい薄帯の厚さは150〜700μm、さらに好ましい薄帯の厚さは200〜600μmである。
R−T−B系焼結磁石の製造方法には、単一の原料合金を用いる単一法及び異なる組成を有する複数種の原料合金を用いる混合法が存在するが、本発明は、単一法及び混合法の両者に適用することができる。
単一法に適用する場合は、原料合金は本発明による原料合金を用いることになる。
混合法は、通常、一方の合金はR214B化合物を主体とする。この合金は、R−T−B系焼結磁石の主相を構成することを想定しており、主相用合金と称されることがある。また、混合される他の合金よりもR含有量が少ないことから低R合金と称されることもある。混合法における他の合金は、R−T−B系焼結磁石の粒界相を形成することを想定していることから、粒界相用合金と称されることがある。また、この粒界相が主相よりもR含有量が多いことから、高R合金と称されることもある。
混合法に本発明を適用する場合、主相用合金及び粒界相用合金の両者に本発明を適用することが好ましいが、混合量の多い方の合金に本発明を適用すればよい。通常、各々の組成によっても相違するが、主相用合金と粒界相用合金との混合比(重量比)は、70:30〜97:3の範囲にあるため、少なくとも主相用合金に本発明を適用すればよい。
ここで、典型的な混合法は主相用合金及び粒界相用合金を一種類ずつ用いるが、主相用合金及び粒界相用合金の一方又は双方を複数種類用いることも可能である。この場合も、主相用合金及び粒界相用合金の全てについて本発明を適用することが好ましいが、複数種の主相用合金に本発明を適用すればよい。
以上、本発明による原料合金について説明したが、次いでこの原料合金を用いてR−T−B系焼結磁石を製造する方法について説明する。
本実施の形態では、主相用合金と粒界相用合金を用いる混合法でR−T−B系焼結磁石を製造する方法について示す。
はじめに、真空又は不活性ガス、好ましくはAr雰囲気中でストリップキャスティングすることにより、主相用合金及び粒界相用合金を得る。この主相用合金及び粒界相用合金は、短軸の最大平均径Dmaxが6μm以下、短軸のDaveが2〜5.5μmに規制される。主相用合金及び粒界相用合金の組成は限定されないが、主相用合金は、少なくともR、Fe及びBを含みR2Fe14B化合物を主体とする。また、粒界相用合金は、少なくともR及びFeを含む。主相用合金及び粒界相用合金は、上記元素以外の元素を含有することができる。この元素としては、後述する化学組成の説明にて掲げる元素とすることができる。希土類元素(R)の範囲は、後述する化学組成を主相合金とすることができ、粒界相合金は主相合金のR量以上とし、好ましくは32〜80wt%、より好ましくは35〜60wt%とする。
主相用合金及び粒界相用合金が作製された後、これらの原料合金は別々に又は一緒に粉砕される。粉砕工程には、粗粉砕工程と微粉砕工程とがある。まず、原料合金を、それぞれ粒径数百μm程度になるまで粗粉砕する。粗粉砕は、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等を用い、不活性ガス雰囲気中にて行なうことが望ましい。粗粉砕性を向上させるために、水素を吸蔵させた後、粗粉砕を行なうことが効果的である。この水素吸蔵により原料合金が粉砕されるため、水素吸蔵処理自体を粗粉砕と位置づけることができる。
粗粉砕工程後、微粉砕工程に移る。微粉砕は、主にジェットミルが用いられ、粒径数百μm程度の粗粉砕粉末を、好ましくはD50が2〜6μm、D90が12μm以下になるまで処理を行う。ジェットミルには分級機構が設けてあることが多く、この分級機構で設定されたサイズ(粒径)以下に粉砕された粉末がジェットミル外に粉砕処理が完了した粉末として排出される。ジェットミルは、高圧の不活性ガス(例えば窒素ガス)を狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により粗粉砕粉末を加速し、粗粉砕粉末同士の衝突やターゲットあるいは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。
2種の合金の混合は、基本的に限定されるものではないが、微粉砕工程において主相用合金及び粒界相用合金を別々に粉砕した場合には、微粉砕された主相用合金粉末及び粒界相用合金粉末とを窒素雰囲気中で混合する。主相用合金粉末及び粒界相用合金粉末の混合比率は、重量比で70:30〜97:3程度とすればよい。主相用合金及び粒界相用合金を一緒に粉砕する場合の混合比率も同様である。微粉砕時に、脂肪酸、脂肪酸の金属塩等からなる潤滑剤を0.01〜0.3wt%程度添加することにより、成形時に配向性の高い粉末を得ることができる。
次いで、主相用合金粉末及び粒界相用合金粉末からなる混合粉末を、磁場印加によってその結晶軸を配向させた状態で加圧成形する。この磁場中成形は、960〜1600kA/m(12〜20kOe)の磁場中で、0.7〜1.5ton/cm2前後の圧力で行なえばよい。また、磁場印加方法は前述の他に、パルス印加磁場を用いてもよい。
磁場中成形後、その成形体を真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結する。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要があるが、1000〜1100℃で1〜10時間程度焼結すればよい。焼結工程の前に成形体に含まれている粉砕助剤、ガスなどを除去する処理を行なってもよい。 焼結後、得られた焼結体に時効処理を施すことができる。この工程は、保磁力を制御する重要な工程である。時効処理を2段に分けて行なう場合には、800℃近傍、600℃近傍での所定時間の保持が有効である。800℃近傍での熱処理を焼結後に行なうと、保磁力が増大するため、混合法においては特に有効である。また、600℃近傍の熱処理で保磁力が大きく増加するため、時効処理を1段で行なう場合には、600℃近傍の時効処理を施すとよい。
<化学組成>
次に、本発明により得られるR−T−B系焼結磁石の望ましい化学組成について説明する。
本発明によるR−T−B系焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜35wt%含有する。
ここで、Rは、Yを含む概念を有しており、したがってY、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb及びLuの1種又は2種以上から選択される。Rの量が25wt%未満であると、R−T−B系焼結磁石の主相となるR214B化合物の生成が十分ではなく軟磁性を持つα−Feなどが析出し、保磁力が著しく低下する。一方、Rが35wt%を超えると主相であるR214B化合物の体積比率が低下し、残留磁束密度が低下する。またRが酸素と反応し、含有する酸素量が増え、これに伴い保磁力発生に有効な粒界相が減少し、保磁力の低下を招く。したがって、Rの量は25〜35wt%とする。望ましいRの量は28〜33wt%、さらに望ましい希土類元素の量は29〜32wt%である。
Ndは資源的に豊富で比較的安価であることから、希土類元素としての主成分をNdとすることが好ましい。またDy、Tbは保磁力を向上させる上で有効である。よって、希土類元素としてNd及びDy、Tbを選択し、Nd及びDy、Tbの合計を25〜35wt%とすることが望ましい。この範囲において、 Dy、Tbの合計の量は0.1〜12wt%が望ましい。Dyは、残留磁束密度及び保磁力のいずれを重視するかによって上記範囲内においてその量を定めることが望ましい。つまり、高い残留磁束密度を得たい場合にはDy、Tbの合計の量を0.1〜4wt%とし、1600kA/mを超える高い保磁力を得たい場合にはDy、Tbの合計の量を4〜12wt%とすることが望ましい。
また、本発明によるR−T−B系焼結磁石は、ホウ素(B)を0.5〜4.5wt%含有する。Bが0.5wt%未満の場合には高い保磁力を得ることができない。ただし、Bが4.5wt%を超えると残留磁束密度が低下する傾向がある。したがって、上限を4.5wt%とする。望ましいBの量は0.5〜1.5wt%、さらに望ましいBの量は0.8〜1.2wt%である。
本発明によるR−T−B系焼結磁石は、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.5wt%の範囲で含有することができる。この範囲でAl及びCuの1種又は2種を含有させることにより、得られるR−T−B系焼結磁石の高保磁力化、温度特性の改善が可能となる。Alを添加する場合において、望ましいAlの量は0.03〜0.3wt%、さらに望ましいAlの量は0.05〜0.25wt%である。また、Cuを添加する場合において、望ましいCuの量は0.15wt%以下(0を含まず)、さらに望ましいCuの量は0.03〜0.08wt%である。この他の元素を含有することも許容する。例えば、Zr、Ti、Bi、Sn、Ga、Nb、Ta、Si、V、Ag、Ge等の元素を適宜含有させることができる。一方で、酸素、窒素、炭素等の不純物元素を極力低減することが望ましい。特に磁気特性を害する酸素は、その量を7000ppm以下、さらには5000ppm以下とすることが望ましい。酸素量が多いと非磁性成分である希土類酸化物相が増大して、磁気特性を低下させるからである。
本発明によるR−T−B系焼結磁石は、Coを2wt%以下(0を含まず)、望ましくは0.1〜1wt%、さらに望ましくは0.3〜0.7wt%含有する。Coはキュリー温度の向上、粒界相の耐食性向上に効果がある。
以下本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
本実施例は、組成の異なるα、βという2種類のR−T−B系焼結磁石を作製し、ストリップキャスト法で作製された原料合金の組織とその磁気特性の関係を調査した結果を示すものである。R−T−B系焼結磁石α及びR−T−B系焼結磁石βともに、単一法及び混合法の2つの製造方法で作製した。
ストリップキャスト法により作製された薄帯(原料合金)の組成を表1に示す。混合法は、表1に示す主相用合金及び粒界相用合金を95:5の重量比で混合した。また、単一法の場合は、主相用合金及び粒界相用合金を95:5の重量比で混合した組成に一致する合金をストリップキャスト法で作製し、原料合金とした。また、原料合金の組織を観察し、短軸の平均粒径及び最大平均粒径を求めた。なお、混合法の場合は主相用合金について短軸の平均径Dave及び最大平均径Dmaxを求めた。その結果を表2に示す。また、短軸の平均径Dave及び最大平均径Dmaxは以下のように求めた。
Figure 0004955217
単一の原料合金ロットについて、10視野だけSEM(Scanning Electron Microscope)写真を撮影し、各写真において、合金厚み方向と垂直な方向に直線を引き、その単位長さあたりの直線を横切る結晶の数を求める。単位長さを結晶数で割り、この値を当該視野における平均値とする。この平均値を、10視野分求め、各々求められた平均値の平均をさらに求め、この値を当該原料合金の短軸の平均径Daveとする。また、10視野分求められた平均値の最大値を、当該原料合金の短軸の最大平均径Dmaxとする。
得られた各々の原料合金に対して室温にて水素を吸蔵させた後、Ar雰囲気中で600℃×1時間の脱水素を行なう、水素粉砕処理を行なった。
水素粉砕された原料合金に、粉砕助剤としてオレイン酸アミドを0.1wt%添加した後に種々の条件でジェットミルにて微粉砕を行なって、種々の粒径の微粉末を得た。この微粉末を粗粉分級回転機にて所定粒度以上の粉末を除去した。その後、微粉末のD50及びD90を測定した。なお、粒径の測定はレーザ回折式粒度分布計(Malvern Instruments社製Mastersizer)により行なった。また、D50は累積体積比率が50%となる粒子径を、D90は累積体積比率が90%となる粒子径をいう。
得られた微粉末を、磁場強度:15kOe、圧力:1.4ton/cm2の条件の磁場中成形中を行って成形体を得た。
得られた成形体を真空中において1070℃(R−T−B系焼結磁石α)、又は1080℃(R−T−B系焼結磁石β)で4時間焼結した後、急冷した。次いで得られた焼結体に800℃×1時間と560℃×1時間(ともにAr雰囲気中)の2段時効処理を施した。
得られたR−T−B系焼結磁石についてB−Hトレーサにより磁気特性を測定した。その結果を表2に示す。また、図1にR−T−B系焼結磁石αにおける原料合金の短軸の最大平均径Dmaxと保磁力(Hcj)の関係(試料No.1〜6)を、図2にR−T−B系焼結磁石βにおける原料合金の短軸の最大平均径Dmaxと保磁力(Hcj)の関係(試料No.14〜16)を示す。また、図3にR−T−B系焼結磁石αにおける原料合金の短軸の平均径Daveと保磁力(Hcj)の関係(試料No.1〜6)を、図4にR−T−B系焼結磁石βにおける原料合金の短軸の最大平均径Daveと保磁力(Hcj)の関係(試料No.14〜16)を示す。
Figure 0004955217
表1及び図1〜図4に示すように、R−T−B系焼結磁石α及びR−T−B系焼結磁石βともに、磁気特性、特に保磁力(Hcj)は原料合金の短軸の平均径Daveが小さくなるほど大きな値を得ることができる。つまり、Daveを5.5μm以下にすることにより、高い保磁力(Hcj)を得ることができる。しかし、Daveが5.5μm以下であっても、保磁力(Hcj)が低い場合がある。このときの原料合金の最大平均径Dmaxをみると、7.2μmと大きい。このように、Daveを規制するのみでは高い保磁力(Hcj)を得ることができず、最大平均径Dmaxを規制する必要があることがわかる。表1及び図1〜図4に基づいて、本発明における最大平均径Dmaxは6μm以下とする。保磁力(Hcj)の観点から、最大平均径Dmaxは好ましくは5.5μm以下、さらに好ましくは5μm以下とすべきである。ただし、あまり組織が微細になると、微粉砕時における超微粉が増加し酸化量が増加する傾向にある。また、等軸晶であるチル晶が増加し、焼結磁石体とした時の残留磁束密度を低下させる要因にもなるため、平均径Daveは2μm以上とする。
次に、図5にR−T−B系焼結磁石αにおける微粉末のD50と保磁力(Hcj)の関係(試料No.7〜11)を、図6にR−T−B系焼結磁石βにおける微粉末のD50と保磁力(Hcj)の関係(試料No.21〜25)を示す。また、図7にR−T−B系焼結磁石αにおける微粉末のD90と保磁力(Hcj)の関係(試料No.7〜11)を、図8にR−T−B系焼結磁石βにおけるにおける微粉末のD90と保磁力(Hcj)の関係を(試料No.21〜25)示す。図5〜図8に示すように、微粉末の粒径が小さくなると保磁力(Hcj)は単調に増加することがわかる。そして、高い磁気特性、特に保磁力(Hcj)を得るためには、微粉末のD50が6μm以下、さらにD90が12μm以下であることが好ましい。一方で、D50があまり小さいと1μm以下の細かい微粉末含有量割合が増加し酸化されやすく磁気特性劣化の要因となり、また、成形時のかじりなどの不具合が増加し歩留まり低下を招く要因ともなる。したがって、本発明では微粉末のD50は2〜6μmとし、D90を12μm以下とすることが好ましい。
表2の試料No.3及び試料No.5の粉砕効率を比較すると、差異は7%である。また、試料No.12及び試料No.13の粉砕効率を比較すると、差異は3%である。すなわち、本発明を混合法に適用した場合の方が、本発明を単一法に適用する場合に比べて、粉砕効率向上の効果を得やすいことになる。上記粉砕効率とは、単位時間に粉砕される重量を試料No.12を基準とした比率で示したものである。
R−T−B系焼結磁石αにおける原料合金の短軸の最大平均径Dmaxと保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石βにおける原料合金の短軸の最大平均径Dmaxと保磁力(Hcj)の関係を示すグラブである。 R−T−B系焼結磁石αにおける原料合金の短軸の平均径Daveと保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石βにおける原料合金の短軸の平均径Daveと保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石αにおける微粉末のD50と保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石βにおける微粉末のD50と保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石αにおける微粉末のD90と保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。 R−T−B系焼結磁石βにおける微粉末のD90と保磁力(Hcj)の関係を示すグラフである。

Claims (6)

  1. 溶湯急冷法で作製されるR−T−B(ただし、Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする少なくとも1種以上の遷移金属元素、Bはホウ素)系焼結磁石用原料合金であって、
    前記原料合金により得られる焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜35wt%、ホウ素(B)を0.5〜4.5wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.5wt%、Coを2wt%以下(0を含まず)、並びにFe及び不可避的不純物からなる組成を有し、
    前記原料合金の厚さは100〜800μmであり、
    前記原料合金は短軸及び長軸を有する柱状結晶を含み、
    前記柱状結晶の前記短軸の最大平均径をDmax、平均径をDaveとし、
    単一の前記原料合金ロットについて、合金厚み方向と垂直な方向の単位長さをL、単位長さLの直線を横切る結晶の数をCとすると、L/Cを平均値Dとし、この平均値DをSEM(Scanning Electron Microscope)により10視野分求め、各々求められたD=L/C(n=1〜10)の平均値を前記平均径Daveとし、10視野分求められたD=L/Cの最大値を前記最大平均径Dmaxとすると、
    max≦6μm、2μm≦Dave≦5.5μmであることを特徴とするR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  2. 前記Dmax、前記Daveは、
    max≦5.5μm、2.5μm≦Dave≦5μmであることを特徴とする請求項1に記載のR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  3. 前記原料合金は、R214B化合物を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のR−T−B系焼結磁石用原料合金。
  4. 溶湯急冷法で作製されるR−T−B(ただし、Rは希土類元素の1種又は2種以上、TはFe又はFe及びCoを必須とする少なくとも1種以上の遷移金属元素、Bはホウ素)系焼結磁石用原料合金を粉砕して得られた合金粉末からなる成形体を得る工程と、
    前記成形体を焼結する工程と、
    を備え、
    前記原料合金により得られる焼結磁石は、希土類元素(R)を25〜35wt%、ホウ素(B)を0.5〜4.5wt%、Al及びCuの1種又は2種を0.02〜0.5wt%、Coを2wt%以下(0を含まず)、並びにFe及び不可避的不純物からなる組成を有し、
    前記原料合金の厚さは100〜800μmであり、
    前記原料合金は、短軸及び長軸を有する柱状結晶を含み、
    前記柱状結晶の前記短軸の最大平均径をDmax、平均径をDaveとし、
    単一の前記原料合金ロットについて、合金厚み方向と垂直な方向の単位長さをL、単位長さLの直線を横切る結晶の数をCとすると、L/Cを平均値Dとし、この平均値DをSEM(Scanning Electron Microscope)により10視野分求め、各々求められたD=L/C(n=1〜10)の平均値を前記平均径Daveとし、10視野分求められたD=L/Cの最大値を前記最大平均径Dmaxとすると、
    max≦6μm、2μm≦Dave≦5.5μmであることを特徴とするR−T−B系焼結磁石の製造方法。
  5. 前記合金粉末は、D50が2〜6μm、D90が12μm以下であることを特徴とする請求項4に記載のR−T−B系焼結磁石の製造方法。
  6. 前記Dmax、前記Daveは、
    max≦5μm、3μm≦Dave≦4.5μmであることを特徴とする請求項4又は5に記載のR−T−B系焼結磁石の製造方法。
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