JP4954694B2 - 湿式研磨方法および湿式研磨装置 - Google Patents
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Description
前記載置トレイの凹陥部内にエッチャントを貯留し、前記研磨部で被加工物を研磨する間に、前記被加工物展開ステージにおいて他の被加工物をエッチャントに浸した状態で待機させてエッチングすることを特徴とする湿式研磨方法。
前記被加工物展開ステージの載置トレイが上面にエッチャントを貯留する凹陥部を有し、被加工物をエッチャントに浸した状態で載置してエッチングするものとなされていることを特徴とする湿式研磨装置。
[11] 前記被加工物展開ステージが前記研磨部のキャリアと同数のプレートを有し、各プレートが各キャリアの保持孔と同数の載置トレイを有する前項10に記載の湿式研磨装置。
〔研磨部〕
図2および図3に示すように、前記研磨部(10)は、下定盤(11)、上定盤(15)、太陽歯車(20)、内歯歯車(22)、キャリア(30)等で構成された遊星歯車方式の研磨部を例えば採用することができる。
例えば、図2に示すように、ローダー部(40)は前記研磨部(10)の前段に配置され、台(図示省略)上に回転可能に設置された円形のテーブル(41)とこのテーブル(41)の上方に配置された移載装置(50)とを有している。前記テーブル(41)は、本発明における被加工物展開ステージに対応する。
アンローダー部(70)は前記研磨部(10)の後段に配置され、台(図示省略)上に回転可能に設置された円形のテーブル(71)とこのテーブル(71)の上方に配置された移載装置(80)とを有する。前記テーブル(71)は本発明における被加工物展開ステージに対応する。
上述した湿式研磨装置(1)において、磁気ディスク基板(S)が各部を移送される間に、下記(i)〜(ix)の順序で研磨、洗浄、乾燥が連続して行われる。
上記研磨サイクルにおいて、目標の仕上がり表面粗さ(Ra)を0.6nmに設定した。この目標の表面粗さ(Ra)が達成されるように、研磨部(10)における研磨時間および研磨量を設定した。実施例では研磨の前後で行われるエッチングを考慮して研磨部(10)の研磨時間を設定した。設定した研磨時間および研磨量を表1に示す。
上記研磨サイクルにおいて、目標の仕上がり表面粗さ(Ra)を1nmに設定し、試験例1と同じように研磨試験を行った。
10…研磨部
11…下定盤
15…上定盤
30…キャリア
31…保持孔
40…ローダー部(載置移載部)
41,71…テーブル(被加工物展開ステージ)
42,72…プレート
43…凹部
44…溝
45,75…載置トレイ
70…アンローダー部(載置移載部)
50,80…移載装置
54,84…把持部
56,86…爪
S…磁気ディスク基板(被加工物)
S1…貫通孔
W…エッチャント
Claims (10)
- 被加工物を上下に対向配置された上定盤と下定盤との間に挟持して研磨液を供給しながら研磨する研磨部と、前記研磨部の前段および後段の少なくとも一方に配置され、上面に形成された凹陥部内に被加工物を載置する載置トレイを有する被加工物展開ステージとを備え、載置移載部として、前記被加工物展開ステージと、把持部により被加工物を把持し、前記研磨部と被加工物展開ステージとの間で被加工物を移載する移載装置とを有し、前記研磨部が被加工物を装填する保持孔が形成されたキャリアを有し、前記載置移載部が前記キャリアの保持孔と同数の載置トレイおよび把持部を有し、全被加工物の移載を一括して行う湿式研磨装置を用い、
前記載置トレイの凹陥部内にエッチャントを貯留し、前記研磨部で被加工物を研磨する間に、前記被加工物展開ステージにおいて他の被加工物をエッチャントに浸した状態で待機させてエッチングすることを特徴とする湿式研磨方法。 - 前記被加工物展開ステージは、前記研磨部の前段に配置され、研磨部に装填する被加工物を待機させる装填用ステージであり、被加工物をエッチャントに浸してエッチングした後に研磨する請求項1に記載の湿式研磨方法。
- 前記被加工物展開ステージは、前記研磨部の後段に配置され、湿式研磨装置から排出する研磨済みの被加工物を待機させる排出用ステージであり、被加工物を研磨した後にエッチャントに浸してエッチングする請求項1または2に記載の湿式研磨方法。
- 前記被加工物はアルミニウム製磁気ディスク基板である請求項1〜3のいずれかに記載の湿式研磨方法。
- 前記エッチャントとして、前記研磨液の分散媒、この分散媒の濃縮液、この分散媒の希釈液のうちのいずれかを用いる請求項1〜4のいずれかに記載の湿式研磨方法。
- 被加工物を上下に対向配置された上定盤と下定盤との間に挟持して研磨液を供給しながら研磨する研磨部と、前記研磨部の前段および後段の少なくとも一方に配置され、被加工物を載置して待機させる載置トレイを有する被加工物展開ステージとを備え、載置移載部として、前記被加工物展開ステージと、把持部により被加工物を把持し、前記研磨部と被加工物展開ステージとの間で被加工物を移載する移載装置とを有し、前記研磨部が被加工物を装填する保持孔が形成されたキャリアを有し、前記載置移載部が前記キャリアの保持孔と同数の載置トレイおよび把持部を有し、全被加工物の移載を一括して行う湿式研磨装置であって、
前記被加工物展開ステージの載置トレイが上面にエッチャントを貯留する凹陥部を有し、被加工物をエッチャントに浸した状態で載置してエッチングするものとなされていることを特徴とする湿式研磨装置。 - 前記被加工物展開ステージは、前記研磨部の前段に配置され、前記研磨部に装填する被加工物を待機させる装填用ステージである請求項6に記載の湿式研磨装置。
- 前記被加工物展開ステージは、前記研磨部の後段に配置され、湿式研磨装置から排出する研磨済みの被加工物を待機させる排出用ステージである請求項6または7に記載の湿式研磨装置。
- 前記被加工物展開ステージが前記研磨部のキャリアと同数のプレートを有し、各プレートが各キャリアの保持孔と同数の載置トレイを有する請求項6〜8のいずれかに記載の湿式研磨装置。
- 前記プレートに形成された有底の凹部にリング状の載置トレイを嵌め込むことにより凹陥部が形成され、かつ前記凹部の底部に凹部を連通させる溝が設けられている請求項9に記載の湿式研磨装置。
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