JP4942857B2 - デバイス実装構造およびデバイス実装方法 - Google Patents
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Description
本願は、2009年4月28日に、日本に出願された特願2009−109926号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
前記各貫通配線は、前記第1の導通部と前記第2の導通部との間を結ぶ略直線形状を有することが好ましい。
前記基板の内部に、冷却用流体を流通させる流路が設けられていることが好ましい。
前記貫通孔形成工程において、前記基板の内部に、冷却用流体を流通させる流路を形成することが好ましい。
前記貫通孔形成工程は、前記基板において前記貫通孔を形成する領域および前記流路を形成する領域を改質する工程と、前記改質された領域をエッチングにより除去する工程とを有することが好ましい。
図1A〜3に本発明の一形態例に係るデバイス実装構造を示す。このデバイス実装構造は、基板10と、この基板10の一方の主面(以下「第1主面」という。)11から他方の主面(以下「第2主面」という。)12に向けて基板10を貫通する複数の貫通孔13の内部に形成された複数の貫通配線16とを有する貫通配線基板19と;複数の電極3を有してかつ、これら電極3が第1主面11に対向するように配置された第1のデバイス1と;第1のデバイス1の各電極3の配置とは配置が異なる複数の電極4を有してかつ、これら電極4が第2主面に対向するように配置された第2のデバイス2と;を備え、各貫通孔13は、第1主面11の、第1のデバイス1の電極3と対応する位置に設けられた第1の導通部114と、第2主面12の、第2のデバイス2の電極4と対向する位置に設けられた第2の導通部115とを有し、第1のデバイス1の各電極3は、第1の導通部114に電気的に接続され、第2のデバイス2の各電極4は、第2の導通部115に電気的に接続されている。
特に、図1Bから明らかなように、本発明のデバイス実装構造においては、第1のデバイス1の各電極3は、第1の導通部114に電気的に接続され、第2のデバイス2の各電極4は、第2の導通部115に電気的に接続されるとともに、第1のデバイス1の各電極3と第1の導通部114とは各々の位置がそれぞれ整合している。また、第2のデバイス2の各電極4は、第2の導通部115に電気的に接続されるとともに、第2のデバイス2の各電極4と第2の導通部115とは各々の位置がそれぞれ整合している。
これにより、第1のデバイス1の複数の電極3と第2のデバイス2の複数の電極4とが、複数の貫通配線16を介して電気的に接続されるので、これらの電極3,4間をほぼ最短で接続することができる。各貫通配線16は、第1の導通部114と第2の導通部115との間を結ぶ略直線形状を有することが好ましい。
なお、貫通孔13の向きは、基板10の主面11,12に対して垂直な方向から見た平面視によるのではなく、基板10の厚さ方向を含めて三次元的に理解される。例えば図2Aで基板10の中心に対して向かい合った貫通孔13同士は、平面視では向きが同じであるが、図3に示すように、三次元的には第1主面11側から第2主面12側に向かう向きが異なっており、互いに非平行である。
なお、電子デバイスの基材と、電子デバイスが実装される基板との間の線膨張係数差が大きい場合には、実装時の温度によって両者の伸び量が大きく異なるため、電子デバイスの電極とこの電極が接続される基板上の導電部との間に位置ずれが生じやすい。この結果、両者間の精度の高い接続が困難になり、又は、両者間の接続そのものが困難になる場合がある。
これに対し、本発明によれば、基板10の材料としてシリコンやガラスを用いることができる。したがって、たとえば、シリコン基材を用いた電子デバイス1,2を基板10の両主面上に実装する場合、上述した線膨張係数差を小さくすることができる。この結果、電子デバイス1,2の電極と基板10上の導通部との位置ずれが抑制され、両者を位置精度良く接続することができる。
貫通孔(微細孔)13の形成には、特許文献1に記載された石英ガラスのフェムト秒レーザーによる改質とウェットエッチングとを併用する方法や、NCドリル等の機械的手法を用いることができる。フェムト秒レーザーを用い改質をおこなうと、レーザーが照射された部分の構造が変化し、エッチャントに対する耐性が、レーザーが照射されてない部分と比べて低下するので、容易に孔を形成することができる。また、微細孔13の径は、開口部14,15間でほぼ一定でも良いし、あるいはテーパ状や階段状等に変化しても構わない。また、第1の開口部14の内径と第2の開口部15の内径とが異なっていても構わない。また、開口部14,15近傍で、孔径が基板10内部から主面11,12側に向かって連続的または段階的に拡大する構造とすることもできる。
貫通配線16に用いる導体としては、銅(Cu)やタングステン(W)等の金属、金錫(Au−Sn)等の合金、ポリシリコン等の非金属の導体が挙げられる。作製方法は、めっき法、スパッタ法、溶融金属充填法、CVD、超臨界成膜法など、適宜用いることができる。
この際、微細孔内部に導体を完全に充填する方法として、上述しためっき法、スパッタ法、溶融金属充填法、CVD、超臨界成膜法などのうちいずれか一つの方法を採用することができる。または、これらの方法を適宜組み合わせて用いてもよい。特に孔の長さが長く、形状が複雑である場合には、CVDまたは超臨界成膜など孔の深部まで成膜できる方法により導体薄膜を形成すればよい。当該導体薄膜をシード層や接着層として、引き続きめっき法や溶融金属充填法により効率的に微細孔内部に導体を完全充填することができる。
本形態例の場合、図1Bに示すように、第1主面11側で複数のデバイス1が基板10上に積層されている。このように本形態例によれば、さらなる高密度化が可能である。
また、図4A及び4Bに示す本形態例の第1変形例に係るデバイス実装構造において、第1のデバイス1の電極配置は、十字状に電極3が並ぶ配置であり、第2のデバイス2の電極配置は、デバイス2の周縁部に電極4が並ぶペリフェラル配置である。
また、図5A及び5Bに示す本形態例の第2変形例に係るデバイス実装構造において、第1のデバイス1の電極配置は、周辺部および十字状に電極3が並ぶ格子型配置であり、第2のデバイス2の電極配置は、デバイス2の周縁部に電極4が並ぶペリフェラル配置である。
ここで、符号A1〜A9は、第1のデバイス1の電極3に接続される第1主面11上のランド部17を表す。また、符号B1〜B9は、第2のデバイス2の電極4に接続される第2主面12上のランド部18を表す。また、符号C1〜C9は、A1〜A9とB1〜B9とを各々接続する貫通配線16を表す。
また、本発明は、以上の例示に限定されるものではなく、他の電極配置を組み合わせても構わない。
このように、両デバイス1,2の電極3,4が、それぞれのデバイス1,2上でどのような電極配置(レイアウト)になっていようとも、ほぼ最短で電極3,4間を接続することができるため、デバイスの高速化に寄与する。また、ビルドアップ基板のように多層化をすることなく、貫通配線基板19,19A,19B,19Cの内部で配線間のピッチを変換できるため、効率よく両デバイス1,2の電極3,4間を接続することができる。
流路31を、冷却用流体を流通させる流路として用いる場合、図11A〜13Cに示す流路付き貫通配線基板30,30A,30Bの第1主面11側に第1のデバイスを、第2主面12側に第2のデバイスを、それぞれ実装することにより、流路付き貫通配線基板30,30A,30Bを冷却することができる。これにより、第1のデバイス及び/又は第2のデバイスの電極が高密度に配置されている場合であっても、流路付き貫通配線基板30,30A,30Bの温度上昇を効果的に低減することが可能になる。以下、流路31を、冷却用流体を流通させる流路として用いる場合について説明する。
図11A〜11Cに示すように、流路31が複数本であっても良い。
また、図12Aに示すように、1本の流路31が基板10全体を冷却できるように蛇行していても良い。
また、図13A〜13Cに示すように、流路31の出入口32,33が基板10の主面12に開口されていても良い。
また、流路31のパターン(経路)や断面形状は、以上の例示に限定されるものではなく、適宜設計することが可能である。
本形態例において、貫通孔13は基板10の主面11,12に対して斜めに形成されるので、図12A等に示すように基板10の主面11,12に平行な流路31が平面視で貫通孔13と重なり合っているように見えても、貫通孔13と流路31とは連通していない。すなわち、基板10の厚さ方向における位置が互いにずれていれば、貫通孔13と流路31とがつながり合うことはない。
まず、図14A、14Bに示すように、基板10にレーザー光34を照射して、基板10内に基板10の材料が改質されてなる改質部35,36を形成する。改質部35は、貫通孔13が形成される領域に設けられ、改質部36は、流路31が形成される領域に設けられる。
本形態例において、微細孔13の孔径は50μmとした。微細孔13の孔径は、貫通配線16の用途に応じて10μm程度から300μm程度まで適宜設定することができる。流路31の孔径は、微細孔13の孔径と同程度でも、より小さく(細く)、あるいはより大きく(太く)ても良い。流路31の孔径は、特に限定されるものではないが、例えば10μm程度から500μm程度とすることができる。また、流路31の孔径が部分的に細い部分や部分的に太い部分を有しても構わない。
なお、エッチング液はフッ酸に限定されず、例えばフッ酸に硝酸等を適量添加したフッ硝酸系の混酸や水酸化カリウム等のアルカリ性水溶液も用いることができる。また、基板10材料に応じて、他の薬液を用いることもできる。
基板10の材料は、石英ガラス(シリカガラス)に限定されるものではなく、例えばサファイア等の絶縁基板や、アルカリ成分等を含んだ他の他成分ガラス基板を用いることができ、その厚さも150μm〜1mm程度まで適宜設定できる。
なお、複数の改質部35,36を形成した後に、すべての改質部35,36をエッチングして貫通孔13や流路31を形成する必要はない。例えば、一部の改質部35,36をその両端にレジスト等の保護層を設けるなどしてエッチングされないよう保護し、エッチングされる改質部35,36を選択することもできる。これにより、必要な位置にのみ貫通孔13や流路31を形成することができる。
例えば、あらかじめデバイス1,2のすべての電極3,4に対応するように改質部35を形成した後に、デバイス1,2の使用態様などに応じて電極3,4の一部について貫通配線16を設ける必要がなくなった場合には、その貫通配線16が不要な箇所に対応する改質部35をエッチングされないように保護して、貫通孔13を開口しないようにすることもできる。このように、改質部35を形成する段階では一律に改質部35を形成した後に、エッチングする段階で貫通配線16を形成する位置を選択することができるので、改質部35を形成するレーザー光の照射位置の制御が容易になる。
たとえば、改質部35,36の所望の形状に対応するパターンが記録されたホログラムをフェムト秒レーザーと基板との間に配置し、ホログラムを通してレーザー光を基板に照射することにより、基板の内部に所望の形状を有する改質部を一括形成することができる。その後、当該改質部をエッチングすることで、所望の貫通孔(微細孔)及び/又は流路を形成することができる。
2 第2のデバイス
3,4 電極
10 基板
11 第1主面(一方の主面)
12 第2主面(他方の主面)
13 貫通孔(微細孔)
14 第1の開口部
15 第2の開口部
16 貫通配線
19,19A,19B,19C 貫通配線基板
30,30A,30B 流路付き貫通配線基板
31 流路
35,36 改質された領域(改質部)
Claims (6)
- 基板と、この基板の一方の主面である第1主面から他方の主面である第2主面に向けて前記基板を貫通する複数の貫通孔の内部に形成された複数の貫通配線とを有する貫通配線基板と;
複数の電極を有してかつ、これら電極が前記第1主面に対向するように配置された第1のデバイスと;
この第1のデバイスの各電極の配置とは配置が異なる複数の電極を有してかつ、これら電極が前記第2主面に対向するように配置された第2のデバイスと;
を備えたデバイス実装構造であって、
前記各貫通配線は、前記第1主面の、前記第1のデバイスの電極に対応する位置に設けられた第1の導通部と、前記第2主面の、前記第2のデバイスの電極に対応する位置に設けられた第2の導通部とを有し、
前記第1のデバイスの各電極は、前記第1の導通部に電気的に接続されるとともに、前記第1のデバイスの各電極と前記第1の導通部とは各々の位置がそれぞれ整合しており、
前記第2のデバイスの各電極は、前記第2の導通部に電気的に接続されるとともに、前記第2のデバイスの各電極と前記第2の導通部とは各々の位置がそれぞれ整合しており、
前記基板に形成された配線は、前記第1のデバイスの各電極と前記第2のデバイスの各電極とを電気的に接続するための貫通配線のみであることを特徴とするデバイス実装構造。 - 前記各貫通配線は、前記第1の導通部と前記第2の導通部との間を結ぶ略直線形状を有することを特徴とする請求項1に記載のデバイス実装構造。
- 前記基板の内部に、冷却用流体を流通させる流路が設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載のデバイス実装構造。
- 複数の電極を有する第1のデバイスと、この第1のデバイスの各電極の配置とは配置が異なる複数の電極を有する第2のデバイスとを用意する工程と;
基板の一方の主面である第1主面の、前記第1のデバイスの各電極に対応する位置と、前記基板の他方の主面である第2主面の、前記第2のデバイスの各電極に対応する位置とで開口するように、前記第1主面から記第2主面に向けて前記基板を貫通する複数の貫通孔を形成する貫通孔形成工程と;
前記各貫通孔内に導体を充填または成膜することにより、前記第1主面側に露出する第1の導通部と前記2主面側に露出する第2の導通部とを有する貫通配線を形成する貫通配線形成工程と;
前記基板に形成された配線が、前記第1のデバイスの各電極と前記第2のデバイスの各電極とを電気的に接続するための貫通配線のみとなるように、前記第1のデバイスを前記基板の前記第1主面に対向し、かつ、前記第1のデバイスの各電極と前記第1の導通部とは各々の位置がそれぞれ整合するように配置してこの第1のデバイスの各電極を対応する前記第1の導通部に接合するとともに、前記第2のデバイスを前記基板の前記第2主面に対向し、かつ、前記第2のデバイスの各電極と前記第2の導通部とは各々の位置がそれぞれ整合するように配置してこの第2のデバイスの各電極を対応する前記第2の導通部に接合する実装工程と;
を有することを特徴とするデバイス実装方法。 - 前記貫通孔形成工程において、前記基板の内部に、冷却用流体を流通させる流路を形成することを特徴とする請求項4に記載のデバイス実装方法。
- 前記貫通孔形成工程は、前記基板において前記貫通孔を形成する領域および前記流路を形成する領域を改質する工程と、前記改質された領域をエッチングにより除去する工程とを有することを特徴とする請求項5に記載のデバイス実装方法。
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