JP4941412B2 - 耐熱遮光フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、耐熱遮光フィルムの製造方法に関し、より詳しくは、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、車載カメラなどのレンズユニットに搭載される絞り、シャッター羽根や、プロジェクタの絞りや光量調整用絞り装置（オートアイリスともいう）の絞り羽根などの光学機器部品として用いられる耐熱遮光フィルムの製造方法に関する。特に、金属膜と金属酸化物膜の積層構造からなる耐熱遮光フィルムに関して、反応性スパッタリング法を用いた金属酸化物膜の製造方法に関する。

アルゴンガスを導入し、放電させたガス中に同時に反応性ガスを導入させる反応性スパッタリング法により金属酸化物膜を形成させたり、また反応性ガスとアルゴンガスのガス流量比を調整し、金属酸化物膜の含有酸素量を制御し、好ましい特性を導き出す方法が一般的に実施されている。

スパッタリングの現象について以下に説明する。一般的に、アルゴンなどのスパッタリングガス圧（約１０Ｐａ以下）のもとで、基材を陽極として、膜の原料となるスパッタリングターゲットを陰極として、この間にグロー放電を起こさせてアルゴンプラズマを発生させ、プラズマ中のアルゴンイオンを陰極のスパッタリングターゲットに衝突させてスパッタリングターゲット成分の粒子を弾き飛ばし、この粒子を基材上に堆積させて成膜する方法である。

反応性スパッタリングでは、アルゴンガスと反応性ガスを混合させて、スパッタリングターゲット表面でアルゴンイオンによるスパッタリングターゲット表面への衝突によるスパッタリングターゲットの原子の叩き出しと、反応性ガス、例えば酸素イオンによるスパッタリング粒子との化学反応による酸化物膜の形成が起こるとともに、スパッタリングターゲットの原子の酸化反応による表面酸化物層の増大が起こる。

スパッタリング中にスパッタリングターゲット表面の酸化反応が、基材へのスパッタリング粒子の弾き飛ばしより優先的に起こる場合には、スパッタリングターゲット表面層の酸化の割合が大きくなり、成膜速度が小さくなる。逆に、スパッタリングの方が、ターゲット表面の酸化より優先的に起こっている場合には、スパッタリングターゲット表面は金属状態に近い状態が維持され、成膜速度は金属の状態を維持する。

したがって、反応性ガスのアルゴンガスに対する流量比を変化させることで基材上、あるいは基材上に形成された金属膜上に形成される金属酸化物膜を、金属状態に近い酸素欠損状態からほぼ酸化物に近い状態にまで変化させることができる。

反応性スパッタリングで金属酸化物膜をスパッタリングする時の反応性ガス流量を制御する方法としては、マスフローによる反応性ガスの流量制御、プラズマエミッションモニター（ＰＥＭ）によるスパッタリングターゲットの放電電圧制御および光学的にスパッタリングターゲット成分の発光スペクトル強度により制御する方法等が採られている。形成する金属酸化物膜の材質により前記した最適な反応性ガス流量の制御方法が選択される。

金属ターゲットをスパッタリング原料とし、反応性ガス導入を行う反応性スパッタリング法により金属酸化物膜の形成方法は従来より提案されている。

例えば、特許文献１には、Ｔｅをスパッタリングターゲット材料に用いた場合、スパッタリングターゲットの酸化速度とスパッタリング速度のバランスを採り、均一な膜組成を得るために、予め該スパッタリングターゲットのプレスパッタリング時の反応性ガスのガス分圧を上げて、スパッタリングターゲット上に過剰に表面反応層を形成してから、反応性ガスの分圧を下げて本スパッタリングを行う方法が開示されている。

通常、金属をスパッタリングターゲットとした反応性スパッタリングでは、酸素などの反応性ガス流量を増やしていくとある導入量までは、ゆっくりと成膜速度が遅くなっていき、ある導入量より多くなると急激に成膜速度が遅くなり、その後は導入量を増やしても成膜速度があまり変化しなくなるという現象が見られる。最初の領域は金属モード、後者は酸化物モード、その間の急激に変化する領域は遷移領域と一般的に呼ばれている。

ところで、特許文献１にあるプレスパッタリング時に反応性ガスの流量を一旦、本スパッタリング時の流量以上とし、スパッタリングを行った後に、下げるという方法では、スパッタリングターゲット表面に過剰な酸化物層が形成されてしまい、目的とする基材に堆積するスパッタリング粒子の成膜速度や膜の膜質が得られなくなるおそれがある。
特に、目的とする金属酸化物膜が得られる反応性ガス流量が、上記の遷移領域にある場合であれば、初めに過剰な反応性ガスの導入によってターゲット表面が急激に酸化されているので、その後に反応性ガス流量を下げても、成膜速度が遅く、十分に酸化された酸化物膜しか得られなくなる。そのため、プレスパッタリング時の反応性ガス流量を本スパッタリング時以上に多く導入した場合には、一旦反応性ガスの導入を停止し、アルゴンガスのみでプレスパッタリングし、ターゲット表面の酸化物層を除去する工程が必要になってしまう。

ここで、本発明に係る遮光フィルムの製造方法により製造される遮光フィルムは、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ、プロジェクタ、携帯電話、車載カメラなどに組み込まれるレンズユニットに搭載される絞り、シャッター羽根や、プロジェクタの絞りや光量調整用絞り装置（オートアイリスともいう）の絞り羽根などの光学機器部品として使用されるものである。その使用用途に求められる特性の一つとして、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化があり、そのためにフィルムの色味は暗色系が求められている。

従来、上記特性を付与するために、フィルム基材あるいはプリプレグシートにカーボンブラックなどを混入する方法や、羽根材料の表面、層間に黒色系顔料を添加した塗布膜を形成する、あるいは、プラスチックフィルムの表面にメッキなどで金属膜を形成するなどした遮光羽根材料が提案されている。

特許文献２では、高速動作に耐え得る剛性、耐久性、軽量性、低発塵性及び高潤滑性などの諸要求特性を満たす遮光羽根材料として、フィルム状の基材と、その片面又は両面に形成された遮光性を有する遮光膜と、その上に形成された保護膜とを含み、前記基材は少なくとも１５０℃の処理温度に耐える樹脂材料からなり、前記遮光膜は１５０℃以下の処理温度を維持できる真空蒸着法、スパッタリング法又はプラズマＣＶＤ法にて成膜された、Ａｌ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ｔｉ及びＮｂから選択された金属の単体、混合物又は化合物を成膜した薄膜からなり、前記保護膜は導電性、潤滑性及び耐擦傷性のうち一つ以上の特性を満たした、Ｃ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｍｏ，Ｗ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｉｎ及びＳｎから選択された元素の単体又は化合物あるいは薄膜からなる、遮光羽根材料が提案されている。

そして、上記遮光膜として金属膜を選択し、保護膜として金属酸化物膜を選択した場合、金属酸化物膜を形成するためには、反応性スパッタリング法を用いることが好ましく、上記したような、反応性ガスとスパッタリングガスのガス流量比の調整方法と金属酸化物膜の含有酸素量を制御することが必要となっていた。しかし、金属膜と金属酸化物膜の積層構造からなる耐熱遮光フィルムに関して、反応性スパッタリング法を用いた好適な金属酸化物膜の製造方法は見出されていなかった。
特公平７−６８６１５号公報 特開２００６−１３８９７４号公報

すなわち、金属ターゲットを用いて、耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに該金属膜上に金属酸化物膜を順次形成してなる耐熱遮光フィルムの製造方法において、特に、金属酸化物膜を形成する反応性スパッタリングに際し、反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで所望の金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成することが求められていた。

本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで所望の金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成し、絞り、シャッター羽根、絞り羽根などに好適に使用される、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成された、フィルムの色味が暗色系の耐熱遮光フィルムを提供することである。

上記の目的を達成するために、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は、耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに該金属膜上に金属酸化物膜を順次形成してなる耐熱遮光フィルムの製造方法において、前記金属膜を形成した後、該金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のための初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、初段プレスパッタリングでは、反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を、初段プレスパッタリング開始時から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の１／５の時にガス流量比が１３％以下となるようにして初段プレスパッタリングを終了し、次段階の中段プレスパッタリングでは、初段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の１／５の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の１／２の時にガス流量比が１３〜２０％の範囲となるようにして中段プレスパッタリングを終了し、さらに、次段階の後段プレスパッタリングでは、中段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の１／２の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比から単調に増加させプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時に本スパッタリング時と同じガス流量比である２０〜２５％の範囲になるようにして後段プレスパッタリングを終了し、後段プレスパッタリング終了時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比で本スパッタリングを行うようにしたことを特徴としている。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、前記反応性ガスが、酸素ガス又は窒素ガスの少なくとも１種以上のガス成分を含有することを特徴としている。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、前記全プレスパッタリング時間が、３０〜５０分であることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、前記樹脂フィルムが、ポリイミド、アラミド、ポリフェニレンサルファイド、又はポリエーテルサルフォン、ポリエチレンナフタレートから選ばれた１種類以上で構成され、表面粗さが０．２〜０．８μｍ（算術平均高さＲａ）であることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、前記金属膜がニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム、及び珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有することを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、前記金属酸化物膜が、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム、及び珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有するものであり、金属膜を形成する時に用いた金属ターゲットを用いて得られることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、上記した耐熱遮光フィルムの製造方法で得られた耐熱遮光フィルムを、再度スパッタリング装置に供給し、該耐熱遮光フィルムの金属膜、金属酸化物膜が形成されていない面に、金属膜を形成した後、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法に従い、プレスパッタリングと本スパッタリングをすることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、樹脂フィルムが、ロール状に巻き取られてスパッタリング装置のフィルム搬送部にセットされることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、スパッタリングガス圧が、０．２〜１．０Ｐａであることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は前記に加え、金属ターゲットは、長方形状であり、金属膜と金属酸化膜を成膜するに際し、該金属ターゲットの長辺方向が、樹脂フィルムの搬送方向と概直交し、さらに、該樹脂フィルムと対向するように配置され、スパッタリングガス導入管及び反応性ガス導入管が、該金属ターゲットの長辺方向に対して並行に対向するように配置されており、両導入管にそれぞれ設けられている複数の開口が対向していることを特徴とする。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法により作製された耐熱遮光フィルムは、耐熱性の樹脂フィルムの片面又は両面の上に金属膜が形成され、該金属膜の上に金属酸化物膜が形成された耐熱遮光フィルムであって、該金属酸化物膜の膜中の含有酸素量が２９〜３６原子％であり、該金属酸化物膜の表面で、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳとも言う）で測定される、８５６ｅＶにおける金属酸化物成分（ＭｅＯ）のスペクトル強度／８５２ｅＶにおける金属成分（Ｍｅ）のスペクトル強度の比が０．６〜０．７であるとともに、該耐熱遮光フィルムは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光域の遮光性と反射率に関し、光学濃度が４以上で反射率が５％以下である。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法によれば、反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで所望の金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成することができる。

また本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法により作製された耐熱遮光フィルムは、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成され、フィルムの色味が暗色系の耐熱遮光フィルムであり、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ、プロジェクタ、携帯電話、車載モニターなどに組み込まれるレンズユニットに搭載される絞り、シャッター羽根や、プロジェクタの絞りや光量調整用絞り装置（オートアイリスともいう）の絞り羽根などの光学機器部品として好適に使用できる。

以下、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法について、図１〜図４を参照しながら説明する。

１．耐熱遮光フィルムの製造方法
図１は、本発明の製造方法によって得られる本発明の耐熱遮光フィルムの構成の一例を示す模式的な図であり、樹脂フィルム（Ａ）の両面に金属膜（Ｂ）と金属酸化膜（Ｃ）を成膜したものを示している。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は、耐熱性の樹脂フィルム（Ａ）上に金属膜（Ｂ）を形成し、さらに該金属膜（Ｂ）上に金属酸化物膜（Ｃ）を順次形成してなる耐熱遮光フィルムの製造方法において、金属ターゲットを用いてスパッタリングで金属膜（Ｂ）を形成した後、該金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜を形成するための、所定の初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング、後段プレスパッタリングを行い、その後本スパッタリングを行うようにしている。

上記金属酸化物膜（Ｃ）の成膜には、金属膜（Ｂ）の形成に使用した金属ターゲットを連続して使用する。このとき、金属酸化物膜（Ｃ）を得るための本スパッタリング前の金属ターゲットのプレスパッタリングは、金属ターゲットに対向する、金属膜（Ｂ）が形成された耐熱性樹脂フィルム（Ａ）上に金属ターゲットに対向して遮蔽板を配置して、金属膜（Ｂ）の形成を遮蔽するがスパッタリングは停止することなく、継続してスパッタリングガス雰囲気中に、反応性ガスを導入し、金属酸化物膜（Ｃ）の成膜前のプレスパッタリングとして行われる。また、巻き取り式スパッタリング装置の場合では、基材を搬送しながら成膜を行うが、前記の場合と同様に可動式の遮蔽板を配置して、金属膜（Ｂ）の形成を遮蔽するがスパッタリングは停止することなく、継続してスパッタリングガス雰囲気中に、反応性ガスを導入し、金属酸化物膜（Ｃ）の成膜前のプレスパッタリングを行う。

このプレスパッタリングは、従来行われていた、金属膜（Ｂ）形成後に、一旦金属ターゲットへの高電圧の印加を停止し、該金属ターゲットを使用して金属酸化物膜成膜のためのスパッタリングガスのみでのプレスパッタリングを行うことと同様の効果を有しており、金属ターゲット表面の汚れが除去される。さらに、反応性ガスを導入した反応性スパッタリングのプレスパッタリング工程の間、下記のように初段、中段、後段と段階的に、かつそれぞれの各段階ではそれぞれ単調に反応性ガスを増加させることによって、該ターゲットに印可した電圧値の変化を再現性よくモニタリングすることができ、該ターゲットに印可した電圧値の変化を比較評価することによって、反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることが抑制されていることを確認できるとともに、金属ターゲット表面が清浄化された状態で本スパッタリングとして反応性スパッタリングを行うことが可能となる。

金属酸化物膜（Ｃ）形成のための反応性スパッタリングを行う前のプレスパッタリングでは、金属膜形成時に用いたアルゴンプラズマ中へ、反応性ガスを段階的に増加しながら導入し、プレスパッタリング終了時には、反応性スパッタリングの本スパッタリングと同じ反応ガス流量／スパッタリングガス流量比とすることが必要である。

アルゴンプラズマ中に、反応性ガスを、金属酸化物膜（Ｃ）形成のための反応性スパッタリングの本スパッタリングと同じ流量比で一気に導入した場合には、金属ターゲット表面から金属粒子が叩き出される量よりも該金属ターゲット表面の酸化反応の方が急激に進行し、金属ターゲットへの印加電圧が急激に低下するため、金属酸化物膜の成膜速度が低下してしまうとともに、耐熱樹脂フィルム（Ａ）上の金属膜（Ｂ）上へ、所望の金属酸化物膜の含有酸素量よりもより多く酸素を含有する金属酸化物膜が形成されてしまうおそれがある。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法において、樹脂フィルム（Ａ）上へ金属膜（Ｂ）をスパッタリング法で形成した後、該金属膜（Ｂ）のスパッタリングを停止することなく、一旦、スパッタリングを遮蔽し、該金属膜上へ連続的に金属酸化物膜（Ｃ）を形成するための反応性スパッタリングのプレスパッタリングとして、反応ガス流量／スパッタリングガス流量比を段階的に増加させていく理由を以下に示す。

まず、プレスパッタリングとして、反応性ガスとスパッタリングガスの混合ガスを、いきなり反応性スパッタリングの本スパッタリング条件と同様にすると、混合ガス導入時の初期段階で異常放電が発生する場合がある。この異常放電は、スパッタリング電源を長時間停止した後、再びターゲットに高電圧を印加し、スパッタリングした時に発生するものと同様のものである。上記異常放電が発生すると、スパッタリングを停止せざるを得なくなったり、本スパッタリングで得られる金属酸化物膜の膜質、組成に再現性がなくなったりしてしまう、という問題が発生する。

また、金属酸化物膜（Ｃ）を本スパッタリングで形成する前に行うプレスパッタリングにおいて、金属膜（Ｂ）を本スパッタリングで形成した後、金属ターゲットに印加する電圧を一旦停止し、再度、金属酸化物膜（Ｃ）を形成するための反応性スパッタリングを行うために、まずスパッタリングガスのみで金属ターゲットのプレスパッタリングを行い、その後、さらに反応性ガスを導入し、金属酸化物膜（Ｃ）を形成するためのプレスパッタリングを行う場合では、スパッタリングガスのみで行うプレスパッタリングの工程が加わり、スパッタリング時間が長くなり、生産性が劣ってしまう。

そのため、本発明のように、耐熱樹脂フィルム上に金属膜を形成した後、スパッタリングを停止することなく、一旦遮蔽し、反応性ガスを導入し、金属酸化物膜（Ｃ）を形成するためのプレスパッタリングを行った後、金属酸化物膜（Ｃ）を該金属膜（Ｂ）上に形成する本スパッタリングを行うことは、スパッタリング時間の短縮となり、生産性の向上がなされ、上記したように異常放電や膜質の劣化を引き起こすことはない。

次に、本発明の金属酸化物膜を反応性スパッタリングで成膜する前のプレスパッタリング方法（ガス流量比の条件）を図２に示す概略図に基づいて説明する。図２は、全プレスパッタリング時間に対するプレスパッタリング時間を横軸にとり、縦軸には反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を採っている。

スパッタリングガスに加えて、反応性ガスを導入する反応性スパッタリング条件で、金属ターゲットをプレスパッタリングする時、金属ターゲットを初段プレスパッタリングする時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を単調に増加させていき、初段プレスパッタリング開始時から全プレスパッタリング時間の１／５の時まで、ガス流量比を１３％以下とすることが必要である。

この理由は、導入する反応性ガス量が本スパッタリング時と同じ反応性ガス量を初めから導入すると、金属ターゲット表面の酸化が急激に進行し、ターゲット表面が酸化物層で覆われ、金属ターゲットに印加される電圧も低下し、スパッタリングされた金属粒子の基板への成膜速度の低下をもたらし、成膜された金属酸化物膜は酸素を多く含有した酸化物膜になる傾向があるからである。

このことから、初期段階のプレスパッタリングでは、反応性ガス導入量を少なくして金属ターゲット表面が酸化されにくい状態とし、アルゴン陽イオンによるターゲットへの衝突によって叩き出されるスパッタリング金属粒子との酸化反応による反応が優先されることが望ましいからである。

反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比が１３％以下であれば、反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比が小さいので、ターゲット表面は酸化されず、ターゲットへの印加電圧もスパッタリングガス雰囲気での印加電圧は変化しないので成膜速度は金属膜の高い成膜速度を維持している。１３％を超えると、次段階のプレスパッタリングで導入する反応性ガス量が、初期段階では導入過剰の酸素ガス量となり、本スパッタリングで得られる金属酸化物の含有酸素量が多くなり、得られる膜も金属酸化物膜のもつ色味が著しく目立った色味を呈し、耐熱遮光フィルムの色味を黒色化することはできなくなるからである。

また、初段プレスパッタリング時間は、スパッタリング中のターゲットの印加電圧が安定となる時間以上であればよく、初期段階でのプレスパッタリング時間が全プレスパッタリング時間の１／５の時に反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比が１３％以下とすることにより、本スパッタリングで得られる金属酸化物膜の組成を再現性よく成膜することが可能となる。

プレスパッタリング時間が１／５より短時間の時には、プレスパッタリング時のターゲットへの印加電圧のふらつきがあり、不安定なスパッタリング条件下で行われてしまい、ターゲット電圧を安定にするために次段階のプレスパッタリングが長くなること、またターゲットへの印加電圧が不安定な状態で次段階のプレスパッタリングを行うので、本スパッタリングで得られる金属酸化物膜の含有酸素量、膜厚に分布が生じてしまうからである。また、全プレスパッタリング時間の１／５を超えると、全スパッタリング時間が長くなることで成膜コストが高くなってしまう。

初段プレスパッタリング終了後、次段階の中段プレスパッタリングでは、全プレスパッタリング時間の１／５の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比、すなわち初段スパッタリング終了時のガス流量比から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の１／２の時にガス流量比を１３〜２０％の範囲にすることが必要である。
この段階では、ターゲットは金属と同等の状態にあるので、ターゲットへの印加電圧も金属ターゲットの時と同等であり、金属状態のターゲットと同等の成膜速度を有している。

さらに、次段階の後段プレスパッタリングでは、全プレスパッタリング時間の１／２の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比、すなわち中段スパッタリング終了時のガス流量比から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時に本スパッタリング時と同じ２０〜２５％の範囲になるようにプレスパッタリングを行うことが必要である。

反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比の上限を２５％以下とする理由は、プレスパッタリング終了時には本スパッタリングと同じ反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比でスパッタリングを行うことが必要であり、ターゲット表面の酸化状態を均一にするためである。２５％を超えると、初期段階と同様に、短時間でスパッタリング粒子が反応性ガスによって酸化され、金属酸化物膜が成膜されてしまい、金属酸化物膜を形成する本スパッタリングで得られる金属酸化物膜の含有酸素量が目的の酸素量に比べ、多くなってしまうおそれがあるからである。

全プレスパッタリング時間の１／２の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比から単調に増加させプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時に本スパッタリング時と同じ２０〜２５％の範囲になるようにプレスパッタリングを行う理由は、本スパッタリングである反応性スパッタリングを安定して行わなければならないため、プレスパッタリング時間の中でも多くの時間を使い、本スパッタリングに移行する必要があるからである。上記条件でプレスパッタリングを行うことによって、本スパッタリング時のターゲットへの印加電圧が安定し、金属酸化物膜の膜中の酸素量の均一性が増す効果が生まれるからである。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法とは異なり、反応性スパッタリングのプレスパッタリングを３段階に分けて行うことなく、反応性スパッタリングの本スパッタリングを、最初から反応性ガスをスパッタリングガス雰囲気中に一気に導入して、本スパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比として行った場合は、金属ターゲット表面が急激に酸化してしまい金属ターゲットへの印加電圧が、急激に低下し、成膜速度が小さくなり、さらに、得られる金属酸化物膜は化学両論組成に近い含有酸素量の多い酸化物膜となってしまい、耐熱遮光フィルムの色味を損ねてしまうおそれがある。

金属酸化物膜を成膜するときの金属ターゲットのプレスパッタリング時間は、十分に長い時間が好ましいが、生産性において３０分〜５０分であることが好ましい。３０分より短いと、段階的に行う本発明のプレスパッタリングでは各段階の時間が短時間となり、反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を段階的に増加させる各段階のプレスパッタリング自体が不安定となり、その後に行う本スパッタリングで得られる金属酸化物膜の膜厚や含有酸素量にロット間ばらつきが生じ、遮光フィルムとして必要な遮光性、所望の反射率などの膜特性が得られにくくなってしまうからである。
プレスパッタリング時間が５０分を超えると、プレスパッタリング時間としては長くなりすぎ、金属ターゲット表面が酸化物層で覆われてしまい、再度金属膜を成膜する場合において、金属膜用のプレスパッタリング時間を長くしなければならず、結果として、金属ターゲットの消耗が早くなってしまうし製造時間の長時間化につながり好ましくない。

次に、図３に示した巻き取り式スパッタリング装置を用いて、本発明の耐熱遮光フィルムの具体的な製造方法の一例について説明する。
図３に示した巻き取り式スパッタリング装置は、ロール状の樹脂フィルム１が巻き出しロール３にセットされ、ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ４で真空槽５内を排気した後、巻き出しロール３から搬出された樹脂フィルム１が途中、冷却キャンロール６の表面を通って、巻き取りロール７で巻き取られていく構成をとる。冷却キャンロール６の表面の対向側にはスパッタリング室８が設置され、その中にはマグネトロンカソード９が設置され、このカソード９には膜の原料となるターゲット１０が取り付けてある。ターゲット１０の両端部の一方側には、スパッタリングガス導入管１１が配置され、他方側には反応性ガス導入管１２が配置されている。なお、巻き出しロール３、巻き取りロール７などで構成されるフィルム搬送部は、隔壁２で隔離されている。

まず、ロール状に巻かれた樹脂フィルム１を巻き出しロール３にセットし、真空ポンプ４で真空槽５内を排気する。その後、巻き出しロール３から樹脂フィルム１を供給し、途中、冷却キャンロール６の表面を通って、巻き取りロール７で巻き取られるよう搬送しながら、冷却キャンロール６とマグネトロンカソード９間で放電させて、冷却キャンロール表面に密着搬送されている樹脂フィルム１上に成膜する。

ターゲット１０としては、金属膜形成用、酸化物膜形成用を兼ねる金属ターゲットを用いる。巻き取り式スパッタリング装置で金属膜、金属酸化物膜を樹脂フィルム１上に形成する場合では、使用するターゲットは、円形状ではなく、長方形状であることが望ましい。ターゲットの形状が円形状とする場合には、少なくとも樹脂フィルムの幅方向に対して同等の直径を有する円形状ターゲットが必要となり、このためカソード部が非常に大きくなってしまうので実用的ではない。一方、長方形状では、樹脂フィルムの幅方向の大きさに合わせたターゲットが容易に作製でき、カソードの大きさも樹脂フィルム搬送方向に大きくしなくても済む。

本発明における金属ターゲットには、ニッケルを主成分として、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、亜鉛、銅、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有する金属製ターゲットを用いる。また金属膜中に炭素および／または窒素を含ませるために、金属膜形成用の金属製ターゲットには炭素および／または窒素を含ませても良く、上記金属の炭化物や窒化物の金属製ターゲットを用いても良い。

本発明においては、上記金属ターゲットが金属膜形成用、金属酸化物膜形成用を兼ねているので、スパッタリング用ターゲットを変更する必要がなく、連続したスパッタリングが可能であり、製造コストが安くなる。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法において、金属膜（Ｂ）は、例えばアルゴン雰囲気中において、ニッケルを主成分とし、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有する金属又はそれらの合金のスパッタリングターゲットを使用した高周波（ＲＦ）または直流（ＤＣ）マグネトロンスパッタリング法により樹脂フィルム上に成膜形成される。金属膜を樹脂フィルム上へ成膜する場合には、反応性ガス導入管１２のノズルを閉じ、スパッタリングガス導入管１１のノズルのみからスパッタリングガスを導入する。

本発明では、金属酸化物膜（Ｃ）をスパッタリングする時の反応性ガスは、酸素ガス又は窒素ガスの少なくとも１種以上のガス成分を含有することを特徴としている。金属酸化物膜の反応性スパッタリングを行う時に導入する反応性ガスは、酸素ガスのみでも良いが、耐熱遮光フィルムの可視光域での光学特性、特に光反射特性を制御する場合においては金属酸化物膜の光学定数を微調整する目的で酸素ガス中に窒素ガスを導入しても良い。金属酸化物膜を金属膜上へ成膜する場合は、スパッタリングガス導入管１１及び反応性ガス導入管１２の配置は、スパッタリング装置の構造、樹脂フィルムの搬送方向、真空ポンプの位置により一概に規定できないが、スパッタリングターゲット１０の片側からスパッタリングガスを、もう一方側から反応性ガスをそれぞれ導入させるのが好ましい。

金属膜（Ｂ）及び金属酸化物膜（Ｃ）を成膜する時の成膜時のガス圧は、装置の種類などによっても異なるので一概に規定できないが、１．０Ｐａ以下、例えば、０．２〜１．０Ｐａにすることが好ましい。上記したように、本発明の耐熱遮光フィルムの基材として用いる樹脂フィルムは、微細な凹凸構造を有することが好ましく、例えば、ショット材に砂を使用したマット処理加工を行って得ることができるが、ショット材が樹脂フィルム上に微量残存していても、上記の金属膜及び金属酸化物膜の成膜時のガス圧を用いていれば、２００℃の高熱環境下でショット材、金属膜、低反射性の酸化物膜の熱膨張差によっても膜が剥がれなくなる。成膜時のガス圧が０．２Ｐａ未満であると、ガス圧が低いためスパッタリング法でのアルゴンプラズマが不安定となり、成膜した膜の膜質が悪くなる。また、成膜時のガス圧が１．０Ｐａを超えた場合では、金属膜の粒が粗くなり、高緻密な膜質でなくなるので樹脂フィルムとの密着力が弱くなり、膜が剥がれてしまう。

また、成膜時のフィルム温度は、少なくとも１８０℃以上とすることが望ましい。これにより２００℃以上の耐熱性を有するフィルムとの密着性の優れた、緻密な膜質の耐熱遮光フィルムが得られる。金属膜の膜厚は、成膜時のフィルムの搬送速度とターゲットへの投入電力で制御される。

図４は、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法で使用するスパッタリング装置のカソードの概略図であり、（イ）は正面図、（ロ）は側面図である。
巻き取り式スパッタリング装置を使用する場合では、樹脂フィルム１の搬送方向に対してターゲット１０は、その幅方向（長辺方向）に対して直交し、かつ対向するように配置する。さらに、スパッタリングガス導入管１１及び反応性ガス導入管１２が、該金属ターゲット１０の長辺方向に対して、並行に対向して配置され、両導入管にそれぞれ設けられている複数の開口１３が対向している。両導入管に設けられた開口１３の数や穴径は、スパッタリング装置、成膜条件により異なるため規定することはできないので、最適化すればよい。

スパッタリングガス導入管１１と反応性ガス導入管１２の配置は、図に示す配置が望ましいが、ターゲットの長辺方向に対して逆であってもかまわない。ただし、ターゲットの長辺方向に対して、その中央部に反応性ガスの流出ノズルが対向して配置され、その両端側にスパッタリングガスの導入管が対向して配置される場合では、ターゲットの長辺方向の中央部のみに、反応性ガスが充満し、ターゲットの両側への拡散がスパッタリングガスによって妨げられる。そのため、反応性ガスの濃度分布が生じ、金属酸化物膜の含有酸素量、膜色、反射特性がフィルムの搬送方向でばらついてしまい、反応性スパッタリングによって樹脂フィルム全体に均一な金属酸化物膜が、形成されなくなる。

２．樹脂フィルム
次に、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法の基材として用いる樹脂フィルムについて説明する。樹脂フィルムは、樹脂フィルムの表面の凹凸構造が算術平均高さＲａで０．２〜０．８μｍとなる微細な凹凸構造を有することが好ましい。算術平均高さとは、算術平均粗さとも言われ、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計して平均した値である。Ｒａが０．２μｍより小さいと、フィルム表面に形成した金属膜の密着性が得られず、十分な低光沢性や低反射性も得られない。また、Ｒａが０．８μｍを超えると、フィルム表面の凹凸が大きすぎて凹部で金属膜の成膜ができず、フィルム表面を被覆し十分な遮光性を得ようとすれば金属膜の膜厚が厚くなってしまうためコスト高となり好ましくない。

基材として用いる樹脂フィルムは、透明樹脂で構成されていても、顔料を練り込んだ着色樹脂で構成されていても構わないが、２００℃以上の耐熱性を有するものでなければならない。ここで、２００℃以上の耐熱性を有するフィルムとは、ガラス転移点が２００℃以上であるフィルムや機械的特性、電気特性など樹脂フィルム固有の特性が２００℃以上の加熱でも劣化しないフィルムであり、またガラス転移点の存在しない材料については、２００℃以上の温度で変質しないことを意味する。

樹脂フィルムの材質としては量産性を考慮した場合、スパッタリングによるロールコーティングが可能となるような可撓性を有する材料であることが望ましい。
耐熱性の樹脂フィルムには、ポリイミド（ＰＩ）、アラミド（ＰＡ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）から選択される１種以上の材料で構成されているフィルムが好ましいが、２００℃以上の耐熱性を有していればこれらに限定されない。その中でもポリイミドフィルムは、最も耐熱温度が高く、特に好ましいフィルムである。

上記した樹脂フィルムの表面の凹凸構造は、フィルム表面を表面処理して形成することができる。例えば、ショット材に砂を使用したマット処理加工を行って得ることができるが、ショット材の種類はこれに限定されない。樹脂フィルムを搬送しながらフィルム表面に凹凸構造を形成することができるが、最適な算術平均高さＲａ値は、マット処理中のフィルム搬送速度とショット材の種類、大きさに依存するので、これらの条件を最適化して算術平均高さＲａ値が０．２〜０．８μｍとなるように表面処理を行う。マット処理後のフィルムは、洗浄してショット材を除去した後、乾燥する。フィルムの両面に金属膜と低反射性の酸化物膜を形成する場合は、フィルムの両面をマット処理する。

３．金属膜
次に、本発明で樹脂フィルムの上に成膜する金属膜について説明する。本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法は、耐熱性の樹脂フィルム（Ａ）上に金属膜（Ｂ）を形成し、さらに金属膜（Ｂ）上に金属酸化物膜（Ｃ）を順次形成してなることを特徴としている。前記構造を有していることから、本発明により製造される耐熱遮光フィルムは、２００℃の高熱環境下でも耐えうる耐熱性を有している。それは、スパッタリング法で得られる金属膜と低反射性の金属酸化物膜が高緻密性で耐酸化性が良いことの他、樹脂フィルムと金属膜との密着性が良いことによる。

一般に金属膜は酸化されると透明度が増加するため、遮光膜となる金属膜の耐酸化性は重要である。本発明の耐熱遮光フィルムに用いる金属膜の材料は、耐酸化性に優れたニッケル系材料が好ましい。具体的には、本発明の金属膜は、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有することが好ましい。

なお、上記のＮｉ系金属膜には、炭素、窒素が含まれていても構わない。上記Ｎｉ系金属膜への炭素、窒素を導入するには、それぞれ、金属膜を成膜する時のスパッタリングガス中に炭化水素ガス、窒素ガスなどの炭素元素や窒素元素を含む添加ガスを導入してスパッタリング成膜することで可能であるが、上記のような添加ガスを用いなくても、ターゲット中に炭素、窒素を含有させることでも、これらの元素を導入することができる。特にＮｉ系金属膜に炭素、窒素が含まれると耐熱性を更に改善することができるため有用である。

よって、本発明により製造される耐熱遮光フィルムの金属膜材料には、上記の方法で作製された炭化物や窒化物や炭化窒化物も、十分な遮光性と耐熱性を発揮する金属膜材料であり、樹脂フィルムに対する高密着性も発揮するため含まれる。また、本発明の金属膜には、酸素はなるべく含まないほうが、樹脂フィルムとの高い密着性や高い遮光性を維持するためには好ましい。しかし、スパッタリングガス中に残留する酸素などが成膜時に金属膜の一部、或いは全体に取り込まれて含有しても、金属性や高い遮光性や樹脂フィルムとの高い密着性を損なわない程度であれば構わない。金属膜中の酸素の含有量は、樹脂フィルムとの密着性を維持するために、金属元素に対して５原子％以下、特に３原子％以下が望ましい。

また、本発明により製造される耐熱遮光フィルムの金属膜は、組成（金属元素の含有量や種類、炭素含有量、窒素含有量、酸素含有量）の異なった複数種類の金属膜の積層膜で構成されていてもかまわない。

密着性については、元来、有機物である樹脂フィルムと無機物である金属膜との間では高い密着性を得ることが難しい。これは、樹脂フィルムと金属膜の界面の密着性が不十分である場合、２００℃の高熱環境下で、樹脂フィルムと金属膜の熱膨張差により膜剥離が生じやすいからである。

このような熱膨張差による膜剥離を回避するには、樹脂フィルムと金属膜の高密着性を維持する必要があり、本発明の金属膜では、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有する金属膜とすることが有効である。樹脂フィルムの表面は、酸素の官能基を有しており、本発明の金属膜では、金属中に適量のチタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素などの酸化されやすい元素が含まれている場合、樹脂フィルム表面の酸素の官能基と化学結合が生じて、フィルムと金属膜間の密着性が強化されるので好ましい。

４．金属酸化物膜
次に、金属膜の上に成膜する金属酸化膜（Ｃ）について説明する。本発明により製造される耐熱遮光フィルムにおいては、低反射性の金属酸化物膜（Ｃ）を有している。樹脂フィルム上に形成された金属膜の反射率は高いが、該金属膜の上に低反射性の金属酸化物膜を積層することで、耐熱遮光フィルムの反射率を減少することができる。低反射性の金属酸化物膜は、単層でも酸素含有量や添加元素の種類及び添加量の異なる複数層で構成されても構わない。また、金属膜上に積層する低反射性の金属酸化物膜は、透明度が高いものでも、透明度が低くて着色したものでも良い。

本発明の低反射性の金属酸化物膜は、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有するものであり、上記金属膜（Ｂ）を形成する時に用いた金属ターゲットを用いて得られることを特徴としている。上記ニッケルを主成分とした金属酸化物膜は、高熱環境下での優れた耐熱性や耐食性の他、ニッケルを主成分とする下地の金属膜と金属成分が同じであることから金属膜との密着性が良い。

具体的には、前記金属酸化物膜は、金属成分がニッケルのみからなるニッケル酸化物であってもよいが、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群から選ばれた少なくとも１種類以上の元素を添加した酸化物膜であることが好ましい。

Ｎｉ系金属酸化物膜の材料を、金属膜と同じ元素の金属酸化物膜とすることで、単一のスパッタリングターゲットを用いて、金属膜と低反射性の金属酸化物膜の両方を成膜することができ、単一のカソードを有するスパッタリング装置で製造することができ、製造コストを低減することができる。

上記ニッケルを主成分とした金属酸化物膜の膜厚は、特に制限されないが、膜厚を２０〜２４０ｎｍとすることで可視域の反射率を低減することができる。

前記Ｎｉ系金属酸化物膜には、上記の金属元素の他、炭素又は窒素が含まれていても構わない。Ｎｉ系金属酸化物膜に炭素又は窒素を含ませると屈折率を調整することができて低反射性を実現しやすくなる。また、前記金属酸化物膜には、酸素欠損を多く含む金属酸化物膜のように可視域で透過率の低い（例えば単膜で透過率が１０〜６０％）膜を採用すると、例えば波長３８０〜７８０ｎｍにおける反射率が２％以下の著しい低反射性を実現して黒色を呈した耐熱遮光フィルムを得ることができる。このような低反射の黒色のフィルムは、液晶プロジェクタのレンズユニット側やデジタル撮影機器の撮像素子側の部材として利用する場合に特に好ましい。レンズユニット側や撮像素子側では部材による反射光が強いと迷光となって悪影響を及ぼすからである。

前記Ｎｉ系金属酸化物膜には、組成（酸素含有量、炭素含有量、窒素含有量、金属元素の含有量や種類）の異なった複数種類の酸化物膜の積層膜で構成されていても構わない。組成が異なって屈折率と消衰係数の異なった酸化物膜の積層膜を用いることで、より強い反射防止効果が発現して低反射性を実現することもできる。

５．耐熱遮光フィルム
上記耐熱遮光フィルムの製造方法で得られた耐熱遮光フィルムは、金属酸化物膜（Ｃ）の膜中の含有酸素量が２９〜３６原子％であり、該金属酸化物膜（Ｃ）の表面で、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳとも言う）で測定される、８５６ｅＶにおける金属酸化物成分（ＭｅＯ）のスペクトル強度／８５２ｅＶにおける金属成分（Ｍｅ）のスペクトル強度の比が０．６〜０．７であることを特徴としている。
また、耐熱遮光フィルムの膜の色味は、透明ではなく、黒色に着色されている。

本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法による所定のプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比で本スパッタリングを行う、という方法を採らなければ、得られる金属酸化物膜（Ｃ）において、ＸＰＳ分析による、８５６ｅＶにおける金属酸化物成分（ＭｅＯ）のスペクトル強度／８５２ｅＶにおける金属成分（Ｍｅ）のスペクトル強度の比が０．６〜０．７の範囲外となってしまう。

得られる金属酸化物膜の色味は、上記スペクトル強度比が０．６未満であれば、膜中の含有酸素量が２９原子％未満となり、金属膜の割合が多くなり、金属光沢の強い反射率の高い膜となり、本発明で得られる黒色系の金属酸化物膜は、得られない。一方、上記スペクトル強度比が０．７を超えた場合では、膜中の含有酸素量が３６原子％を越え、金属酸化物膜の酸化が進み、酸素欠損型の金属酸化物膜が少なくなり、金属酸化物膜の透明度が増し、低い反射率の膜となってしまい、金属酸化物膜の膜厚の設定によっては、さまざまな干渉色の反射光を呈してしまう。

上記酸化物膜の膜厚は、特に制限されないが、膜厚を２０〜２４０ｎｍとすることで可視域の反射率を低減することができる。膜厚が２０ｎｍ未満であると反射率、光沢度を十分に低下できない場合があり、２４０ｎｍを超えると表面抵抗が大きくなるだけでなく、経済性の面でも好ましくない。

また、本発明により製造される耐熱遮光フィルムは、熱線光の照射による温度上昇をなるべく回避させるために、熱線光の高反射特性を持たせることも可能である。この場合、金属酸化物膜には、上記とは逆に、可視域〜近赤外域の透過率がなるべく高い酸化物材質を使用して、金属酸化物膜内での熱線の吸収をなるべく抑制し、金属膜による熱線の高反射特性を利用すればよい。また、そのような金属酸化物膜の屈折率を加味して、金属酸化物膜の膜厚を最適化し、金属酸化物膜／金属膜界面での近赤外の反射光と、外界／酸化物界面での近赤外の反射光が強め合って、高反射特性を実現させるとより好ましい。

以上のような構成の熱線の高反射特性を持たせた耐熱遮光フィルムは、可視域での最大反射率が３〜７％と適度な反射率を示すことができる。反射率が１０％以上と高いと、反射光が迷光となり悪影響を及ぼすため、７％以下が好ましい。このような構成の耐熱遮光フィルムは、黒色度は劣るが、反射光の波長バランスに応じて、赤色、紫色、青色、黄土色などを呈する。

また、上記耐熱遮光フィルムの製造方法で得られた耐熱遮光フィルムを、再度スパッタリング装置に供給し、該耐熱遮光フィルムの金属膜（Ｂ）、金属酸化物膜（Ｃ）が形成されていない面に、金属膜（Ｂ）を形成した後、同様の上記した本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法に従い、所定の初段、中段、後段の各プレスパッタリングを行い、金属膜（Ｂ）上に金属酸化物膜（Ｃ）を順次形成することにより、樹脂フィルム（Ａ）の両面に、金属膜（Ｂ）と金属酸化物膜（Ｃ）が形成された耐熱遮光フィルムを得ることができる。

具体的には、図３に示す上記スパッタリング装置の搬送部である巻き出しロール３に、金属膜（Ｂ）と金属酸化物膜（Ｃ）が片面に形成された耐熱遮光フィルムの該積層膜形成面を内側にして巻きつけた耐熱遮光フィルムをセットし、樹脂フィルム（Ａ）の金属膜（Ｂ）、金属酸化物膜（Ｃ）が形成されていない面に、スパッタリングによって金属膜（Ｂ）を形成し、その上に金属酸化物膜（Ｃ）を順次形成すればよい。

なお、金属膜と酸化物膜を成膜するのに、フィルム巻き取り式スパッタリング装置を例示し、連続的に成膜する方法について詳述したが、本発明は、これに限定されることなく、成膜時に基材フィルムの移動をさせずに行う回分式成膜方法を採用することもできる。この場合は、雰囲気ガスの切り替え、フィルム搬入・停止という操作が加わり煩雑となる。さらに、基材フィルムは、ロール状のものでなくとも、所定の大きさに切断された状態で装置内に固定してもよい。

また、耐熱性の樹脂フィルムの両面に金属膜（Ｂ）と金属酸化物膜（Ｃ）が積層されている本発明により製造される耐熱遮光フィルムにおいて、黒色度と反射率が両面で異なった構成をとることも、用途によっては有効である。例えば、本発明により製造される耐熱遮光フィルムをプロジェクタ用のランプに近い場所での羽根材として用いる場合には、ランプ光の照射される面側は、熱線光による加熱の回避を最重要視して、可視〜近赤外光の高反射特性を有する黒色度の低い構成として、ランプ側と逆面は可視光の反射が迷光となって嫌うために、可視域の低反射性を有する黒色度の高い構成とすることも有効である。その場合、上述したように、ランプ側は酸素欠損が少なくて透過率の高いＮｉ系金属酸化物膜が用いられ、その反対側には酸素欠損が多くて可視域の透過率の低いＮｉ系金属酸化物膜を用いる。

本発明により製造される耐熱遮光フィルムにおいて、導電性は、プラスチックフィルムを用いた場合は絶縁性のため静電気が発生しやすく、遮光羽根として動作した時に静電気が発生し、羽根同士がくっつくことがあり、これを回避するために重要である。

したがって、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法に用いる金属膜及び金属酸化物膜の材料には、導電性に優れた上記ニッケル系材料が好ましい。具体的な金属膜及び金属酸化物膜としては、上記しているように、金属成分が純粋なニッケルでもよいが、ニッケルを主成分として、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群から選ばれた１種類以上の元素が添加されているニッケル系合金膜（複合金属酸化物膜）であることが好ましい。

上記元素が添加されることで、添加元素が半導体でのドーパント的な作用を有し、電気抵抗を減少することができる。最表面が酸化珪素、アルミナなどの絶縁膜で形成される遮光フィルムでは、表面抵抗値は１０⁴Ω／□程度が限界となるが、本発明により製造される耐熱遮光フィルムでは、表面抵抗値を１０００Ω／□以下、好ましくは５００Ω／□以下、更には１００Ω／□以下にすることが出来るので好ましい。

次に、本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法及び本発明の製造方法によって得られる耐熱遮光フィルムについて、実施例、比較例を用いて具体的に説明する。なお、得られた耐熱遮光フィルムの評価は以下の方法で行った。

（光学濃度、反射率）
分光光度計を使用し、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光域の遮光性と反射率を測定した。遮光性は、分光光度計で測定される透過率（Ｔ）を次式（１）により換算した。
光学濃度＝Ｌｏｇ（１／Ｔ） （１）
完全な遮光性を得るためには、波長３８０〜７８０ｎｍにおける光学濃度は４以上であることが必要である。
シャッター装置や光量調整用絞り装置の絞り羽根では光学濃度は４以上、最大反射率は５％以下であることが必要である。

（表面光沢度）
表面光沢度は、光沢度計でＪＩＳ Ｚ８７４１に基づき測定した。表面光沢度は、５％未満であれば光沢性が良好である。

（摩擦係数）
静摩擦係数及び動摩擦係数は、ＪＩＳ Ｄ１８９４に基づき測定した。静摩擦係数及び動摩擦係数が０．３以下の場合は良好とし、０．３を超えるものは不十分とした。

（表面粗さ）
得られた耐熱遮光フィルムの算術平均高さＲａを表面粗さ計で測定した。

（耐熱性）
得られた耐熱遮光フィルムの耐熱特性を以下の手順で評価した。２２０℃に加熱セットしたオーブン（アドバンテック社製）に、作製した耐熱遮光フィルムを２４時間放置した後、取り出した。評価は、反りや膜の変色が無い場合は良好（○）とし、反りもしくは膜の変色がある場合は不良（×）とした。

（密着性）
耐熱試験後の膜の密着性をＪＩＳ Ｃ００２１に基づき評価した。評価は膜剥がれがない場合は良好とし、膜剥がれがあるものは不良とした。

（導電性）
得られた耐熱遮光フィルムの表面抵抗値をＪＩＳ Ｋ６９１１に基づき測定した。

（金属酸化物膜の組成）
得られた耐熱性遮光フィルムの表面に存在する金属酸化物の組成は、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）で、膜内部の金属成分と金属酸化物膜のピーク強度より求めた。なお、膜中の含有酸素量も同様に、ＸＰＳより、膜表面から２０ｎｍほどスパッタリングした後の膜内部について測定した。

（実施例１）
図３に示した巻き取り式スパッタリング装置を用いて金属膜と金属酸化物膜の成膜を行った。まず、冷却キャンロール６の表面の対向側にマグネトロンカソード９が設置された装置のカソードに膜の原料となるターゲット１０を取り付けた。巻き出しロール３、巻き取りロール７などで構成されるフィルム搬送部は、隔壁２でマグネトロンカソード９と隔離されている。

次に、ロール状の樹脂フィルム１を巻き出しロール３にセットした。セットされた樹脂フィルムであるポリイミド（ＰＩ）フィルムの表面は、所定の吐出時間、吐出圧力、搬送速度でサンドブラスト加工を行い、両面とも算術平均高さがＲａ０．５μｍの微細な凹凸が形成されている。このポリイミド（ＰＩ）フィルムは、スパッタリング前に２００℃以上の温度で加熱し、乾燥した。

次に、ターボ分子ポンプ式の真空ポンプ４で真空槽５内を排気した後、冷却キャンロール６とカソード間で放電させて、樹脂フィルム１を冷却キャンロール６表面に密着搬送しながら成膜を行った。まず、Ｎｉを主成分としてＷを含むＮｉ系合金ターゲットをカソードに設置し、このカソードから直流スパッタリング法で金属膜を成膜した。金属膜はスパッタリングガスに純アルゴンガス（純度９９．９９９％）を用いて成膜を行った。成膜時のフィルムの搬送速度とターゲットへの投入電力を制御することで金属膜の膜厚を制御した。巻き出しロール３から搬出された樹脂フィルム１は、途中、冷却キャンロール６の表面を通って、巻き取りロール７で巻き取った。

次に、このＮｉ系合金ターゲットの放電を継続した状態で、巻き取りロール７で巻かれた樹脂フィルムを逆に、巻き取りロール７から搬出し、冷却キャンロール表面に密着搬送しながら、このカソードから直流スパッタリング法で反応性ガスを導入し、プレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了後、本スパッタリングで金属膜上に金属酸化物を形成し、巻き出しロール３で巻き取った。

金属酸化物膜はスパッタリングガスに酸素ガスを２％混合したアルゴンガスを用いて成膜を行った。金属膜及び金属酸化物膜を形成する時のガス圧は０．６Ｐａとした。
反応性ガスの導入管は、ターゲットの長辺方向の片側に配置し、そして、スパッタリングガスの導入管は、ターゲットの他の長辺方向側に配置した。樹脂フィルムは、ターゲットの長辺方向に直交した形で搬送した。

プレスパッタリングの反応ガス流量／スパッタリングガス流量比は、初段プレスパッタリングで１０％、中段プレスパッタリングで１７％、後段プレスパッタリングで２３％とした。プレスパッタリング時間は、初段プレスパッタリングの終了時間が全プレスパッタリング時間の１／５、中段プレスパッタリングの終了時間が全プレスパッタリング時間の１／２とした。なお、全プレスパッタリング時間は、４０分とした。

この条件で得られる金属酸化物膜を透明基材上に膜厚３００ｎｍほど形成して光学特性の評価を行うと、可視域透過率は３０〜５０％と低くて、酸素欠損の多い膜であることが確認された。成膜時のフィルムの搬送速度とターゲットへの投入電力を制御することで酸化物膜の膜厚を制御した。

金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で、巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度であった。得られた金属膜、金属酸化物膜の組成は、ＩＣＰ発光分析およびＥＰＭＡ定量分析から、ターゲット組成とほぼ同じであることを確認した。また、Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）により、積層膜の表層側にあたる金属酸化物膜中の含有酸素量は、３０原子％であった。同様に、ＸＰＳ分析で、８５６ｅＶにおける金属酸化物成分（ＭｅＯ）／８５２ｅＶにおける金属成分（Ｍｅ）のスペクトル強度のスペクトル強度の比は、０．６５であることがわかった。

その後、成膜されていない面を表側にしてから、上記のスパッタリング工程を繰り返すことにより、厚み７５μｍのポリイミド（ＰＩ）樹脂フィルムの両面に、金属膜と金属酸化物膜が形成された耐熱遮光フィルムを作製した。フィルムの片面ずつ両面にこのような成膜を実施することで、ポリイミド（ＰＩ）フィルム基材を中心に対称構造の遮光フィルムが製造された。

次に、作製した耐熱遮光フィルムを前記の方法で評価した。この結果、光学濃度は４以上、最大反射率は２％であった。膜色は黒色系を呈した。表面光沢度は、３％以下となり低光沢性を示した。静摩擦係数及び動摩擦係数は、０．３以下となり、良好であった。また、表面抵抗値は、９８Ω/□であり、表面の算術平均高さは、０．４μｍであった。加熱後の耐熱遮光フィルムには、反りは発生せず、変色もなかった。膜剥がれはなく、良好であった。遮光性、反射特性、光沢度、摩擦係数も加熱前と変化なかった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。なお、表１は実施例１４の後に示す。

得られた耐熱遮光フィルムは、光学濃度、反射率、表面光沢度、耐熱性、摩擦係数、導電性のすべてについて良好であり、よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができることがわかる。

（実施例２）
金属酸化物膜を形成する時の初段のプレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を１３％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。また、表面抵抗値は、９８Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６５で、含有酸素量は、３１原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例３）
金属酸化物膜を形成する時の中段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を１３％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。また、表面抵抗値は、８０Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．３μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６２で、含有酸素量は、２９原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例４）
金属酸化物膜を形成する時の中段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を２０％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。また、表面抵抗値は、１０５Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６２で、含有酸素量は、３２原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例５）
樹脂フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）を０．８μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。また、表面抵抗値は、９０Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．７μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６８で、含有酸素量は、３４原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例６）
金属酸化物膜を形成する時の後段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を２５％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９０Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６８で、含有酸素量は、３０原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例７）
全プレスパッタリング時間を３０分に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９２Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６６で、含有酸素量は、３２原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例８）
全プレスパッタリング時間を５０分に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、１１５Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６７で、含有酸素量は、３５原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例９）
金属膜及び金属酸化物膜を形成するスパッタリングターゲットの材質をＮｉ−Ｔｉに変えた以外は実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９５Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６４で、含有酸素量は、３３原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例１０）
樹脂フィルムの材質をポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９５Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６５で、含有酸素量は、３４原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例１１）
樹脂フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）を０．２μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９６Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．１μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６で、含有酸素量は、３１原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例１２）
金属酸化物膜を形成する時の後段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を２０％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、１２３Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７で、含有酸素量は、３５原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例１３）
金属膜及び金属酸化物膜を形成する際のガス圧を０．２Ｐａに変えた以外は、実施例２と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例２と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、１０５Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．３μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６３で、含有酸素量は、３３原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（実施例１４）
金属膜及び金属酸化物膜を形成する際のガス圧を１．０Ｐａに変えた以外は、実施例２と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例２と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、１２１Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６７で、含有酸素量は、３０原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表１にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができる。

（比較例１）
金属酸化物膜を形成する時の初段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を１５％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は６％、表面光沢度は１０％であった。また、表面抵抗値は、３００Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７２で、含有酸素量は、３８原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。なお、表２は比較例１２の後に示す。
よって、このような反射率や表面光沢度が高い耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例２）
金属酸化物膜を形成する時の中段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を１２％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は１０％、表面光沢度は１５％となった。また、表面抵抗値は、１１０Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．５５で、含有酸素量は、２５原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような反射率が高い耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例３）
金属酸化物膜を形成する時の中段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を２１％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は３％、表面光沢度は５％となった。また、表面抵抗値は、８６Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７１で、含有酸素量は、３７原子％であった。得られた膜の色味は、黒色系ではなく、黄色を呈していた。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような膜色が黄色の耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例４）
金属酸化物膜を形成する時の後段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を１９％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は９％、表面光沢度は２０％となった。また、表面抵抗値は、８６Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．５８で、含有酸素量は、２７原子％であった。得られた膜の色味は、黒色系ではなく、金属光沢を呈していた。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような金属光沢があり、反射率、表面光沢度の高い耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例５）
金属酸化物膜を形成する時の後段プレスパッタリング時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比を２６％に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は５％、表面光沢度は３％となった。また、表面抵抗値は、８６Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は１．２で、含有酸素量は、４２原子％であった。得られた膜の色味は、黒色系ではなく、黄色を呈していた。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような膜色が黄色の耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例６）
全プレスパッタリング時間を２０分に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は８％、表面光沢度は５％となった。また、表面抵抗値は、９１Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。しかし、得られた耐熱遮光フィルムには色の濃淡といった色むらがあった。

色の濃い部分について金属酸化物膜のＸＰＳ分析を行った結果、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６５で、含有酸素量は、３１原子％であった。一方、色の薄い部分では、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７３で、含有酸素量は、３８原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような色むらによる特性のばらつきがある耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの光学的に使用される部材として利用することができない。

（比較例７）
全プレスパッタリング時間を６０分に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は６％、表面光沢度は５％となった。また、表面抵抗値は、８３Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

金属酸化物膜のＸＰＳ分析を行った結果、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７２で、含有酸素量は、３８原子％であった。膜色は黒色系ではなく、黄色を呈していた。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような膜色が黒色でない耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞り、特にレンズ周り用途などの部材として利用することができない。

（比較例８）
金属酸化物膜を形成する時の全プレスパッタリング時間に対する初段プレスパッタリング時の終了時間を２／５に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は６％、表面光沢度は３％となった。また、表面抵抗値は、９８Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．３μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７１で、含有酸素量は、３７原子％であった。得られた膜の色味は、黒色系であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができるものの、プレスパッタリング時間が長くなるため、製造コストが高くなってしまう。

（比較例９）
金属酸化物膜を形成する時の全プレスパッタリング時間に対する後段プレスパッタリング時の終了時間を１／６に変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、表面粗さは、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度の特性は実施例１と同等のものが得られていたが、反射率は６％、表面光沢度は３％となった。また、表面抵抗値は、９１Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．３μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。しかし、本スパッタリングと同じ反応性ガス／スパッタリングガス流量比の時間が短いため、金属酸化物膜の特性に左右される本スパッタリングが不安定となり、ターゲットの印加電圧のふらつきが目立った。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．７２で、含有酸素量は、３７原子％であった。得られた膜の色味は、黒色系であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができるものの、本スパッタリングでの成膜が不安定になりやすい問題が生じた。

（比較例１０）
樹脂フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）を０．１μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、光学濃度、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていた。膜色は黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９８Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．０５μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価では、反りはなかったが、膜剥がれが生じ、実施例１と同等の耐熱特性を有していないことがわかった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６５で、含有酸素量は、３４原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような膜剥がれが生じる耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例１１）
樹脂フィルムの算術平均粗さ（Ｒａ）を０．９μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例１と同等のフィルム温度であった。

その結果、反射率、光沢度などの特性は実施例１と同等のものが得られていたが、光学濃度は２であった。膜色は薄い黒色系を呈した。また、表面抵抗値は、９８Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．８５μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価では、反りや膜剥がれはなかった。実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比は０．６５で、含有酸素量は、３３原子％であった。作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような光学濃度が２と光の遮光性のない耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなどの部材として利用することができない。

（比較例１２）
反応性ガスの導入管は、ターゲットの長辺方向の中央部にそれぞれ配置し、そして、スパッタリングガスの導入管は、反応性ガスの導入管に配置した以外は、実施例１と同様にして、耐熱遮光フィルムを作製した。樹脂フィルムの厚み、プレスパッタリング方法は、実施例１と同様である。

作製した耐熱遮光フィルムの評価（光学特性、耐熱性）を実施例１と同様の方法、条件で実施した。実施例１と同様に金属膜および金属酸化物膜のスパッタリング時、フィルムの表面温度を赤外線放射温度計で巻き取り式スパッタリング装置の石英ガラスののぞき窓から測定すると２００〜２１０℃の温度となり、実施例２と同等のフィルム温度であった。

その結果、色むらが樹脂フィルムの搬送方向に生じた。フィルム幅の中央部では、金属酸化物膜の色味が強く、その両側では、中央付近に比べ、膜色は薄くなっていた。光学濃度、反射率、光沢度などの特性は、膜色の違う部分で異なったものであった。光学濃度は４以上であったが、反射率は６％以上と高くなった。また、表面抵抗値は、９０Ω／□であり、表面の算術平均高さＲａは、０．４μｍであることを確認した。また、２２０℃で２４時間加熱試験後の膜の密着性評価でも、反りや膜剥がれはなく、実施例１と同等の耐熱特性を有していることがわかった。摩擦係数についても良好であった。

得られた金属酸化物膜のＸＰＳ分析から、金属酸化物（ＭｅＯ）／金属（Ｍｅ）の組成比はフィルム中央付近で２．０で、含有酸素量は、４２原子％であり、その両側では含有酸素量はフィルム中央部よりも低い値であった。
作製した耐熱遮光フィルムの構成、特性を表２にまとめた。
よって、このような膜色のむらがある耐熱遮光フィルムは、２００℃程度の高熱環境下で使用される液晶プロジェクタの絞りなど、光学的な部材として利用することができない。

本発明の製造方法によって得られる耐熱遮光フィルムの構成の一例を示す模式図である。 本発明の金属酸化物膜を反応性スパッタリングで成膜する前のプレスパッタリング方法（ガス流量比の条件）の概略図である。 本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法で使用する巻き取り式スパッタリング装置の概略図である。 本発明の耐熱遮光フィルムの製造方法で使用するスパッタリング装置のカソードの概略図であり、（イ）は正面図、（ロ）は側面図である。

符号の説明

Ａ 樹脂フィルム
Ｂ 金属膜
Ｃ 金属酸化物膜
１ 樹脂フィルム
２ 隔壁
３ 巻き出しロール
４ 真空ポンプ
５ 真空槽
６ 冷却キャンロール
７ 巻き取りロール
８ スパッタリング室
９ マグネトロンカソード
１０ ターゲット
１１ スパッタリングガス導入管
１２ 反応性ガス導入管
１３ 開口

Claims (10)

1. 耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに該金属膜上に金属酸化物膜を順次形成してなる耐熱遮光フィルムの製造方法において、
   前記金属膜を形成した後、該金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のための初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、
   初段プレスパッタリングでは、反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比（以下、「ガス流量比」と称する場合もある。）を、初段プレスパッタリング開始時から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の１／５の時にガス流量比が１３％以下となるようにして初段プレスパッタリングを終了し、
   次段階の中段プレスパッタリングでは、初段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の１／５の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の１／２の時にガス流量比が１３〜２０％の範囲となるようにして中段プレスパッタリングを終了し、
   さらに、次段階の後段プレスパッタリングでは、中段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の１／２の時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比から単調に増加させプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時に本スパッタリング時と同じガス流量比である２０〜２５％の範囲になるようにして後段プレスパッタリングを終了し、
   後段プレスパッタリング終了時の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比で本スパッタリングを行うようにしたことを特徴とする耐熱遮光フィルムの製造方法。
2. 前記反応性ガスが、酸素ガス又は窒素ガスの少なくとも１種以上のガス成分を含有することを特徴とする請求項１に記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
3. 前記全プレスパッタリング時間が、３０〜５０分であることを特徴とする請求項１又は２に記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
4. 前記樹脂フィルムが、ポリイミド、アラミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルサルフォン又はポリエチレンナフタレートから選ばれた１種類以上で構成され、表面粗さが０．２〜０．８μｍ（算術平均高さＲａ）であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
5. 前記金属膜がニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
6. 前記金属酸化物膜が、ニッケルを主成分とし、さらに、チタン、タンタル、タングステン、バナジウム、モリブデン、コバルト、ニオブ、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム又は珪素からなる群より選ばれた１種類以上の元素を含有するものであり、金属膜を形成する時に用いた金属ターゲットを用いて得られることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
7. 請求項１に記載の耐熱遮光フィルムの製造方法で得られた耐熱遮光フィルムを、再度スパッタリング装置に供給し、該耐熱遮光フィルムの金属膜、金属酸化物膜が形成されていない面に、金属膜を形成した後、請求項１記載の耐熱遮光フィルムの製造方法に従い、プレスパッタリングと本スパッタリングをするようにしたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
8. 前記樹脂フィルムが、ロール状に巻き取られてスパッタリング装置のフィルム搬送部にセットされることを特徴とする請求項７に記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
9. スパッタリングガス圧が、０．２〜１．０Ｐａであることを特徴とする請求項８に記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。
10. 前記金属ターゲットは、長方形状であり、前記金属膜と前記金属酸化膜を成膜するに際し、該金属ターゲットの長辺方向が、前記樹脂フィルムの搬送方向と概直交し、さらに、該樹脂フィルムと対向するように配置され、スパッタリングガス導入管及び反応性ガス導入管が、該金属ターゲットの長辺方向に対して並行に対向するように配置されており、両導入管にそれぞれ設けられている複数の開口が対向していることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の耐熱遮光フィルムの製造方法。

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