JP4929905B2 - 半導体モジュール - Google Patents
半導体モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP4929905B2 JP4929905B2 JP2006206418A JP2006206418A JP4929905B2 JP 4929905 B2 JP4929905 B2 JP 4929905B2 JP 2006206418 A JP2006206418 A JP 2006206418A JP 2006206418 A JP2006206418 A JP 2006206418A JP 4929905 B2 JP4929905 B2 JP 4929905B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inductor
- substrate
- interposer
- semiconductor module
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19042—Component type being an inductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19102—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
- H01L2924/19103—Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device interposed between the semiconductor or solid-state device and the die mounting substrate, i.e. chip-on-passive
Landscapes
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Description
また、特許文献5には、層間絶縁膜を介して一対のコイル配線がプラグで電気的に接続されて形成され、コイル配線の中央部及び外周部に軟磁性体粒子を接着性材料で固化して形成された磁気コアが配置されるオンチップ・コイルの構成が開示されている。
インダクタをIC表面上に形成する場合、材料や構造の制約から大容量のインダクタを形成することが困難であることが判明している。
そこで、インダクタを形成したインターポーザーをICに接続することが考えられており、そのため、大容量のインダクタを低コストで形成する技術の開発が強く望まれていた。
本発明の半導体モジュールは、基板の一方の面に渦巻き状に第1インダクタ素子が設けられ、前記基板の他方の面に渦巻き状に第2インダクタ素子が設けられ、前記第1インダクタ素子と前記第2インダクタ素子とが、中心側端部において電気的に接続されたインターポーザーと、前記基板の一方の面で接続端子により前記インターポーザーと接続された半導体素子とを備え、前記第1インダクタ素子の外側端部は、前記半導体素子に電気的に接続され、前記第2インダクタ素子の外側端部は、前記基板の他方の面に設けられた外部接続端子に電気的に接続され、前記基板の一方の面に前記接続端子の厚さよりも薄く成膜され前記第1インダクタ素子を封止する第1膜部と、前記基板の他方の面に前記外部接続端子の厚さよりも薄く成膜され前記第2インダクタ素子を封止する第2膜部と、前記第1膜部及び前記第2膜部を接続する接続部とを有し、前記第1膜部、前記第2膜部及び前記接続部は、粉末状の磁性体が分散された樹脂材で形成されることを特徴とするものである。
例えば、上述した特許文献5の技術では、磁力線に関して閉磁路が形成できていないが、本発明のインターポーザーでは、インダクタ素子から発生する磁力線の磁路が磁性体分散樹脂体内で閉じることになるため、磁束密度を大きくすることが可能になり、大容量のインダクタンス値(L値)を得ることができる。逆に、本発明では、少ない巻数でインダクタ素子を形成することが可能になるため、占有面積の削減できるという効果も奏する。
また、本発明では、粉末状の磁性体が分散された樹脂材を印刷法、スピンコート法、液滴吐出法等により塗布するという簡単な工法で磁性樹脂体を形成できるため、コストの増加を回避することができる。
これにより、本発明では、インダクタ素子から発生する磁力線が閉ループを形成して集中させやすくなるため、磁束密度が向上し、より大容量のインダクタンス値(L値)を得ることが可能になる。
これにより、本発明では、基板の所望位置(所定位置)に貫通孔を形成し、この貫通孔に磁性体分散樹脂材を充填することにより、当該接続部を介して第1膜部及び第2膜部において磁力線を閉ループを形成することができる。また、基板に貫通孔を形成することにより、容易に接続部を設定することが可能になる。
これにより、本発明では、金属箔を安定して基板に貼り合わせることができ、高品質のインターポーザーを形成することができる。
これにより、本発明では、インダクタ素子及び第2インダクタ素子の双方で磁力線を生じさせることができ、より大容量のインダクタンス値(L値)を得ることが可能になる。
従って、本発明の半導体モジュールでは、ICチップ等の半導体素子に、コスト増を招くことなく、大容量のインダクタンス値が得られるインターポーザーが接続されているため、コストダウンに寄与できる高品質の半導体モジュールを得ることができる。
従って、本発明のインターポーザーの製造方法では、インダクタ素子から発生する磁力線の磁路が磁性体分散樹脂体内で閉じることになるため、磁力線に関して閉磁路が形成できていない上述した特許文献5の技術と比較して、磁束密度を大きくすることが可能になり、大容量のインダクタンス値(L値)を得ることができる。逆に、本発明では、少ない巻数でインダクタ素子を形成することが可能になるため、占有面積の削減できるという効果も奏する。
また、本発明では、粉末状の磁性体が分散された樹脂材を印刷法、スピンコート法、液滴吐出法等により塗布するという簡単な工法で磁性樹脂体を形成できるため、コストの増加を回避することができる。
これにより、本発明では、インダクタ素子から発生する磁力線が閉ループを形成して集中させやすくなるため、磁束密度が向上し、より大容量のインダクタンス値(L値)を得ることが可能になる。
これにより、本発明では、基板の所望位置(所定位置)に貫通孔を形成し、この貫通孔に磁性体分散樹脂材を充填することにより、当該接続部を介して第1膜部及び第2膜部において磁力線を閉ループを形成することができる。また、基板に貫通孔を形成することにより、容易に接続部を設定することが可能になる。
これにより、本発明では、金属箔を安定して基板に貼り合わせることができ、高品質のインターポーザーを形成することができる。
これにより、本発明では、インダクタ素子及び第2インダクタ素子の双方で磁力線を生じさせることができ、より大容量のインダクタンス値(L値)を得ることが可能になる。
従って、本発明の半導体モジュールでは、ICチップ等の半導体素子に、コスト増を招くことなく、大容量のインダクタンス値が得られるインターポーザーが接続されているため、コストダウンに寄与できる高品質の半導体モジュールを得ることができる。
なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
ここでは、例えば、インターポーザーがICチップに接続された半導体モジュールについて説明する。
本実施形態の半導体モジュール(半導体装置)1は、図1に示すように、インターポーザー10と、ICチップ(半導体素子)12(図1(a)では図示せず、図1(b)参照)と、ICチップ12を埋め込むようにして、インターポーザー10の主面10a全体に形成されるモールド材16とからなるシステムインパッケージ(SiP)の構成をなすものである。
また、インダクタ素子40、80の中心側の端部は、貫通孔19の壁面に形成された配線(図示せず)により接続されている。
また、これら磁性樹脂層30、60は、当該磁性樹脂層30、60を形成する磁性樹脂材料を貫通孔17〜19に装填することで設けられた接続部27〜29によって、互いに接続されている。
まず、図2(a)に示すように、インターポーザー10に対してエッチング等により貫通孔17〜19(図2(a)では貫通孔17は図示せず、図1(a)参照)を形成するとともに、電解メッキ法等により、インダクタ素子40、80や上述した電極、電極部、貫通孔19内の配線等を形成する。
この後、インターポーザー10の主面10a上の電極部に、図2(e)に示すように、電極端子26をはんだ等により形成する。
モールド材16の形成方法としては、上記したモールド金型によるものではなく、スピンコートによる成膜やドライフィルム等を貼着することによっても可能である。
以上により、本実施形態に係る半導体モジュール1が完成する。
次に、上述した電子基板を備えた電子機器の例について説明する。
図4は、携帯電話の斜視図である。上述した電子基板は、携帯電話1300の筐体内部に配置されている。この構成によれば、高いインダクタンス値を有し、またコスト増が抑制された電子基板を備えているので、低コストで高品質の携帯電話を提供することができる。
Claims (5)
- 基板の一方の面に渦巻き状に第1インダクタ素子が設けられ、前記基板の他方の面に渦巻き状に第2インダクタ素子が設けられ、前記第1インダクタ素子と前記第2インダクタ素子とが、中心側端部において電気的に接続されたインターポーザーと、
前記基板の一方の面で接続端子により前記インターポーザーと接続された半導体素子とを備え、
前記第1インダクタ素子の外側端部は、前記半導体素子に電気的に接続され、
前記第2インダクタ素子の外側端部は、前記基板の他方の面に設けられた外部接続端子に電気的に接続され、
前記基板の一方の面に前記接続端子の厚さよりも薄く成膜され前記第1インダクタ素子を封止する第1膜部と、
前記基板の他方の面に前記外部接続端子の厚さよりも薄く成膜され前記第2インダクタ素子を封止する第2膜部と、
前記第1膜部及び前記第2膜部を接続する接続部とを有し、
前記第1膜部、前記第2膜部及び前記接続部は、粉末状の磁性体が分散された樹脂材で形成されることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1記載の半導体モジュールにおいて、
前記第1、第2インダクタ素子は、スパイラル状にパターニングされた配線を有し、
前記接続部は、前記第1、第2インダクタ素子の周囲と、前記第1、第2インダクタ素子の中心部とに設けられていることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1または2記載の半導体モジュールにおいて、
前記接続部は、前記基板を貫通して設けられることを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1から3のいずれかに記載の半導体モジュールにおいて、
前記第1、第2インダクタ素子は、前記基板に貼設された金属箔配線で形成され、
前記金属箔配線は12μm以上の厚さを有することを特徴とする半導体モジュール。 - 請求項1から4のいずれかに記載の半導体モジュールにおいて、
前記第1、第2インダクタ素子は、平面視において前記半導体素子よりも小さく形成されていることを特徴とする半導体モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006206418A JP4929905B2 (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | 半導体モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006206418A JP4929905B2 (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | 半導体モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008034632A JP2008034632A (ja) | 2008-02-14 |
JP4929905B2 true JP4929905B2 (ja) | 2012-05-09 |
Family
ID=39123745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006206418A Expired - Fee Related JP4929905B2 (ja) | 2006-07-28 | 2006-07-28 | 半導体モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4929905B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5549600B2 (ja) * | 2009-02-07 | 2014-07-16 | 株式会社村田製作所 | 平板状コイル付きモジュールの製造方法及び平板状コイル付きモジュール |
US9293390B2 (en) | 2013-01-11 | 2016-03-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Heat radiation structure for semiconductor device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59175108A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Omron Tateisi Electronics Co | 扁平コイル |
JPH08306533A (ja) * | 1995-05-08 | 1996-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 調整磁気デバイス |
JP2002353030A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Kawasaki Steel Corp | 表面実装型平面磁気素子および集積型回路部品 |
JP2004146655A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Taiyo Yuden Co Ltd | コイル部品及びそれを利用した回路装置 |
JP2004152980A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 薄膜磁気誘導素子とそれを用いた超小型電力変換装置 |
-
2006
- 2006-07-28 JP JP2006206418A patent/JP4929905B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008034632A (ja) | 2008-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9905502B2 (en) | Sintered conductive matrix material on wire bond | |
US20220344247A1 (en) | Ultra-thin, hyper-density semiconductor packages | |
JP2019046993A (ja) | インダクタ部品 | |
JP5756515B2 (ja) | チップ部品内蔵樹脂多層基板およびその製造方法 | |
US20090310323A1 (en) | Printed circuit board including electronic component embedded therein and method of manufacturing the same | |
US10412828B1 (en) | Wiring substrate | |
WO2001026155A1 (fr) | Dispositif a semi-conducteur, procede et dispositif permettant d'obtenir ce dernier, carte de circuit imprime et equipement electronique | |
US6521483B1 (en) | Semiconductor device, method of manufacture thereof, circuit board, and electronic device | |
US8373281B2 (en) | Semiconductor module and portable apparatus provided with semiconductor module | |
US9935053B2 (en) | Electronic component integrated substrate | |
JP2012089847A (ja) | 半導体パッケージ及びその製造方法 | |
JP3654116B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
US11735535B2 (en) | Coaxial magnetic inductors with pre-fabricated ferrite cores | |
JP2001298115A (ja) | 半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 | |
US20100078813A1 (en) | Semiconductor module and method for manufacturing the semiconductor module | |
US9966331B2 (en) | Wiring substrate and semiconductor device | |
JP4978184B2 (ja) | 半導体装置及び電子機器 | |
US20090057903A1 (en) | Semiconductor module, method for manufacturing semiconductor modules, semiconductor apparatus, method for manufacturing semiconductor apparatuses, and portable device | |
TW201709450A (zh) | 具有中介支撐構造機構的積體電路封裝系統及其製造的方法 | |
JP4929905B2 (ja) | 半導体モジュール | |
JP3693057B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
CN112652445B (zh) | 电感器部件 | |
JP2010040721A (ja) | 半導体モジュール、半導体装置、携帯機器、半導体モジュールの製造方法および半導体装置の製造方法 | |
JP2008118021A (ja) | 半導体モジュールとその製造方法 | |
KR102662847B1 (ko) | 인쇄회로기판 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090313 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090316 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110407 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120130 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4929905 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |