JP4921119B2 - インク受容膜形成用塗工液、その製造方法、インク受容膜、積層基板、配線材料および電磁波シールド材料 - Google Patents
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Description
(1) (A)珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、一次粒子径が2〜200nmであって、2個以上の粒子が結合した凝集体粒子25質量%以上を含む金属酸化物粒子と、
(B)一般式(I)
R1 nM(OR2)m−n …(I)
(式中、R1は非加水分解性基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、
mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、
R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表されるアルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応して得られたM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物と、
を含み、かつ前記(A)成分と(B)成分との合計量に対する(A)成分の含有量が40〜95質量%であることを特徴とするインク受容膜形成用塗工液、
(2) さらに(C)帯電防止剤を含む上記(1)に記載のインク受容膜形成用塗工液、
(3) (a)珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、一次粒子径が2〜200nmであって、2個以上の粒子が結合した凝集体粒子25質量%以上を含む金属酸化物粒子の分散液を準備する工程、
(b)一般式(I)
R1 nM(OR2)m−n …(I)
(式中、R1は非加水分解性基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、
mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、
R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表されるアルコキシド化合物を、酸性条件下で加水分解−縮合反応して得られたM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含むバインダー液を調製する工程、および
(c)前記の金属酸化物粒子の分散液とバインダー液とを混合する工程、
を含むことを特徴とするインク受容膜形成用塗工液の製造方法、
(4) (a)工程において、実質上2個以上の粒子が結合した凝集体粒子のみからなる金属酸化物粒子と、前記凝集体粒子を実質上含まない金属酸化物粒子とを混合し、該凝集体粒子の含有量を調整する上記(3)に記載の方法、
(5) (c)工程において、さらに帯電防止剤を混合する上記(3)または(4)に記載の方法、
(6) 上記(1)に記載の塗工液を乾燥することにより形成されてなる薄膜であり、窒素吸着法(BET1点法)で測定される比表面積が単位面積あたりに換算して30〜1000cm2/cm2であることを特徴とするインク受容膜、
(7) 上記(2)に記載の塗工液を乾燥することにより形成されてなる薄膜であり、窒素吸着法(BET1点法)で測定される比表面積が単位面積あたりに換算して30〜1000cm2/cm2で、表面抵抗が105〜1013Ω/cm2であることを特徴とするインク受容膜、
(8) 基板上に上記(6)または(7)に記載のインク受容膜を有することを特徴とする積層基板、
(9) 基板が、有機基板である上記(8)に記載の積層基板、
(10) 有機基板が、ポリエチレンテレフタレート基板である上記(9)に記載の積層基板、
(11) 上記(8)〜(10)のいずれかに記載の積層基板上のインク受容膜表面に、配線が形成されてなることを特徴とする配線材料、
(12) 前記配線がスクリーン印刷により形成されてなる上記(11)に記載の配線材料、
(13) 上記(8)〜(10)のいずれかに記載の積層基板上のインク受容膜表面に、スクリーン印刷により配線が形成されてなることを特徴とする電磁波シールド材料、および
(14) プラズマディスプレイに用いられる上記(13)に記載の電磁波シールド材料
を提供するものである。
本発明のインク受容膜形成用塗工液(以下、単に塗工液と称することがある。)においては、(A)特定の金属酸化物粒子と、(B)特定のアルコキシド化合物を、酸性条件下で加水分解−縮合反応して得られたM−O(M:珪素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム)の繰り返し単位を主骨格とする縮合物とが含まれている。
R1 nM(OR2)m−n …(I)
で表されるアルコキシド化合物を、酸性条件下で加水分解−縮合反応することにより得られたものである。
また、本発明の効果を阻害しない範囲内で公知の添加剤、例えば成膜助剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤、耐熱剤、耐候剤などを含有することができる。
本発明におけるインク受容膜形成用塗工液の製造方法は、
(a)珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、一次粒子径が2〜200nmであって、2個以上の粒子が結合した凝集体粒子25質量%以上を含む金属酸化物粒子の分散液を準備する工程、
(b)一般式(I)
R1 nM(OR2)m−n …(I)
(式中、R1は非加水分解性基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、
mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、
R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表されるアルコキシド化合物を、酸性条件下で加水分解−縮合反応して得られたM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含むバインダー液を調製する工程、および
(c)前記の金属酸化物粒子の分散液とバインダー液とを混合する工程、
を含むことを特徴とするものである。
本発明の方法においては、(a)工程において、実質上2個以上の粒子が結合した凝集体粒子のみからなる金属酸化物粒子と、前記凝集体粒子を実質上含まない金属酸化物粒子とを混合し、該凝集体粒子の含有量を調整したものを準備することが望ましい。
上記縮合物を含むバインダー液を得る方法としては、例えば、アルコール系、セロソルブ系、ケトン系、エーテル系などの適当な極性溶剤中において、該アルコキシド化合物を、塩酸、硫酸、硝酸などの酸、あるいは固体酸としてのカチオン交換樹脂を用い、通常0〜60℃、好ましくは20〜40℃の温度にて加水分解処理し、固体酸を用いた場合には、それを除去したのち、さらに、所望により溶剤を留去または添加する方法を挙げることができ、上記反応により、M−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を所定濃度で含むバインダー液を得ることができる。
混合時の温度は、0〜60℃が好ましく、5〜40℃がより好ましく、10〜30℃がさらに好ましい。また、混合時間は5〜180分が好ましく、15〜150分がより好ましく、30〜120分がさらに好ましい。
また、本発明の効果を阻害しない範囲内で、公知の添加剤、例えば成膜助剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤、耐熱剤、耐候剤などを混合することができる。
本発明のインク受容膜は、本発明のインク受容膜形成用塗工液を乾燥することにより形成されてなる薄膜であり、窒素吸着法(BET1点法)で測定される比表面積が単位面積あたりに換算して30〜1000cm2/cm2であることを特徴とするものである。
イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、p−β−ヒドロキシエトキシ安息香酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ε−オキシカプロン酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、α,β−ビス(2−クロルフェノキシ)エタン4,4’−ジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸など。
プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,1−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス(4−ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ポリエチレングリコールなど。
本発明の積層基板は、基板上に本発明のインク受容膜を有することを特徴とするものである。
本発明の積層基板で用いる基板は、上記本発明のインク受容膜において説明した基板と同様のものを挙げることができ、中でも上述した有機基板が好ましく、PET基板がより好ましい。
また、基板上へのインク受容膜の形成方法についても、上記本発明のインク受容膜において説明した方法と同様である。
本発明の配線材料は、本発明の積層基板上のインク受容膜表面に、配線が形成されてなることを特徴とする。
上記配線はスクリーン印刷により形成されてなるものであることが好ましい。
(x)前記本発明の塗工液を基板、特にPETフィルム基板上に塗工、乾燥してインク受容膜を有する積層基板を形成する工程、
(y)該積層基板上のインク受容膜表面にインクを印刷する工程、および
(z)160〜250℃の温度で焼成する工程
を、上記順序で含む方法を挙げることができる。
次いで、(z)工程において、160〜250℃、好ましくは170〜200℃の温度で30〜60分間程度焼成することにより、インク受容膜表面に所定パターンの配線が形成されてなる本発明の配線材料を得ることができる。
本発明の電磁波シールド材料は、本発明の積層基板上のインク受容膜表面に、スクリーン印刷により配線が形成されてなることを特徴とする。
インク受容膜表面への配線の形成方法は、配線の印刷方法がスクリーン印刷法に特定されることを除けば、上記本発明の配線材料において説明した方法と同様である。特に、配線印刷をロール状のフィルム加工が簡便に行えるスクリーン印刷で行うことにより、生産性が高く、低コストで電磁波シールド材料を作製することが可能になる。
得られる電磁波シールド材料は、JIS K7105法での全光線透過率が50%〜95%であることが好ましく65%〜95%であることが特に好ましい。ヘイズ値は同様にJIS K7105法で0.1〜20%であることが好ましく、0.1〜10%であることが特に好ましい。表面抵抗値は0.01〜5Ω/cm2であることが好ましく、0.01〜2Ω/cm2であることが特に好ましい。また、関西電子工業振興センター法(KEC法)による電磁波シールド性は、100、300、500MHzのいずれの周波数においても20dB〜70dBであることが好ましく、35dB〜70dBであることが特に好ましい。
本発明の電磁波シールド材料は、透明性が高く、ディスプレイの前面に設置するのに適していることから、例えば、プラズマディスプレイなどの電磁波シールド材料として好適に使用することができる。
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン306.84gとチタンテトライソプロポキシド266.87gをエチルセロソルブ257.26gに溶解させ、これに濃硝酸100.68g、水31.61gおよびエチルセロソルブ36.75gの混合液を滴下したのち、30℃にて4時間反応させることにより、固形分濃度30質量%のバインダー液[(B)−1成分含有液]を調製した。
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン306.84gとテトラメトキシシランのオリゴマー「三菱化学(株)製、商品名「MS−51」」146.88gをメタノール256.68gに溶解させ、これに0.1モル/L濃度の硝酸31.86g、水221.08gおよびメタノール36.67gの混合液を滴下したのち、30℃にて24時間反応させて、固形分濃度30質量%のバインダー液[(B)−2成分含有液]を調製した。
(1)(A)−1成分含有液の調製
2個以上の粒子が結合した珪素系酸化物凝集体粒子のみを15質量%含む分散液[(A)−1成分含有液]を調製した。
(2)塗工液の調製
上記(1)で得た(A)−1成分含有液900g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン50g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液50gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度15質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液360g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン620g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液20gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液180g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン810g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液10gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度3質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液320g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン640g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液40gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液240g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン680g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液80gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液360g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン620g、次いで調製例2で得た(B)−2成分含有液20gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(1)(A)−2成分含有液の調製
2個以上の粒子が結合した珪素系酸化物凝集体粒子を67質量%含む珪素系酸化物微粒子を、15質量%含む分散液[(A)−2成分含有液]を調製した。
(2)塗工液の調製
上記(1)で得た(A)−2成分含有液360g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン620g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液20gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(1)(A)−3成分含有液の調製
2個以上の粒子が結合した珪素系酸化物凝集体粒子を30質量%含む珪素系酸化物微粒子を、15質量%含む分散液[(A)−3成分含有液]を調製した。
(2)塗工液の調製
上記(1)で得た(A)−3成分含有液360g中に、攪拌しながらシクロヘキサノール620g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液20gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(1)(C)−1成分含有液の調製
帯電防止剤としてアンチモンドープ酸化スズ(ATO)を10質量%含む分散液[(C)−1成分含有液]を調製した。
(2)実施例1(1)で得た(A)−1含有液成分400g中に、攪拌しながらシクロヘキサノール80g、次いで調製例2で得た(B)−2含有液成分40g、最後に(C)−1成分含有液480gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度12質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液120g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン740g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液140gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(1)(A)−4成分含有液の調製
2個以上の粒子が結合した珪素系酸化物凝集体粒子を50質量%含む珪素系酸化物微粒子を、15質量%含む分散液[(A)−4成分含有液]を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(2)塗工液の調製
上記(1)で得た(A)−4成分含有液80g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン780g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液160gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
(1)(A)−5成分含有液の調製
2個以上の粒子が結合した珪素系酸化物凝集体粒子を22質量%含む珪素系酸化物微粒子を、15質量%含む分散液[(A)−5成分含有液]を調製した。
(2)塗工液の調製
上記(1)で得た(A)−5成分含有液360g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン620g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液20gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液120g中に、攪拌しながら水670g、次いでポリビニルアルコール20質量%を含む水溶液210gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を得た。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1(1)で得た(A)−1成分含有液388g中に、攪拌しながらシクロヘキサノン606g、次いで調製例1で得た(B)−1成分含有液6gを滴下し、室温にて1時間攪拌することにより、固形分濃度6質量%の塗工液を調製した。得られた塗工液の組成を表1の「塗工液」欄に示す。
実施例1〜9で得た塗工液をそれぞれ用い、片面にハードコート層を設けたポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム[(株)きもと製、商品名「KB125G01」、厚さ125μm]のハードコート層とは反対側の面に、バーコート法(バーNo.14)により、乾燥後の厚さが表1に示す値になるように各塗工液を塗布し、120℃で1分間加熱後、60℃で3日間エージングを行い、インク受容膜を形成して各積層基板を作製した。
(1)クラックの有無
光学顕微鏡(倍率1250倍)にて観察し、クラックの有無を調べた。
(2)ヘイズ値(Hz)
日本電色工業(株)製「NDH2000(測定方法2)」を用いて測定した。
(3)表面抵抗
武田理研(株)製「HIGH MEGOHM METER、TR8601」を用いて測定した。
(4)比表面積
島津製作所(株)製「micromeritics、FlowSorbII2300」を用いて測定した。
なお、厚さ25μmのPETフィルムの単位面積あたりの重量を0.003475g/cm2、PETの密度を1.39g/cm3として、測定値を換算し比表面積値(cm2/cm2)とした。
比較例1〜5で得た各塗工液を用いた以外は、実施例10と同様にしてPETフィルム上にインク受容膜を形成して各積層基板を得た。
得られた各積層基板を用い、インク受容膜における、クラックの有無、ヘイズ値(Hz)、表面抵抗、比表面積を実施例10と同様の方法で評価し、その結果を表1の「特性」欄の「初期」項目に示す。表1において、得られた各評価結果は、本比較例で用いた各塗工液に対応するように記載している。
実施例10で得た各積層基板のインク受容膜上に、Agペースト[ハリマ化成(株)製、商品名「NPS−H」]を、スクリーン印刷法(版:線幅30μm、長さ50mm、厚み10μm)にて、所定のパターン形状に印刷し、180℃にて30分間焼成することにより、配線材料を作製した。
得られた各配線材料の性能を以下の方法で評価した。その結果を表1の「特性」欄の「印刷・焼成後」項目に示す。表1において、得られた評価結果は、各塗工液に対応するように記載している。
光学顕微鏡(倍率1250倍)にて観察し、クラックの有無を調べた。
(2)印刷性
市販のインクジェットメディア[ピクトリコ(株)製、商品名「ピクトリコ(TPX−1766/2)」]の印刷幅を1とした場合の滲み幅Xを求め、下記の判定基準で印刷性を評価した。
○:0.1≦X≦1.2
△:1.2<X≦1.5
×:1.5<X
(3)ヘイズ値(Hz)の変化割合ΔHz
日本電色工業(株)製「NDH2000(測定方法2)」を用いて、180℃にて30分間焼成前後のヘイズ値の変化割合ΔHzを「(焼成後のHz)−(焼成前のHz)」で求め、下記の判定基準で評価した。
○:ΔHz<2
△:2≦ΔHz<4
×:4≦ΔHz
(4)黄変度(YI)の変化割合ΔYI
島津製作所(株)製 UV−2100を用いて、180℃にて30分間焼成前後の黄変度(YI)の変化割合ΔYIを、「(焼成後のYI)−(焼成前のYI)」で求め、下記の判定基準で評価した。
○:ΔYI<2
△:2≦ΔYI<5
×:5≦ΔYI
表1に示すように、実施例11で得られた各配線材料においては、いずれもクラックの発生は認められず、印刷性、ΔHzおよびΔYIもいずれも良好であった。
比較例6で得た各積層基板のインク受容膜上に、実施例11と同様にして配線を形成して、各配線材料を得た。
得られた各配線材料の性能を実施例11と同様の方法で評価した。その結果を表1の「特性」欄の「印刷・焼成後」項目に示す。表1において、得られた評価結果は、各塗工液に対応するように記載している。
市販のインク・ジェット・プリンタ用記録媒体(基材:ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、表面:透明、厚み120μm、インク吸収量:120%)を用いて、実施例11に記載の評価方法と同様にして印刷性およびΔYIを評価したところ、印刷性は良好であったが、ΔYIが大きく変化した。
実施例1で得た塗工液を用い、片面にハードコート層を形成したPETフィルム[(株)きもと製、商品名「KB125G01」、厚さ125μm]のハードコート層とは反対側の面に、バーコート法(バーNo.14)により、乾燥後の厚さが2.5μmになるように塗工液を塗布し、120℃で1分間加熱後、60℃で3日間エージングを行い、インク受容膜を形成した。
得られた電磁波シールドフィルムの評価結果を表2に示す。
Claims (14)
- (A)珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、一次粒子径が2〜200nmであって、2個以上の粒子が結合した凝集体粒子25質量%以上を含む金属酸化物粒子と、
(B)一般式(I)
R1 nM(OR2)m−n …(I)
(式中、R1は非加水分解性基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、
mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、
R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表されるアルコキシド化合物を、加水分解−縮合反応して得られたM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物と、
を含み、かつ前記(A)成分と(B)成分との合計量に対する(A)成分の含有量が40〜95質量%であることを特徴とするインク受容膜形成用塗工液。 - さらに(C)帯電防止剤を含む請求項1に記載のインク受容膜形成用塗工液。
- (a)珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、一次粒子径が2〜200nmであって、2個以上の粒子が結合した凝集体粒子25質量%以上を含む金属酸化物粒子の分散液を準備する工程、
(b)一般式(I)
R1 nM(OR2)m−n ・・・(I)
(式中、R1は非加水分解性基、R2は炭素数1〜6のアルキル基、Mは珪素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を示し、
mは金属原子Mの価数で、3または4であり、nは、mが4の場合は0〜2の整数、mが3の場合は0〜1の整数であり、
R1が複数ある場合、各R1はたがいに同一であっても異なっていてもよく、OR2が複数ある場合、各OR2はたがいに同一であっても異なっていてもよい。)
で表されるアルコキシド化合物を、酸性条件下で加水分解−縮合反応して得られたM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含むバインダー液を調製する工程、および
(c)前記の金属酸化物粒子の分散液とバインダー液とを混合する工程、
を含むことを特徴とするインク受容膜形成用塗工液の製造方法。 - (a)工程において、実質上2個以上の粒子が結合した凝集体粒子のみからなる金属酸化物粒子と、前記凝集体粒子を実質上含まない金属酸化物粒子とを混合し、該凝集体粒子の含有量を調整する請求項3に記載の方法。
- (c)工程において、さらに帯電防止剤を混合する請求項3または請求項4に記載の方法。
- 請求項1に記載の塗工液を乾燥することにより形成されてなる薄膜であり、窒素吸着法(BET1点法)で測定される比表面積が単位面積あたりに換算して30〜1000cm2/cm2であることを特徴とするインク受容膜。
- 請求項2に記載の塗工液を乾燥することにより形成されてなる薄膜であり、窒素吸着法(BET1点法)で測定される比表面積が単位面積あたりに換算して30〜1000cm2/cm2で、表面抵抗が105〜1013Ω/cm2であることを特徴とするインク受容膜。
- 基板上に請求項6または請求項7に記載のインク受容膜を有することを特徴とする積層基板。
- 基板が、有機基板である請求項8に記載の積層基板。
- 有機基板が、ポリエチレンテレフタレート基板である請求項9に記載の積層基板。
- 請求項8〜10のいずれかに記載の積層基板上のインク受容膜表面に、配線が形成されてなることを特徴とする配線材料。
- 前記配線がスクリーン印刷により形成されてなる請求項11に記載の配線材料。
- 請求項8〜10のいずれかに記載の積層基板上のインク受容膜表面に、スクリーン印刷により配線が形成されてなることを特徴とする電磁波シールド材料。
- プラズマディスプレイに用いられる請求項13に記載の電磁波シールド材料。
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