KR20070051940A - 비절연성 코팅을 포함하는 물품 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다공성 코팅, 전기 비절연성 코팅 및 기판을 포함하는 코팅된 물품에 관한 것으로, 다공성 코팅은 비절연성 코팅의 상부에 존재한다. 코팅된 장치의 표면 저항율은 다공성 층의 존재에 의해 동일 기판 상에서 단일 전기적 비절연성 코팅의 표면 저항율에 비하여 증가되지 않거나 거의 증가되지 않는다. 코팅된 물품은 반사방지성-대전방지성 또는 눈부심 방지성-대전방지성을 갖는다.

Description

비절연성 코팅을 포함하는 물품{OBJECT COMPRISING A NON-INSULATIVE COATING}
본 발명은 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 비절연성 코팅을 포함하는 물품에 관한 것이다. 예를 들면 전자 장치와 같은 물품은 점차적으로 플라스틱 구성요소로 제조되고 마이크로칩의 전기 감도는 꾸준히 증가하고 있다. 그러므로, 비절연성 코팅을 갖는 물품을 제공하는 것이 중요하다.
널리 허용되고 상업적으로 입증되고 있는 방법은 예를 들면 습식 코팅 증착을 가능하게 하는 유기 결합제 중에 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 것이다. 이러한 종에는 예를 들면 도전성 금속 입자, 반도전성 금속 산화물(예, 미국 특허 제 2003/0173545 호 참조) 및 금속 탄소 종(예, 미국 특허 제 2003/024798 호 참조)을 포함할 수 있다.
종종 대전방지성 또는 전기 도전성 코팅이 코팅된 물품의 최외층이 아니라는데 문제가 있다. 예를 들면, 개인용 컴퓨터, 텔레비젼, 휴대폰 등에 사용되는 전자 디스플레이에서는, 일반적으로 낮은 굴절율을 갖는 코팅이 대전방지성 코팅 상 에 증착되어 상기 디스플레이 표면의 반사를 감소시킨다. 이러한 것은 예를 들면 일본 특허 출원(JP-A) 제 2002-298666 호에 기술되어 있다. 이러한 오버코팅 방법은 물품의 전기 도전 특성을 감소시켜서 바람직하지 못하다.
본 발명의 목적은 상기 문제를 극복하는 것이다. 그러므로, 본 발명은 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 비절연성 코팅을 포함하는 물품에 관한 것으로, 상기 물품은 비절연성 코팅의 상부에 다공성 코팅을 포함한다. 상기 다공성 코팅은 비다공성 코팅과 다르게, 예를 들면 코팅된 물품의 표면 저항율과 같은 전기 특성에 영향을 주지 않거나 거의 영향을 주지 않는다. 본 발명의 이점은, 예를 들면 광학, 기계적 및 습식 목적의 상부 층의 기능이 코팅된 장치의 전기 특성과 조합된다는 것이다.
일본 특허 제 2001-255403-A 호는 비절연성 코팅 및 마이크로입자를 포함하는 코팅을 포함하는 물품을 기재하고 있으며, 이때 마이크로-보이드(micro-void)가 형성된다. 그러나, 마이크로-보이드를 포함하는 코팅과 비절연성 층 사이에 경질 피막이 있기 때문에 마이크로-보이드를 포함하는 코팅은 비절연성 코팅의 상부에 존재하지 않는다. 따라서, 물품의 표면 저항율은 부정적인 영향을 받는다.
미국 특허 제 5,427,818 호는 제 1 흡습성 층 및 이 층의 상부에 제 2 다공성 상부 코팅을 포함하는 물품을 기술하고 있다. 제 1 흡습성 층은, 주위의 물이 다공성 상부 코팅을 통해 흡습성 층으로 확산된 후에만이 도전성을 갖게 된다. 도전층은 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하지 않으며, 따라서 보다 덜 적합하다. 코팅을 도전성으로 하기 위해 흡습성 코팅 중으로 물을 확산시키기 위한 제 2 코팅 이 다공성인 반면, 본 발명에서는 도전체 또는 반도전체 입자에 의해 다공성이 수득된다. 더욱이, 미국 특허 제 5,427,818 호에는, 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 도전성 코팅의 상부에 다공성 코팅을 사용하여 우수한 도전율을 유지하는 이점에 대해서는 시사된 바가 없다.
도 1은 본 발명에 따라 제조된, 실시예 1 및 2의 다공성 코팅에 대한 표면 저항율 및 비교 실험 A 및 B의 비다공성 코팅의 표면 저항율을 도시한 것이다.
도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 전기 비절연성 코팅
본 발명의 범위 내에서, 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 전기 비절연성 코팅은, 상부에 어떠한 코팅이 없이 비절연성 코팅의 표면 저항율이 1 입방당 1011Ω 미만, 바람직하게는 1010Ω 미만, 더욱 바람직하게는 109Ω 미만인 조건 하에서 임의 물질을 추가로 포함할 수 있다. 비절연성 코팅의 예는 금속 입자를 포함하는 코팅, 또는 금속 탄소 나노튜브를 포함하는 코팅이다(미국 특허 제 2003/0173545 호 참조). 안티몬 도핑된 주석 산화물(ATO) 또는 인듐 도핑된 주석 산화물(ITO)의 입자를 포함하는 비절연성 코팅이 바람직하다.
도전체 입자의 예는 Fe, Pb, Cu 및 Al의 금속 입자이다. 반도전체는 6eV 보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질이다. 반도전체 입자의 예는 상술된 입자뿐만 아니라, Si, Ge 등이다.
코팅은 당해 기술 분야의 숙련가에게 공지된 방식에 의해 증착될 수 있다. 이것에는 스퍼터링, 습식 코팅, 마이크로프린팅, 층 전사 등을 포함할 수 있다.
예를 들면, 디스플레이에 사용함에 있어서 대전방지성-반사방지성 또는 대전방지성-눈부심 방지성 물품으로서 코팅된 물품을 사용하는 경우, 당해 기술에 정통한 사람들은, 투명하거나 또는 약하게 빛을 흡수하는 비절연성 코팅의 필요성을 인식할 것이다.
다공성 코팅
코팅의 다공성 구조를 수득하는 한, 임의 물질 종을 다공성 코팅으로서 포함할 수 있다. 다공성 물질은 다공 상태에 있는 것이 아니라 동일한 조성을 갖는 물질보다 더욱 낮은 밀도를 갖는 것이다. 바람직하게는, 다공성 구조는 외부 세계와 열린 관계를 가져서 기체 또는 액체가 구멍에 침투할 수 있다. 이것은 예를 들면 중합성 매트릭스에 포획된 기체 버블 형상을 갖는 불연속 기포 셀과는 다르다. 바람직하게는, 코팅된 물품의 표면 저항율은 다공성 코팅의 존재에 의해 다공성 코팅을 포함하지 않는 물품의 표면 저항율과 비교하여 8배 이하로 증가되며, 바람직하게는 4배 이하로 증가되며, 가장 바람직하게는 2배 이하로 증가된다.
다공성 코팅이 작은 층 두께를 갖고, 높은 부피 분율의 구멍을 갖는다면, 표면 저항율의 증가는 비교적 작다.
바람직하게는, 다공성 코팅은 반사방지성을 갖는 코팅이다.
제 1 실시양태에서, 다공성 코팅의 제조용 코팅 조성물은 마이크로입자 또는 나노입자, 용매 및 추가적 성분을 포함하되, 추가 성분은 다공성 구조가 형성될 수 있을 정도로 충분히 작은 양이다. 표면 저항율이 더욱 작게 감소되는 것으로 이러한 구조의 형성을 명백히 알 수 있다. 나노입자를 포함하는 다공성 코팅을 사용하는 것이 가장 바람직하다. 입자는 성질에 있어서 유기 또는 무기일 수 있다. 바람직하게는, 무기 입자는, 이것이 경질 코팅을 형성할 수 있기 때문에 사용된다. 바람직한 실시양태에서, 마이크로입자 또는 나노입자는 이들 표면에 그래프트(graft)된 화학적으로 반응성인 기를 포함하는 화합물을 갖는다. 이러한 반응성 기는 자극시 화학 결합을 형성할 수 있다.
반응성 기를 포함하는 화합물은 그래프팅(grafting)을 위한 기를 통해 입자의 표면에 그래프트될 수 있다. 그래프팅을 위한 기의 예는 실레인 기, 싸이올 기, 아민 기 및 실레인 하이드라이드 기를 포함한다.
기판과 반응할 수 있고/있거나 가교결합된 상을 형성하도록 반응하여 입자를 포함하는 코팅을 형성할 수 있는 반응성 기가 사용될 수 있다. 예를 들면 균일 중합 반응에서 서로 반응할 수 있는 단일 종의 반응성 기를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 반응성 기의 예는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 기를 포함한다. 또 다른 가능성은, 기들의 혼합물, 예컨대 공중합 반응에서 반응할 수 있는 기들을 사용할 수 있다는 것이다. 이러한 기들의 예는 에폭사이드와 조합된 카복실산 및/또는 카복실산 무수물, 하이드록시 화합물, 특히 2-하이드록시알킬아마이드과 조합된 산, 아이소시아네이트, 예를 들면 블록된 아이소시아네이트, 유레트다이온 또는 카보다이이미드와 조합된 아민, 아민 또는 다이시안다이아마이드와 조합된 에폭사이드, 아이소시아네이트와 조합된 하이드라진아마이드, 아이소시아네이트, 예를 들면 블록된 아이소시아네이트, 유레트다이온 또는 카보다이이미드와 조합된 하이드록시 화합물, 무수물과 조합된 하이드록시 화합물, (에터화) 메틸올아마이드("아미노-수지")와 조합된 하이드록시 화합물, 아이소시아네이트와 조합된 싸이올, 아크릴레이트 또는 다른 바이닐 종(임의적으로 라디칼 개시화됨)와 조합된 싸이올, 아크릴레이트와 조합된 아세토아세테이트, 및 양이온 가교결합이 사용되는 경우 에폭시 또는 하이드록시 화합물과 조합된 에폭시 화합물을 포함한다. 2+2 광 사이클로 부가 반응 및 4+2 열 부가 반응과 같은 부가 반응이 또한 가능하다.
본 발명에 따른 물품의 다공성 코팅의 제조에 사용되는 코팅 조성물은 각종 형상의 입자를 포함할 수 있다. 제 1 실시양태에서, 입자는 구형이며, 더욱 바람직한 실시양태에서 입자는 비-구형이다. 마이크로 입자는 15 내지 0.5마이크론의 평균 최대 직경을 가질 수 있다. 나노 입자는 500 내지 5나노미터(nm)의 평균 최대 직경을 가질 수 있다. 바람직하게는, 입자의 평균 최대 직경은 10마이크론 미만, 바람직하게는 1마이크론 미만이다. 더욱 더 바람직하게는, 입자의 평균 최대 직경은 100nm 미만, 더욱 더 바람직하게는 50nm 미만이다.
구형 입자의 경우, 단지 하나의 직경만이 고려되고 최대 직경은 직경과 동일하다. 비-구형 입자(비제한적이지만, 예를 들면 막대, 소판)의 경우, 최대 직경은 입자를 가로질러 그려진 가장 큰 직선으로서 측정된다. 입자 직경을 측정하는 방법은 광학 현미경 검사, 주사 현미경 검사 및 원자력 현미경 검사(AFM)를 포함한다. 현미경적 방법이 사용되는 경우, 랜덤하게 선택된 100개의 입자들의 직경이 측정되어 평균으로 계산된다. 적당한 무기 입자의 보기는 SiO2, TiO2, ZnO2, TiO2, SnO2, In-SnO2, ZrO2, Sb-SnO2, 및 Al2O3를 포함하는 입자들이다.
반응성 희석제
더욱 바람직한 실시양태에서, 다공성 코팅의 제조를 위한 코팅 조성물은 하나 이상의 반응성 희석제를 포함하며, 이것은 망상 구조, 바람직하게는 입자에 의해 형성된 망상 구조로 중합될 수 있는 하나 이상의 기를 갖는 종으로서 정의된다. 반응성 희석제의 양이 다공성 구조를 유지하여 표면 저항율을 더욱 작게 감소시키는 정도로 낮은 한, 이러한 반응성 희석제가 사용될 수 있다. 반응성 희석제가 상기와 같은 양으로 사용되는 경우, 코팅은 일반적으로 개선된 기계적 특성을 보여 주지만, 표면 저항율에는 영향을 주지 않거나 거의 주지 않는다.
원칙적으로, 예를 들면 가교결합기를 갖는 단량체 또는 올리고머와 같은 다양한 물질이 반응성 희석제로서 사용되기 적당하다. 혼합물에는 그 자체가 가교결합하는 화합물, 예를 들면 상이한 아크릴레이트들을 포함할 수 있거나, 자체가 가교결합하지는 않지만, 가교결합 반응의 개시 후 또 다른 화합물과 조합하여 가교결합된 상을 형성하는 화합물, 예를 들면 전자 농후 및 전자 부족 이중 결합을 포함하는 공중합 시스템, 예컨대 말레에이트/바이닐 에터 공중합 시스템을 포함할 수 있다.
반응성 희석제로서 사용될 수 있는 가능한 화합물은 수분 경화성 아이소시아네이트, 알콕시 티타네이트, 알콕시 지르코네이트 또는 유레아-폼알데하이드, 유레아/멜라민-폼알데하이드, 멜라민-폼알데하이드, 또는 페놀-폼알데하이드(레졸, 노볼락 유형), 또는 라디칼 경화성(과산화물 개시 또는 광개시) 에틸렌성 불포화 일가 및 다가 단량체 및 중합체, (아크릴레이트, 메타크릴레이트, 말레에이트/바이닐 에터) 또는 스타이렌 및/또는 메타크릴레이트 중의 라디칼 경화성(과산화물 개시 또는 광개시) 불포화된, 예컨대 말레산 또는 퓨마르산 폴리에스터이다.
가교결합 방법 또는 중합 방법
원칙적으로, 다공성 코팅의 제조를 위한 조성물을 가교결합시켜 가교결합된 코팅을 형성하는 임의의 가교결합 방법이 본 발명에 따른 방법에 사용하기 적당하다. 가교결합을 개시하는데 적당한 방법은 예를 들어 전자 비임 방사선, 전자기 방사선(자외선, 가시광선 및 근적외선), 열적 방법 및 수분 경화성 화합물이 첨가되는 경우에는 수분 첨가에 의한 방법이다. 바람직한 실시양태에서, 가교결합은 자외선 방사선에 의해 달성된다. 이러한 자외선 가교결합은 자유 라디칼 기작을 통해 또는 양이온 기작에 의해 또는 이것들이 조합에 의해 일어날 수 있다. 또 다른 바람직한 실시양태에서, 가교결합은 열적으로 달성된다. 또한, 상이한 경화 방법의 조합이 가능하다.
개시제
가교결합 반응을 개시하기 위해 개시제가 혼합물 중에 존재할 수 있다. 개시제의 양은 넓은 범위 내에서 다양하다. 개시제의 적합한 양은 예를 들어 가교결합 반응 중에서 발생하는 화합물의 총 중량에 대해 0 초과 내지 5중량%이다.
가교결합을 개시하기 위해 자외선 가교결합이 사용되는 경우, 혼합물은 바람직하게는 하나 이상의 자외선 광 개시제를 포함한다. 광 개시제는 빛의 흡수시 가교결합 반응을 개시할 수 있다. 따라서, 자외선 광 개시제는 스펙트럼의 자외선 영역 의 빛을 흡수한다. 본 발명에 따른 공정에 임의의 공지된 자외선 광 개시제가 사용될 수 있다.
용매
원칙적으로, 마이크로입자 또는 나노입자를 포함하는 코팅 조성물에 다양한 용매가 사용될 수 있다. 바람직하게는, 용매는, 용매의 증발 후 우수한 품질의 코팅을 수득하도록 적당한 입자 현탁액을 형성하는 능력을 갖는다. 전형적으로, 입자는 현탁액의 형태로 혼합물에 첨가된다. 바라는 특성을 갖도록 조성물을 조정하기 위해 현탁액에 사용된 것과 동일한 용매가 사용될 수 있다. 그러나, 다른 용매가 또한 사용될 수 있다.
바람직하게는, 물품 상에 조성물을 도포한 후 사용된 용매는 증발한다. 본 발명에 따른 공정에서, 물품에 도포된 후, 임의적으로 조성물은 용매 증발의 도움 하에 진공에서 가열되거나 처리될 수 있다.
적당한 용매의 예는 1,4-다이옥산, 아세톤, 아세토나이트릴, 클로로폼, 클로로페놀, 사이클로헥세인, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 다이클로로메테인, 다이에틸 아세테이트, 다이에틸 케톤, 다이메틸 카보네이트, 다이메틸폼아마이드, 다이메틸설폭사이드, 에탄올, 에틸 아세테이트, m-크레졸, 모노- 및 다이-알킬 치환된 글라이콜, N,N-다이메틸아세트아마이드, p-클로로페놀, 1,2-프로페인다이올, 1- 펜탄올, 1-프로판올, 2-헥산온, 2-메톡시에탄올, 2-메틸-2-프로판올, 2-옥탄온, 2-프로판올, 3-펜탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 헥사플루오로아이소프로판올, 메탄올, 메틸 아세테이트, 메틸 아세토아세테이트, 메틸 에틸 케톤, 메틸 프로필 케톤, n-메틸피롤리돈-2, n-펜틸 아세테이트, 페놀, 테트라플루오로-n-프로판올, 테트라플루오로아이소프로판올, 테트라하이드로퓨란, 톨루엔, 자일렌 및 물이다. 아크릴레이트의 용해도가 고분자량의 알콜과는 문제가 될 수 있다고 할지라도, 알콜, 케톤 및 에스터계 용매가 사용될 수 있다. 할로겐화 용매(예, 다이클로로메테인 및 클로로폼) 및 탄화수소(예, 헥세인 및 사이클로헥세인)가 또한 적당할 수 있다. 바람직하게는, 메탄올, 메틸 에틸 케톤 또는 아이소프로판올이 사용된다.
접착 촉진제
바람직하게는, 다공성 코팅의 제조용 조성물은, 전기적으로 비절연성 코팅에 코팅의 접착성을 증가시키는 하나 이상의 화합물을 포함한다. 이러한 것으로서 예를 들면 무기 스퍼터링된 코팅 상에 아크릴레이트-함유 코팅을 사용하기 위한 실레인 아크릴레이트 화합물을 들 수 있다. 당해 기술 분야의 숙련가들은 우수한 접착력을 얻는데 필요한 바라는 기판 및 공정 단계에 대한 적당한 접착 촉진제를 선택할 수 있다.
또 다른 실시양태에서, 무기 망상 구조를 초래하는 종이 또한 다공성 코팅의 제조용 조성물에 사용될 수 있다. 이것의 예에는 알콕시 실레인 또는 하이드록시 실레인을 포함하지만, 이것으로 한정되지 않는다. 또한, 유기 및 무기 반응 종의 조합이 가능하다. 또한, 증기 증착에 의해 수득된 다공성 코팅을 사용하는 것이 가능하다.
코팅 두께
다공성 코팅은 임의 바라는 두께로 제조될 수 있다. 코팅은 50nm 내지 수십 마이크로미터의 두께 범위를 가질 수 있다. 코팅이 광 기능(예를 들면 반사방지층)을 갖는 경우, 두께는 바람직하게는 50 내지 150nm이다.
기판에의 다공성 코팅 배합물의 도포
코팅 조성물은 건조 및 습식 코팅 증착 기술에 공지된 공정 중 하나에 의해 하나의 단계 또는 다단계로 물품 상에 도포될 수 있다. 적당한 공정의 예로서 화학 또는 물리적 증기 증착, 스핀 코팅, 침지 코팅, 분무 코팅, 유동 코팅, 메니스커스 코팅, 모세관 코팅 및 롤 코팅을 들 수 있다. 물품은 완전히 코팅되거나 또는 부분적으로 코팅될 수 있다. 코팅의 부분적 가교결합 및 비가교결합된 부분의 제거는 예를 들면 포토리토그래피(이것으로 한정되지 않음)에 의해 가능하고, 그럼으로써 다공성 코팅이 수득된다.
코팅의 도포 및 경화 후, 예를 들면 열처리 또는 방사 처리와 같은 추가적인 공정 단계가 가능하다.
물품
본 발명에 따른 물품을 수득하기 위해 다양한 물품을 코팅할 수 있다. 적당한 물품은 예를 들면 평면 또는 곡선, 강성 또는 가요성 기판, 예컨대 폴리카보네이트, 폴리에스터, 폴리바이닐 아세테이트, 폴리바이닐 피롤리돈, 폴리바이닐 클로라이드, 폴리이미드, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리테트라플루오로 에틸렌, 나일론, 폴리노르보르넨의 필름, 또는 비정질 고체, 예컨대 유리 또는 결정질 물질, 예컨대 규소 또는 갈륨 아르세나이드이다.
본 발명에 따른 물품은 전자 디스플레이에 사용하기 위한 필름뿐만 아니라 렌즈, 인스투르먼트 패널용 커버 및 건축용 유리와 같은 비전자 광학 구성 성분을 포함한다. 전자 디스플레이에 사용하기 위한 필름이 바람직한데, 이러한 발명의 이점은 특히 본 출원에 기재되어 있다.
안티몬- 도핑된 주석 산화물( ATO ) 나노입자
네덜란드 아인트호벤 소재의 LWB b.v.로부터 안티몬-도핑된 주석 산화물 나노입자(구형)를 입수하였다. 이러한 입자들은 발명의 예시를 위해 사용되었다. 이들의 특성 및 현탁액의 특성은 하기 표 1에 기술되어 있다.
Figure 112007028138801-PCT00001
나노-실리카 입자
나노-실리카 입자 IPS-ST-UP(가늘고 긴 입자) 및 MT-ST(구형 입자)를 니싼 케미칼 아메리칸 코포레이션(Nissan Chemical American Corporation)으로부터 입수하였다. 이러한 입자들은 발명의 예시를 위해 사용되었다. 이들의 특성 및 현탁액의 특성은 하기 표 2에 기술되어 있다.
Figure 112007028138801-PCT00002
나노-실리카 입자의 그래프팅
아크릴레이트 기의 중합을 억제하는 화합물인 하이드로퀴논 모노-메틸 에터와 함께 아크릴레이트를 포함하는 트라이메톡시-실레인 화합물(화학식 I의 Int-12A)을 산화물 입자의 현탁액에 첨가함으로써 반응성 유기 기를 실리카 나노-산화물 입자에 그래프트시켰다.
Int-12A
Figure 112007028138801-PCT00003
표 3은 사용된 화학 물질의 정확한 양을 보여 준다. 교반 후, 촉매량의 물을 혼합물에 첨가하고, 혼합물을 3시간 이상 동안 80℃에서 환류시켰다. 이어서, 탈수제인 트라이메틸 오토폼에이트를 첨가하여 미량의 물을 제거하고, 결과의 혼합물을 1시간 이상 동안 60℃에서 교반시켰다.
Figure 112007028138801-PCT00004
기판 상의 코팅 또는 필름의 제조
하기 절차에 의해 폴리에틸렌테레프탈레이트(PE) 필름 상에 다양한 혼합물의 얇은 필름을 제조하였다:
2000r.p.m의 속도로 스핀-코팅함으로써 한 방울의 혼합물(혼합물에 대한 표 4, 5 및 6 참조)를 기판에 도포하였다. 약 35 내지 50중량%의 고체를 갖는 배합물로부터 더 두꺼운(1 내지 5㎛) 코팅을 롤 코팅하는 반면, 10중량% 미만의 고체를 함유한 혼합물로부터 얇은 필름(100 내지 300nm)을 스핀 코팅하였다. 형성된 습식 필름을, 공기 또는 질소 하의 D-벌브를 사용한 자외선 방사선을 상이한 농도로 사용하여 가교결합시켰다. 가교결합된 투명 필름의 두께를 샘플의 횡단면의 TEM 사진을 사용하여 측정하였다.
ATO 입자를 포함하는 배합물
하기 표 4에 주어진 성분들을 혼합함으로써 ATO 입자를 포함하는 비절연성 코팅의 제조를 위한 배합물을 제조하였다:
Figure 112007028138801-PCT00005
Figure 112007028138801-PCT00006
Figure 112007028138801-PCT00007
비절연성 코팅의 제조
제 1 단계에서, 표준 경질 피막을 약 3 내지 5㎛의 두께로 기판에 도포하고 공기 중에서 경화시켰다.
제 2 단계에서, 표 4의 배합물 1에 따른 코팅을 경질 피막의 상부에 100 내지 200nm의 두께로 전술된 바에 따라 스핀 코팅에 의해 도포하였다. 이어서, 상기 코팅을 총 2 x 1Jcm-2로 완전히 경화시켰다.
실시예 1
제 1 단계에서, 상기 "비절연성 코팅의 제조"에 기술된 바와 같이 비절연성 코팅을 제조하였다.
제 2 단계에서, 표 5의 배합물 2에 따른 나노-다공성 코팅을 비절연성 코팅의 상부에 100 내지 200nm 두께로 전술된 바에 따라 스핀 코팅에 의해 도포하였다. 이어서, 상기 코팅을 총 2 x 1Jcm-2로 완전히 경화시켰다.
실시예 2
제 1 단계에서, "비절연성 코팅의 제조"에 기술된 바와 같이 비절연성 코팅을 제조하였다.
제 2 단계에서, 표 5의 배합물 3에 따른 나노-다공성 코팅을 비절연성 코팅의 상부에 300 내지 500nm 두께로 전술된 바에 따라 스핀 코팅에 의해 도포하였다. 이어서, 상기 코팅을 총 2 x 1Jcm-2로 완전히 경화시켰다.
실험 A 및 B: 제 2 비다공성 코팅의 비교 실험
실험 A
제 1 단계에서, "비절연성 코팅의 제조"에 기술된 바와 같이 비절연성 코팅을 제조하였다.
제 2 단계에서, 표 6의 배합물 4에 따른 비다공성 코팅을 비절연성 코팅의 상부에 100 내지 200nm 두께로 전술된 바에 따라 스핀 코팅에 의해 도포하였다. 이어서, 상기 코팅을 총 2 x 1Jcm-2로 완전히 경화시켰다.
실험 B
제 1 단계에서, "비절연성 코팅의 제조"에 기술된 바와 같이 비절연성 코팅을 제조하였다.
제 2 단계에서, 표 6의 배합물 5에 따른 비다공성 코팅을 비절연성 코팅의 상부에 300 내지 500nm 두께로 전술된 바에 따라 스핀 코팅에 의해 도포하였다. 이어서, 상기 코팅을 총 2 x 1Jcm-2로 완전히 경화시켰다.
코팅의 전기 특성
전위계(케이트레이(Keithley) 617)이 결합된, 6105 저항 어댑터를 사용한 "동심 고리 프로브 전극(concentric ring probe electrode)" 방법(ASTM 257)으로 코팅의 표면 저항율을 측정하였다. 결과가 표 7 및 도 1에 기재되어 있다. 결과로 부터, 나노-다공성 코팅은 코팅된 물품의 표면 저항율에 영향을 주지 않거나 거의 주지 않는 반면, 비다공성 코팅은 표면 저항율을 약 10 배로 감소시킨다는 것을 분명히 알 수 있다.
Figure 112007028138801-PCT00008

Claims (10)

  1. 도전체 또는 반도전체 입자를 포함하는 비절연성 코팅을 포함하는 코팅된 물품으로서,
    다공성 코팅이 비절연성 코팅의 상부에 존재하는 것을 특징으로 하는 코팅된 물품.
  2. 제 1 항에 있어서,
    코팅된 물품의 표면 저항율이 다공성 코팅의 존재에 의하여 다공성 코팅을 포함하지 않는 물품의 표면 저항율에 비하여 8배 이하로 증가되는 코팅된 물품.
  3. 제 1 항에 있어서,
    코팅된 물품의 표면 저항율이 4배 이하로 증가되는 코팅된 물품.
  4. 제 1 항에 있어서,
    코팅된 물품의 표면 저항율이 2배 이하로 증가되는 코팅된 물품.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    다공성 코팅이 연속 다공성 구조를 갖는 코팅된 물품.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,
    다공성 코팅이 마이크로입자 또는 나노입자, 용매 및 추가적 성분을 포함하는 코팅 조성물로부터 제조되며, 추가적 성분은 다공성 구조가 형성되도록 충분히 낮은 양인 코팅된 물품.
  7. 제 6 항에 있어서,
    마이크로입자 또는 나노입자가 이들 표면 상에 그래프트된 화학적으로 반응성인 기를 포함하는 화합물을 갖는 코팅된 물품.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 있어서,
    다공성 코팅이 반사방지성을 갖는 코팅된 물품.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서,
    전자 디스플레이에 사용하기 위한 필름인 코팅된 물품.
  10. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 있어서,
    비전자 구성성분에 사용하기 위한 필름인 코팅된 물품.
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