JP4920290B2 - 2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−h−ピラン−4−オンの製造方法およびそれに用いる中間体 - Google Patents

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Description

本発明は、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法およびそれに用いる中間体に関する。
ジンサンシバンムシ(学名 Stegobium paniceum)は穀類、タバコ、菓子、漢方薬、食粉乾燥加工品を食害する害虫である。体長は2.5mm〜3mmの非常な小さな害虫であるため、発生の認識が遅れやすく、被害を予防または防除することが非常に困難な状況にある。そこで、この害虫を効果的に防除するためには害虫発生の確認と発生場所の特定が重要となる。発生の確認と場所を特定するために性フェロモン誘導体を用いた発生予察が行われている。適切に発生予察が行われることによって、害虫の発生を早期に発見でき、被害を最小限に抑えることが可能となる。
ジンサンシバンムシの誘引物質としては、ステゴビノンとステゴビオールが知られている。しかしながら、ステゴビノンは異性化しやすく、ステゴビオールは揮散しにくいという問題があった。ステゴビノンの製造方法としては特開昭59−112981号公報、ステゴビノールの製造方法としては特開昭61−221183号公報が知られている。
揮散性と安定性にすぐれた誘引物質として、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンが特開昭62−198674号公報に開示されている。その製造方法としては、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(2−メチル−1−オキソエチル)−4−H−ピラン−4−オンに対してヨウ化エチルトリフェニルホスホニウム塩とブチルリチウムを用いたWittig反応により、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを製造する方法(特開昭62−198674号公報)が知られている。
しかしながら、この方法はWittig反応でシストランスの制御が困難であるという問題点と副生成物の分離が困難であるという問題点を有する。
詳細には、従来の方法(特開昭62−198674号公報)では側鎖部分のシス:トランスの比率が90:10であり、誘引活性の強いトランス体はわずか10%しか含まれていなかった。従来の方法である2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(2−メチル−1−オキソエチル)−4−H−ピラン−4−オンから目的物の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを得る工程を種々検討したが、トランス体の比率を上げることは困難であった。
また、従来の方法(特開昭62−198674号公報)では、最終工程の原料にあたる2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(2−メチル−1−オキソエチル)−4−H−ピラン−4−オンと目的物の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの構造が似ていることと、反応で生じる副生成物の構造が目的物と類似していることから、目的物と不純物の分離が困難であった。
特開昭59−112981号公報 特開昭61−221183号公報 特開昭62−198674号公報
本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであり、本発明の目的は、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを、シストランスを制御し、かつ副生成物の分離を容易にすることにより、簡便かつ選択的に製造しうる方法を提供することにある。
本発明における課題を解決するための手段は、以下の通りである。
第一に、エチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートを出発物質とすることを特徴とする、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第二に、エチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートからエチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを製造する第一工程と、エチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートから(E)−2−メチル−3−ペンテン酸を製造する第二工程と、(E)−2−メチル−3−ペンテン酸から3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを製造する第三工程と、3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートから2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを製造する第四工程を具備することを特徴とする、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第三に、前記第一工程でエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートの二重結合を異性化することを特徴とする、上記第二に記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第四に、前記第二工程で加水分解することを特徴とする、上記第二または第三に記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第五に、前記第三工程で2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンでエステル化することを特徴とする、上記第二から第四の何れか一つに記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第六に、前記第四工程が環化反応であることを特徴とする、上記第二から第五の何れか一つに記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
第七に、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法において、中間体として製造されることを特徴とする、3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアート。
本発明の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法は図1に示すように、第一工程から第四工程からなる。以下、各工程について詳細に説明する。
第一工程においては、ブチルリチウムを用いて二重結合を異性化させる。この異性化ではトランス体を選択的に得ることができる。テトラヒドロフラン(以下、「THF」ということがある。)溶媒中、ジイソプロピルアミン((i−Pr)2NH)とブチルリチウム(n−BuLi)を混合し−10℃〜5℃の温度で撹拌する。撹拌時間は15分〜1時間である。ジイソプロピルアミンの使用量はエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートに対して1〜2当量の範囲である。ブチルリチウムの使用量はエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートに対して1〜1.5当量の範囲である。この反応溶液を−60℃〜−78℃の温度に冷却し、ヘキサメチルホスホルアミド(以下、「HMPA」ということがある。)を加えて撹拌する。撹拌時間は15分〜1時間である。HMPAの使用量はエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートに対して1〜10当量の範囲である。この反応溶液にエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートのTHF溶液を加え、撹拌する。撹拌時間は30分〜2時間である。反応終了後、希塩酸を加えて中和し、エーテルで抽出することにより(E)−2−メチル−3−ペンテノアートが得られる。
ここで使用した原料のエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートは市販されている(E)−2−メチル−2−ペンテン酸をエステル化することで容易に得ることができる。例えば、(E)−2−メチル−2−ペンテン酸をジメチルホルムアミド溶液中で炭酸カリウムとヨウ化エチルで処理することにより得られる。
第二工程においては、加水分解によりカルボン酸に変換する。エチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートをメタノールと水の混合溶液に溶解させる。メタノールと水の比率は1:1〜4:1の範囲である。この溶液を−5℃〜10℃の温度に冷却し、水酸化ナトリウムを加える。ここで、水酸化ナトリウムの代わりに、水酸化カリウム、水酸化バリウム等を用いることができる。また、水酸化ナトリウムの使用量はエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートに対して1〜2当量の範囲である。この反応液を室温で1〜4時間撹拌し反応を終了させる。反応終了後、水とヘキサンを加え、水層を分離する。この水層に希塩酸を加えて酸性にし、エーテルで抽出を行うことにより、(E)−2−メチル−3−ペンテン酸を得ることができる。
第三工程は(E)−2−メチル−3−ペンテン酸を2,6−ジクロロベンゾイルクロリドを用いて、酸無水物とした後に2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンと反応させることにより3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを得る。(E)−2−メチル−3−ペンテン酸をTHFに溶解させた溶液を−5℃〜10℃の温度に冷却する。この溶液にトリエチルアミン(Et3N)と2,6−ジクロロベンゾイルクロリド加える。トリエチルアミン、2,6−ジクロロベンゾイルクロリドの使用量は、(E)−2−メチル−3−ペンテン酸に対してそれぞれ1〜1.5当量の範囲である。この反応溶液をゆっくり室温まで昇温させる。撹拌時間は10〜20時間である。反応後の溶液をセライト濾過して得られる濾液を減圧濃縮し、得られた残渣にトルエンを加えて溶液とする。温度は−5℃〜10℃の温度に冷却する。この溶液に4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンを加えて2〜5時間撹拌する。4−ジメチルアミノピリジン、2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンの使用量は、(E)−2−メチル−3−ペンテン酸に対してそれぞれ1〜1.5当量の範囲である。反応溶液に希塩酸を加えて反応を終了させ、エーテルを用いて抽出すると、3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートが得られる。ここで使った2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンは文献(Bull. Chem. Soc. Jpn., 53, 174−178, 1980)などの方法で製造できる。
第四工程は、3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを四塩化チタン、ジイソプロピルエチルアミンを用いて環化し、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを得る。3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートのジクロロメタン溶液に、ジイソプロピルエチルアミンを加える。ジイソプロピルエチルアミンの使用量は3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートに対して5〜10当量である。この溶液をアセトン−ドライアイスバスを用いて約−80℃〜−76℃に冷却し、四塩化チタンのジクロロメタン溶液を加える。四塩化チタンの使用量は、(E)−2−メチル−3−ペンテノアートに対して4〜8当量である。この溶液を−80℃〜−76℃で2〜4時間撹拌し、その後、−22℃〜−18℃にゆっくり昇温して12−20時間撹拌する。塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を終了させ、エーテルで抽出することで2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンが得られる。抽出物は、例えば、洗浄、濃縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の操作により、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを単離、精製することができる。
第四工程では従来のWittig反応を使った製造方法と比べて精製が非常に容易となる。
本発明により2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを簡便にかつ選択的に製造することが可能となる。
より詳細には、本発明では第1工程で側鎖に相当する部分の中間体をトランス体95%以上という高い比率で得ることができ、その後の工程でも比率を維持したまま進行し、目的物のトランス体も95%以上で得ることができる。また、従来のWittig反応を使った製造方法と比べて精製が非常に容易となる。
以下に実施例を用いて、本発明を図1を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
(準備工程)
出発物質としてのエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノア−トの合成
5gの(E)2−メチル−2−ペンテン酸と50mlのジメチルホルムアミドとの溶液に、9.1gの炭酸カリウムと10.2gのヨウ化エチルとを室温で加えた。この溶液を室温で24時間撹拌後、水で希釈し、エ−テルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過して得られた濾液を減圧乾燥して、5.1gのエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノア−トを得た。
(第一工程)
50.5mlのジイソプロピルアミンと200mlのTHFとの溶液を0℃に冷却し、206mlのブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液)をゆっくり加えた。この溶液を30分間撹拌した後に、−60℃に冷却し、100mlのHMPAを加え、続いて42.6gのエチル=(E)−2−メチル−2−ペンテノアートと40mlのTHFとの溶液を加えた。この溶液を1時間撹拌した後に、希塩酸を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出し、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過して得られた濾液を減圧乾燥して、40.2gのエチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを得た。
(第二工程)
40.2gのエチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを300mlのメタノールと200mlの水との混合溶液に溶解させ、0℃で、12.0gの水酸化ナトリウムを加えた。この溶液を2時間、0℃で撹拌した後に、300mlの水と200mlのヘキサンとを加えた。有機層と水層を分離し、水層に濃塩酸を加えて酸性にした。水層をエーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過して得られた濾液を減圧乾燥して、17.7gの(E)−2−メチル−3−ペンテン酸を得た。
(第三工程)
17.7gの(E)−2−メチル−3−ペンテン酸と100mlのTHFとの溶液に0℃で、15.7gのトリエチルアミンと32.4gの2,6−ジクロロベンゾイルクロリドとを加えた。室温で20時間撹拌した後に、セライト濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣を100mlのトルエンに溶解させ、0℃で、18.9gの4−ジメチルアミノピリジンと18.5gの2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンと20mlのトルエンとの溶液を加えた。この溶液を0℃で3時間撹拌後、100mlの希塩酸を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出後、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過して得られた濾液を減圧乾燥して、20.9gの3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを得た。
(第四工程)
1.34gの3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル=(E)−2−メチル−3−ペンテノアートと150mlのジクロロメタンとの溶液に、6.10gのジイソプロピルエチルアミンを加えた。この溶液に−78℃で、3.23mlの四塩化チタンと10mlのジクロロメタンとの溶液を加えた。−78℃で3時間撹拌後、約−20℃までゆっくり昇温して15時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を終了させた。エーテルで抽出後、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、濾過して得られた濾液を減圧乾燥して、粗生成物を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で精製して、120mgの2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを得た。
実施例での選択性を示すデ−タは、以下の通りである。
GC分析:カラムTC−WAX
I.temp 100℃,
I.time 1min,
rate 3℃/min,
F.temp 190℃,
保持時間
27.1min(37.5%,トランス体),
27.4min(0.6%,シス体),
27.6min(61.3%,トランス体),
27.9min(0.6%,シス体)
2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−プテニル)−4−H−ピラン−4−オンの選択性はトランス体:シス体=98.8:1.2であった。
また、本発明では鎖状化合物を環化することで目的物を得ているので、構造の違いから分離が大幅に容易となった。従来の方法では精製に32時間程度要したが、本発明では8時間ほどで精製することができた。
本発明の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法を示す図である。

Claims (6)

  1. エチル(E)−2−メチル−2−ペンテノアートからエチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを製造する第一工程と、塩基性条件下でエチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアートから(E)−2−メチル−3−ペンテン酸を製造する第二工程と、塩基性条件下で(E)−2−メチル−3−ペンテン酸から3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアートを製造する第三工程と、塩基性条件下で3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアートから2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンを製造する第四工程を具備することを特徴とする、2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
  2. 前記第一工程でエチル(E)−2−メチル−2−ペンテノアートの二重結合を異性化することを特徴とする、請求項1に記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
  3. 前記第二工程での塩基の使用量がエチル(E)−2−メチル−2−ペンテノアートに対して1〜2当量であって、前記第二工程で塩基添加時の温度を−5℃〜10℃で加水分解することを特徴とする、請求項1または2に記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
  4. 前記第三工程での塩基の使用量が(E)−2−メチル−3−ペンテン酸に対して1〜1.5当量であって、前記第三工程で2−ヒドロキシ−3−メチル−ヘキサ−3−オンでエステル化することを特徴とする、請求項1から3の何れか一つに記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
  5. 前記第四工程での塩基の使用量が3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアートに対して5〜10当量であって、前記第四工程が環化反応であることを特徴とする、請求項1から4の何れか一つに記載の2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法。
  6. 2,3−ジヒドロ−2,3,5−トリメチル−6−(1−メチル−2−ブテニル)−4−H−ピラン−4−オンの製造方法において、塩基性条件下で中間体として製造されることを特徴とする、3−オキソ−1,2−ジメチルペンチル(E)−2−メチル−3−ペンテノアート。

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