JP4918120B2 - 四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 - Google Patents
四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4918120B2 JP4918120B2 JP2009177898A JP2009177898A JP4918120B2 JP 4918120 B2 JP4918120 B2 JP 4918120B2 JP 2009177898 A JP2009177898 A JP 2009177898A JP 2009177898 A JP2009177898 A JP 2009177898A JP 4918120 B2 JP4918120 B2 JP 4918120B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium tetrachloride
- fluidized bed
- furnace
- chlorination furnace
- chlorination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 title claims description 108
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 title claims description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 42
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 20
- 239000000571 coke Substances 0.000 claims description 12
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N titanium zirconium Chemical compound [Ti].[Zr] PMTRSEDNJGMXLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
TiO2+C+2Cl2→TiCl4+CO2 ・・・(1)
C+CO2→2CO ・・・(2)
本願発明の実施態様の説明に先立ってまずは本願発明に用いる四塩化チタンの製造装置について以下に説明する。本願発明に用いる四塩化チタンの製造装置Mは、外部が鉄皮で、その内部は耐火物17から構成されている塩化炉11である。耐火物17の内張りを設けることで、その外部に構成した鉄皮を高温の塩素ガスから効果的に保護することができるという効果を奏するものである。
図1に示した塩化炉に供給する塩素ガスを種々変更して、塩化炉11内の流動層12の温度および塩化炉出口温度を塩素ガス流量の関係として整理し、結果を表1に示した。
1)試験条件
四塩化チタン生産量:4000t/月
四塩化チタン滴下量:10〜20リッター(L)/分
2)結果
表1に示すように、流動層温度は、四塩化チタンを液柱状に滴下することにより効果的に冷却することができるという効果が確認された。しかしながら、炉頂ガス温度が目標レベルまで冷却されていない。
実施例1において、四塩化チタン供給ノズルの内径に対する長さの比を種々変更して、下記の条件にて試験を行い、流動層温度に及ばす影響を確認した。また、その結果を下記表2に示した。
1)試験条件
四塩化チタン生産量:4000t/月
四塩化チタン滴下量:15リッター(L)/分
2)試験結果
前記四塩化チタンノズルの内径(D)に対する全長(L)の比(L/D)を8〜35まで変更して前記塩化炉底部に形成されている流動層温度に及ぼす影響を調査した。その結果、前記L/Dの比が10〜30においては流動層温度を適切な範囲に維持されることが確認された。しかしながら、前記L/Dの比が10未満の値である8では、流動層温度が好ましい温度範囲を越えて目論見通りの温度範囲まで冷却することができなかった。
実施例1において、流動層への四塩化チタンの滴下に加えて、塩化炉の炉頂部への四塩化チタンの噴霧も併せて行い、その時の結果を表3に示した。流動層への四塩化チタンの滴下に加えて、塩化炉の炉頂に四塩化チタンを噴霧することで炉頂ガス温度も効果的に冷却されていることが分かった。
実施例1において、流動層温度が、1110℃から1100℃まで低下した結果、塩化炉内のCO2/CO比は2.3から2.8まで向上した。その結果、コークス原単位は2.5%改善された。
Claims (5)
- チタン鉱石の塩素化反応により四塩化チタンを製造する塩化炉における温度制御方法であって、
上記塩化炉内に保持されたチタン鉱石およびコークスに対して上記塩化炉底部から塩素ガスを供給してこれらの流動層を形成し、
上記塩化炉頂部から上記流動層に対して液体四塩化チタンを供給し、
上記液体四塩化チタンは、上記塩化炉頂部から上記流動層まで連続した液柱状であることを特徴とする塩化炉の温度制御方法。 - 前記塩化炉内の炉頂空間部に液体四塩化チタンを噴霧することを特徴とする請求項1に記載の塩化炉の温度制御方法。
- 前記流動層内の温度を1000℃〜1200℃の範囲に制御することを特徴とする請求項1または2に記載の塩化炉の温度制御方法。
- 前記塩化炉の炉頂部出口温度を700℃〜900℃の範囲に制御することを特徴とする請求項3に記載の塩化炉の温度制御方法。
- 前記流動層または塩化炉の炉頂空間部の冷却剤として用いる液体四塩化チタンは、精製四塩化チタンまたは四塩化チタンスラリーであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の塩化炉の温度制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009177898A JP4918120B2 (ja) | 2008-08-27 | 2009-07-30 | 四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008217772 | 2008-08-27 | ||
JP2008217772 | 2008-08-27 | ||
JP2009177898A JP4918120B2 (ja) | 2008-08-27 | 2009-07-30 | 四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010077014A JP2010077014A (ja) | 2010-04-08 |
JP4918120B2 true JP4918120B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=42207890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009177898A Active JP4918120B2 (ja) | 2008-08-27 | 2009-07-30 | 四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4918120B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106082315A (zh) * | 2016-06-06 | 2016-11-09 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 双反应室低温沸腾氯化炉 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103112887B (zh) * | 2013-03-15 | 2014-06-25 | 金川集团股份有限公司 | 一种沸腾氯化炉炉内状况观察装置 |
CN103818951B (zh) * | 2014-02-27 | 2015-04-08 | 重庆大学 | 适应细粒级富钛料的沸腾氯化炉 |
KR102508137B1 (ko) | 2018-06-28 | 2023-03-09 | 어센드 퍼포먼스 머티리얼즈 오퍼레이션즈 엘엘씨 | 유동층 반응기에 실리카 입자를 사용하는 방법 및 시스템 |
CN108793237B (zh) * | 2018-07-20 | 2020-03-27 | 东华工程科技股份有限公司 | 一种高温四氯化钛含尘气体的处理系统及方法 |
CN109761270A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-17 | 攀枝花攀钢集团设计研究院有限公司 | 用于低温氯化制取四氯化钛的一次反应炉 |
CN111961771A (zh) * | 2020-08-25 | 2020-11-20 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 含钛高炉渣氯化装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51116198A (en) * | 1975-04-04 | 1976-10-13 | Nippon Mining Co Ltd | Method for production of titanium tetrachloride |
DE3629973A1 (de) * | 1986-09-03 | 1988-03-17 | Bayer Ag | Vorrichtung und verfahren zur herstellung von titantetrachlorid |
JP3995557B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2007-10-24 | 東邦チタニウム株式会社 | 四塩化チタンの製造方法 |
-
2009
- 2009-07-30 JP JP2009177898A patent/JP4918120B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106082315A (zh) * | 2016-06-06 | 2016-11-09 | 攀钢集团攀枝花钢铁研究院有限公司 | 双反应室低温沸腾氯化炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010077014A (ja) | 2010-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4918120B2 (ja) | 四塩化チタンの製造における塩化炉の温度制御方法 | |
WO2011078225A1 (ja) | ポリシリコンの製造方法および四塩化ケイ素の製造方法 | |
TW201242896A (en) | Production of polycrystalline silicon in substantially closed-loop processes that involve disproportionation operations | |
JP6037047B2 (ja) | 卜リクロロシラン製造方法 | |
JP2004002138A (ja) | シリコンの製造方法 | |
JPH06340423A (ja) | 酸化チタンの製造方法 | |
US20080075654A1 (en) | Titanium dioxide process | |
US2868622A (en) | Chlorination of titaniferous materials | |
US20100233062A1 (en) | Apparatus and method for producing trichlorosilane | |
JP5683701B2 (ja) | トリクロロシランの製造法及びトリクロロシランの製造用のケイ素 | |
JP2004075419A (ja) | 四塩化チタンの製造装置 | |
RU2593061C1 (ru) | Способ получения ультрадисперсных порошков титана | |
JP2009227517A (ja) | 三塩化ホウ素の製造方法 | |
US3944647A (en) | Recovering chlorine from the chlorination of titaniferous material | |
KR101525859B1 (ko) | 고순도 실리콘 미세분말의 제조 장치 | |
KR102622441B1 (ko) | 황의 사용량에 따른 황화카보닐(cos)의 신규 합성방법 | |
TWI648219B (zh) | 在氫氯矽烷的生產中減少腐蝕與積垢 | |
KR102609195B1 (ko) | 황화카보닐(cos)의 신규 합성방법 | |
JP2009046337A (ja) | TiCl4の製造方法および装置 | |
KR20160102807A (ko) | 금속 실리콘 입자 분산액 및 이를 이용한 클로로실란의 제조방법 | |
US2920952A (en) | Process for producing a refractory metal subhalide-alkalinous metal halide salt composition | |
CN109534395A (zh) | 一种利用硅酸锆生产四氯化锆的方法 | |
KR102622440B1 (ko) | 황화카보닐(cos)의 합성방법 | |
CN109607609A (zh) | 一种利用氧化锆生产四氯化锆的方法 | |
EP4180395A1 (en) | Process for the production of silicon tetrachloride |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111017 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20111216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120127 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150203 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4918120 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150203 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |