JP4915303B2 - 光導波路の製造方法及び光モジュールの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る光モジュールを示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A線の断面図である。
光モジュール100は、基板1と、基板1上に実装された受光素子2と、受光素子2に隣接させて基板1上に実装された発光素子3と、基板1上の端部寄りに搭載されたサブマウント4と、受光素子2の受光面及び発光素子3の発光面上からサブマウント4の上面を経由するように配設された光導波路5と、受光素子2及び発光素子3と基板1上の電極パッド(図示を省略)とを接続する複数のボンディングワイヤ6と、受光素子2、発光素子3及び光導波路5の一端の各露出面を封止する封止部7とを備えている。
受光素子2は、例えば、面型のフォトダイオード等の面型光素子を用いることができ、一例として、本実施の形態では、高速応答性に優れたGaAs系のPINフォトダイオードを用いている。この受光素子2は、例えば、GaAs基板上に、PIN接合されたP層、I層およびN層と、P層に接続されたp側電極と、N層に形成されたn側電極とを積層した層構造を有している。
発光素子3は、面型発光ダイオードや面型レーザ等の面型光素子を用いることができ、一例として、本実施の形態では、VCSEL(面発光レーザ)を用いている。このVCSELは、例えば、裏面にn側電極を有するn型GaAs基板上に、n型下部反射鏡層、活性層、電流狭窄層、p型上部反射鏡層、p型コンタクト層、p側電極30(n側電極は反対側の面に設けられている)を積層した層構造の発光部3aを備えている。
サブマウント4は、例えば、Si等の結晶基板、石英ガラス等のガラス基板からなる。
光導波路5は、例えば、50×50μmの矩形状断面を有したコア51a,51bと、コア51a,51bの周囲に設けられ、コア51a,51bよりも屈折率が小さいクラッド52とから構成され、その一端(発光素子2及び受光素子3側の端部)は45°にカットして光路変換面となる傾斜面53が形成されている。この傾斜面53は、所定位置に金属薄膜による反射膜(導電膜)5a,5bが設けられている。
まず、コア51A,51bに対応する凸部が形成された原盤を、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて作製する。次に、原盤の凸部が形成された面に、例えば、500〜7000mPa・s程度の粘度で、紫外領域や可視領域において光透過性を有する硬化性樹脂、例えば、分子中にメチルシロキサン基、エチルシロキサン基、フェニルシロキサン基を含む硬化性オルガノポリシロキサンの層を塗布等により設け、その後、硬化させて硬化層を構成する。次に、硬化層を原盤から剥離し、凸部に対応する凹部を有した鋳型を作製する。
封止部7は、紫外線による劣化が生じにくく硬化性を有する樹脂、例えば、エポキシやシリコン等からなる樹脂を用いることができる。
次に、光モジュール100の組立方法について図1を参照して説明する。
次に、光モジュール100の動作を説明する。基板1上の電極パッド11cと図示しないn側電極用のパターンまたは電極パッドとの間に所定の電流を通電させると、発光部3aは、例えば波長850nmのレーザ光を発光し、そのレーザ光は、光導波路5の反射膜5bに入射し、この反射膜5bによって図1の(b)の右側の水平方向へ反射した後、光導波路5のコア51b内を伝播し、端面5cから出射する。光導波路5の端面5cから出射したレーザ光は、図示しない光ファイバのコアに入射し、該コア内を伝播し、光ファイバ等へ出射される。
図3は、発光素子と受光素子が1mmの間隔で配置された光モジュールの反射膜の構成とBER(Bit Error Rate:ビットエラーレート)の関係を示す特性図である。図中、特性aは、本実施の形態における特性、特性bは、反射膜5a,5bが連結され且つ封止部7が無い場合の特性、特性cは、反射膜5a,5bが連結されると共に封止部7を有する場合の特性である。
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る光導波路を示す平面図である。同図中、(a)は、光導波路5の反射膜5a,5bがコア51a,51bの光路変換面と略同一な大きさを有する。同図中、(b)は、コア51a,51bの光路変換面の配列方向に沿って光路変換面を含むように帯状に設けられ、反射膜5aと反射膜5bとの間に隙間5dを設けて分離したものである。この場合は、マスクやレジストなどにより所定部分のみ着膜する方法を用いる。
図5は、本発明の第3の実施の形態に係る光導波路を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線の断面図である。
図6は、本発明の第4の実施の形態に係る光モジュールを示し、(a)は平面図、(b)は(a)のC−C線の断面図である。
図7は、本発明の第5の実施の形態に係る光モジュールを示す平面図である。
図8は、本発明の第6の実施の形態に係る光導波路を示す平面図である。
なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、その要旨を変更しない範囲内で種々な変形が可能である。例えば、各実施の形態間の構成要素の組合せは任意に行うことができる。例えば、受光素子2及び受光素子3は各1つであるとしたが、共に複数が並設されていてもよい。
2 受光素子
2a 受光部
3 発光素子
3a 発光部
4 サブマウント
5 光導波路
5a,5b 反射膜
5c 端面
5d 隙間
5e 除去部
6,8 ボンディングワイヤ
7 封止部
10 導電性物質
11a〜11c 電極パッド
12A,12B グランド用電極パッド
13A,13B グランドパターン
20 p側電極
21 n側電極
22 配線パターン
23,32 電極パッド
30 p側電極
31 配線パターン
51a,51b コア
52 クラッド
53 傾斜面
54 除去部
55 グランド領域
100 光モジュール
200 ダイシングブレード
Claims (8)
- 複数の光伝送路と、
前記複数の光伝送路のそれぞれの端部に設けられた複数の光路変換面と、
前記複数の光路変換面の表面に電気的に分離して設けられた複数の導電膜と、
を備えた1つの光導波路の製造方法であって、
前記複数の導電膜は、連結した状態の前記複数の光路変換面の表面に連結した状態で設けられた後、相互間が前記複数の光路変換面の相互間と共にダイシングブレードで除去され、又は打ち抜きにより除去されることにより形成されることを特徴とする光導波路の製造方法。 - 前記複数の導電膜は、前記光路変換面にのみ設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路の製造方法。
- 前記複数の光路変換面は、一列に配列され、
前記複数の導電膜は、前記複数の光路変換面の配列方向に沿って前記光路変換面を含むように帯状に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路の製造方法。 - 前記複数の導電膜は、前記複数の光伝送路に対して45°の角度を有する傾斜面であり、前記傾斜面はその先端の所定部分が切断されていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路の製造方法。
- 少なくとも一つの発光素子と、
少なくとも一つの受光素子と、
前記発光素子及び前記受光素子が実装される基板と、
前記発光素子の発光面及び前記受光素子の受光面ごとに独立に設けられた複数の光路変換面、及び前記複数の光路変換面に光結合された複数の光伝送路を有する1つの光導波路と、
前記複数の光路変換面の表面に電気的に分離して設けられた複数の導電膜と、
を備えた光モジュールの製造方法であって、
前記複数の導電膜は、連結した状態の前記複数の光路変換面の表面に連結した状態で設けられた後、相互間が前記複数の光路変換面の相互間と共にダイシングブレードで除去され、又は打ち抜きにより除去されることにより形成されることを特徴とする光モジュールの製造方法。 - 前記光導波路は、前記導電膜の一部を用い、または前記導電膜から上面に延伸させて設けたグランド領域を有し、
前記基板は、グランド用電極パッドを有し、
前記グランド領域と前記グランド用電極パッドが、電気的に接続されていることを特徴とする請求項5に記載の光モジュールの製造方法。 - 前記光導波路は、前記導電膜から上面に延伸させて設けたグランド領域を有し、
前記基板は、グランドパターンを有し、
前記グランド領域とグランドパターンが、導電性物質で接続されていることを特徴とする請求項5に記載の光モジュールの製造方法。 - 前記複数の導電膜、前記発光素子及び前記受光素子は、それぞれの露出部分が樹脂封止されていることを特徴とする請求項5に記載の光モジュールの製造方法。
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