JP4912815B2 - ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 - Google Patents
ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4912815B2 JP4912815B2 JP2006270856A JP2006270856A JP4912815B2 JP 4912815 B2 JP4912815 B2 JP 4912815B2 JP 2006270856 A JP2006270856 A JP 2006270856A JP 2006270856 A JP2006270856 A JP 2006270856A JP 4912815 B2 JP4912815 B2 JP 4912815B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- base
- opening
- air suction
- wafer holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Description
Claims (8)
- 倒立型顕微鏡によってウェハを観察する際に前記ウェハを支持するウェハ支持装置であって、
前記倒立型顕微鏡の対物レンズが臨む第1の開口が設けられたベースと、
光透過部材が嵌められた第2の開口が設けられ、前記光透過部材と前記ウェハとが面接触するように前記ウェハを保持するウェハホルダと、
前記第1の開口と前記第2の開口とが重なった状態で、前記ベースと前記光透過部材とが面接触するように前記ベースに対して前記ウェハホルダを固定する固定手段と、を備え、
前記第1の開口は、前記第2の開口より狭いことを特徴とするウェハ支持装置。 - 前記固定手段は、前記ベースに設けられた複数のエア吸引口を有することを特徴とする請求項1記載のウェハ支持装置。
- 前記エア吸引口は、前記第1の開口を包囲するように設けられていることを特徴とする請求項2記載のウェハ支持装置。
- 前記エア吸引口によるエアの吸引は、個別に制御されることを特徴とする請求項2又は3記載のウェハ支持装置。
- 前記ベースには、複数のエア噴射口が設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載のウェハ支持装置。
- 前記ベースに対して前記ウェハホルダを移動させる移動手段を備え、
前記ウェハホルダは、前記移動手段に片持支持されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載のウェハ支持装置。 - 前記ウェハホルダは、前記第2の開口が形成されたウェハホルダ本体を有し、
前記光透過部材の前記ベース側の面は、前記ウェハホルダ本体の前記ベース側の面と略同一の平面上、又は前記ウェハホルダ本体の前記ベース側の面から前記ベース側に片寄った平面上に位置していることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項記載のウェハ支持装置。 - ウェハを観察するための倒立型顕微鏡と、
前記倒立型顕微鏡の対物レンズが臨む第1の開口が設けられたベースと、
光透過部材が嵌められた第2の開口が設けられ、前記光透過部材と前記ウェハとが面接触するように前記ウェハを保持するウェハホルダと、
前記第1の開口と前記第2の開口とが重なった状態で、前記ベースと前記光透過部材とが面接触するように前記ベースに対して前記ウェハホルダを固定する固定手段と、を備え、
前記第1の開口は、前記第2の開口より狭いことを特徴とするウェハ観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006270856A JP4912815B2 (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006270856A JP4912815B2 (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008091626A JP2008091626A (ja) | 2008-04-17 |
JP4912815B2 true JP4912815B2 (ja) | 2012-04-11 |
Family
ID=39375480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006270856A Active JP4912815B2 (ja) | 2006-10-02 | 2006-10-02 | ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4912815B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103267938B (zh) * | 2013-05-17 | 2016-03-30 | 嘉兴景焱智能装备技术有限公司 | Cis晶圆成测机 |
JP6785699B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2020-11-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム及び制御装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09236640A (ja) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Jeol Ltd | レーザ顕微鏡 |
JP2001318318A (ja) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Tokai Hit:Kk | 顕微鏡用の検体温度管理器 |
JP3602465B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2004-12-15 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、半導体装置の評価解析方法及び半導体装置の加工装置 |
JP2006023625A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 顕微鏡用ステージ及びこれを備える顕微鏡 |
JP2006293223A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Olympus Corp | ステージ傾き調整装置及び顕微鏡ステージ |
-
2006
- 2006-10-02 JP JP2006270856A patent/JP4912815B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008091626A (ja) | 2008-04-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5877005B2 (ja) | 基板処理装置、基板保持装置、および、基板保持方法 | |
JP4121735B2 (ja) | ポリシリコン膜評価装置 | |
JP4495086B2 (ja) | 固浸レンズホルダ | |
JP2008506143A (ja) | 液浸対物レンズを有した微細要素の検査用装置 | |
US20090316143A1 (en) | Visual inspection apparatus, visual inspection method, and peripheral edge inspection unit that can be mounted on visual inspection apparatus. | |
TWI527138B (zh) | An adsorber, a semiconductor element observation device, and a semiconductor element observation method | |
KR102611919B1 (ko) | 기판 접합 장치, 산출 장치, 기판 접합 방법 및 산출 방법 | |
KR20080033227A (ko) | 캐리어 형상 측정기 | |
JP2008070237A (ja) | 基板検査装置 | |
JP4912815B2 (ja) | ウェハ支持装置及びウェハ観察装置 | |
JP2007278715A (ja) | 基板検査装置 | |
JP2008175548A (ja) | 外観検査装置および外観検査方法 | |
KR20090012105A (ko) | 레이저 전사 장치 | |
JP3919022B2 (ja) | 露光方法及びマスクの保持方法 | |
US7282930B2 (en) | Device for testing thin elements | |
JPH11295901A (ja) | 露光装置 | |
JP2004045039A (ja) | 検査装置 | |
JP2010261915A (ja) | 基板検査装置 | |
JP4098598B2 (ja) | ウェハ搬送装置の教示用装置 | |
JPH10115786A (ja) | 手動ステージを有する顕微鏡 | |
JP2015041749A (ja) | 透明基板の保持装置 | |
JP2007328009A (ja) | 露光装置 | |
KR100639119B1 (ko) | 평판디스플레이용 유리기판 검사 장치 | |
KR20090030806A (ko) | 기판검사장치 및 기판검사방법. | |
JP2011179993A (ja) | 検査装置、及び検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090924 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110426 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4912815 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |