JP2007328009A - 露光装置 - Google Patents

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秀昭 小柳
Yasutaka Kiryu
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Abstract

【課題】マスクや基板の動作を妨げることを抑制しつつ、高精度な位置決めを行える露光装置を提供する。
【解決手段】アライメント検出装置200が、基板ステージ114に搭載されているので、マスクMや基板Wの移動を妨げることが抑制される。又、レーザ光源202からの光束をマスクマークMMに向かって反射させると共に、マスクマークMMから反射した光束を透過するハーフミラー203を設けているので、レーザ光源202からの光束が同じマークを2度通過することがなく、画像の検出上好ましい。
【選択図】図2

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを分割逐次露光方式で近接(プロキシミティ)露光転写するのに好適な露光装置に関する。
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。
ところで、近年開発されたTFT液晶パネルなどにおいては、複数の基板を重ね合わせることで形成されるため、マスクのパターンを基板に露光する際に、その位置決めを精度良く行うことが重要な課題となっている。ここで、マスクと基板との位置決めを高精度に行うために、マスクのアライメントマークと、基板のアライメントマークとの位置ズレを、カメラを用いて観察する技術が知られている(特許文献1参照)。
特開平10−186682号公報
しかしながら、特許文献1の技術によれば、本体フレームに搭載したカメラを、基板ホルダの下方(露光用光源と反対側)に設けているので、基板ホルダをX、Y、Z方向に駆動する際に邪魔になるという問題がある。これを回避するために、カメラを、マスクの露光用光源側に固定して設けようとしても、マスクの移動を阻害しないように、また露光用光を遮蔽しないように、その設置スペースが制限されるという問題がある。
そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、マスクや基板の動作を妨げることを抑制しつつ、高精度な位置決めを行える露光装置を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するために、本発明の露光装置は、マスクマークとパターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記基板保持部は、アライメント検出装置を搭載しており、
前記アライメント検出装置は、
アライメント用光源と、前記アライメント用光源から出射された光束を前記マスクのマスクマークに向かって出射する光学系と、前記マスクマークからの反射光が通過する基準マークと、前記基準マークを通過した光束を受光する画像センサとを有することを特徴とする。
本発明によれば、前記アライメント検出装置が、前記基板保持部に搭載されているので、露光用光を遮ったりマスクや基板の移動を妨げることが抑制される。又、前記アライメント検出装置が、アライメント用光源と、前記アライメント用光源から出射された光束を前記マスクのマスクマークに向かって出射する光学系と、前記マスクマークからの反射光が通過する基準マークと、前記基準マークを通過した光束を受光する画像センサとを有するので、マーク同士を重ねた画像を画像センサで検出でき、精度の良い位置決めを行うことができる。
前記光学系は、前記アライメント用光源からの光束を前記マスクマークに向かって反射させると共に、前記マスクマークから反射した光束を透過するハーフミラーを有すると、光源からの光束が同じマークを2度通過することがなく、画像の検出上好ましい。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本実施の形態にかかる露光装置の側面図である。図1において、本実施形態に係る露光装置100は、ベース112、基板ステージ114及びマスクステージ122を備えている。基板ステージ(基板保持部)114はベース112の上方に設けられており、ベース112と基板ステージ114との間には、基板ステージ114を上下方向に昇降駆動する基板ステージ昇降機構116、基板ステージ昇降機構116を介して基板ステージ114を揺動駆動する基板ステージチルト機構118、基板ステージチルト機構118及び基板ステージ昇降機構116を介して基板ステージ114を図中X軸方向とY軸方向(紙面に対して垂直な方向)に送り駆動する基板ステージ送り機構120が設けられている。基板保持部である基板ステージ114の交差する側面には、アライメント検出装置200が2つ(1つのみ図示)取り付けられている。
マスクステージ122はベース112の上面に立設された複数本の支柱124により基板ステージ114の上方に支持されており、マスクステージ122の下面には、プレート状のマスクホルダ(マスク保持部)126が水平レベル調整用の支持部128、130を介して取り付けられている。また、マスクステージ122は矩形状の開口窓122aを中央部に有しており、図示しない光源装置から出射され、マスクホルダ126に吸着保持されたマスクMに対して、その上方から上記開口窓122aを通して照射されるようになっている。
マスクホルダ126は、マスクステージ122の開口窓122aを通過した光をマスクMに当てるための開口窓126aを有している。この開口窓126aはマスクホルダ126の中央部に形成されており、マスクホルダ126の下面にはマスク吸着用の複数の吸引ノズル(図示せず)が開設されている。
図2は、図1の構成の矢印IIで示す部位を拡大して示す図である。以下、1つのアライメント検出装置についてのみ説明するが、もう一つのアライメント検出装置も同様な構成を有する。
図2において、アライメント検出装置200は、基板ステージ114に取り付けられたハウジング201内に配置された、レーザ光源(アライメント用光源)202と、ハーフミラー203と、レンズ204,205と、十字形の基準マークSMを形成した透過板206と、CCD等の画像センサ207とを含む。ハーフミラー203と、レンズ204,205により光学系を構成する。なお、マスクMの下面には、十字形のマスクマークMMが2つ形成されているものとする。マスクマークMMは、その画像が画像センサ207に結像されたとき、基準マークSMの画像と異なる大きさであると好ましい。
マスクMの原点の位置決めを行う場合について説明する。図2において、レーザ光源202から出射された光束は、ハーフミラー203で反射されて、レンズ204により、マスクMの下面に向かって集光される。その反射光は、レンズ204とハーフミラー203を通過した後、透過板206の基準マークSMを通過して、レンズ205により画像センサ207の受光面に結像される。
ここで、画像センサ207の出力信号に基づいてモニタ(不図示)に表示した画像を図3に示す。図3(a)に示すように、基準マークSMとマスクマークMMとがずれていた場合、基板ステージ114を移動させて、図3(b)に示すように、基準マークSMとマスクマークMMとが一致する状態とする。これは作業者が行っても、画像処理により自動的に行っても良い。2つのアライメント検出装置の基準マークSMと、2つのマスクマークMMとが一致した位置を、基板ステージ114の原点と認識すれば、かかる原点に基づいて、一枚の基板に対して、マスクMによる複数回のパターンを位置を変えながら精度良く露光することができる。
本実施の形態によれば、アライメント検出装置200が、基板ステージ114に搭載されているので、マスクMや基板Wの移動を妨げることが抑制される。又、レーザ光源202からの光束をマスクマークMMに向かって反射させると共に、マスクマークMMから反射した光束を透過するハーフミラー203を設けているので、レーザ光源202からの光束が同じマークを2度通過することがなく、画像の検出上好ましい。
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。例えば、ハーフミラー203の代わりに、レンズ205と画像センサ207との間にハーフミラーを向け、ここに向かってレーザ光源からの光束を称はするようにしても良い。
本実施の形態にかかる露光装置の側面図である。 図1の構成の矢印IIで示す部位を拡大して示す図である。 基準マークとマスクマークの関係を示す図である。
符号の説明
100 露光装置
112 ベース
114 基板ステージ
116 基板ステージ昇降機構
118 基板ステージチルト機構
120 基板ステージ送り機構
122 マスクステージ
122a 上記開口窓
122a 開口窓
124 支柱
126 マスクホルダ
126a 開口窓
128 支持部
200 アライメント検出装置
201 ハウジング
202 レーザ光源
203 ハーフミラー
204,205 レンズ
206 透過板
207 画像センサ
M マスク
MM マスクマーク
SM 基準マーク
W 基板

Claims (2)

  1. マスクマークとパターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、
    前記基板保持部は、アライメント検出装置を搭載しており、
    前記アライメント検出装置は、
    アライメント用光源と、前記アライメント用光源から出射された光束を前記マスクのマスクマークに向かって出射する光学系と、前記マスクマークからの反射光が通過する基準マークと、前記基準マークを通過した光束を受光する画像センサとを有することを特徴とする露光装置。
  2. 前記光学系は、前記アライメント用光源からの光束を前記マスクマークに向かって反射させると共に、前記マスクマークから反射した光束を透過するハーフミラーを有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。

JP2006157103A 2006-06-06 2006-06-06 露光装置 Pending JP2007328009A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010245105A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Mitsubishi Electric Corp 露光装置および露光方法

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