JP4905304B2 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記複数の高周波電源の各々は、高周波を発振する発振器と、外部と通信するための通信部と、この通信部により停止信号を受信したときに発振器の出力を停止する出力停止部と、を備え、
前記複数の高周波電源のうちの少なくとも一つの高周波電源の出力停止部は、当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに当該発振器の出力を停止すると共に前記通信部に停止信号を出力する監視部により構成され、
前記少なくとも一つの高周波電源の通信部と他の高周波電源の通信部とは、前記監視部からの停止信号を他の高周波電源に直接送信することを特徴とする。
前記下部電極及び上部電極のいずれか一方に接続されるプラズマ発生用の高周波電源と、前記下部電極に接続され、前記プラズマ発生用の高周波電源よりも周波数が低いバイアス印加用の高周波電源と、を含み、
前記少なくとも一つの高周波電源は、前記バイアス印加用の高周波電源であり、前記他の高周波電源は、前記プラズマ発生用の高周波電源を含み、
バイアス印加用の高周波電源の通信部からプラズマ発生用の高周波電源の通信部へ停止信号が直接送信されていてもよく、この場合例えば、前記出力停止部によりバイアス印加用の高周波電源の発振器及びプラズマ発生用の高周波電源の発振器の出力が停止した後、バイアス印加用の高周波電源の発振器、プラズマ発生用の高周波電源の発振器の順に、自動的にその出力が復帰する。前記プラズマ発生用の高周波電源の出力停止部は、当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに当該発振器の出力を停止する監視部により構成されていてもよく、またこの場合例えば前記プラズマ発生用の高周波電源の監視部により検出される高周波の異常は、反射波の異常である。さらに前記高周波の異常によるプラズマ発生用の高周波電源の発振器の出力が停止した場合、バイアス側の高周波電源の通信部に停止信号を送信する装置コントローラが設けられていてもよい。
前記複数の高周波電源のうちの少なくとも一つの高周波電源に設けられた監視部により当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに前記監視部により当該発振器の出力を停止すると共に他の高周波電源のための停止信号を当該高周波電源に含まれる通信部に出力する工程と、
前記停止信号を、前記一つの高周波電源の通信部から他の高周波電源の通信部に直接送信する工程と、
前記他の高周波電源の通信部が前記停止信号を受信したときに、当該高周波電源に設けられた出力停止部により当該高周波電源の発振器の出力を停止する工程と、を含むことを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、上述のプラズマ処理方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
20 処理容器
41 上部電極
51 下部電極
6A ソース用高周波電源
6B バイアス用高周波電源
61A,61B 発振器
62A,62B 通信ボード
65A,65B アーク検出回路部
72 装置コントローラ
Claims (13)
- プラズマに関与する複数の高周波電源を備え、処理容器内の被処理体に対してプラズマにより処理するプラズマ処理装置において、
前記複数の高周波電源の各々は、高周波を発振する発振器と、外部と通信するための通信部と、この通信部により停止信号を受信したときに発振器の出力を停止する出力停止部と、を備え、
前記複数の高周波電源のうちの少なくとも一つの高周波電源の出力停止部は、当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに当該発振器の出力を停止すると共に前記通信部に停止信号を出力する監視部により構成され、
前記少なくとも一つの高周波電源の通信部と他の高周波電源の通信部とは、前記監視部からの停止信号を他の高周波電源に直接送信することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記少なくとも一つの高周波電源の監視部により検出される高周波の異常は、反射波の異常であることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記少なくとも一つの高周波電源の通信部と他の高周波電源の通信部とは前記停止信号を直接送信するための通信路により互いに接続されていることを特徴とする請求項1または2記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理容器内に基板が載置される下部電極と上部電極とが対向して設けられ、
前記下部電極及び上部電極のいずれか一方に接続されるプラズマ発生用の高周波電源と、 前記下部電極に接続され、前記プラズマ発生用の高周波電源よりも周波数が低いバイアス印加用の高周波電源と、を含み、
前記少なくとも一つの高周波電源は、前記バイアス印加用の高周波電源であり、前記他の高周波電源は、前記プラズマ発生用の高周波電源を含み、
バイアス印加用の高周波電源の通信部からプラズマ発生用の高周波電源の通信部へ停止信号が直接送信されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載のプラズマ処理装置。 - 前記出力停止部によりバイアス印加用の高周波電源の発振器及びプラズマ発生用の高周波電源の発振器の出力が停止した後、バイアス印加用の高周波電源の発振器、プラズマ発生用の高周波電源の発振器の順に、自動的にその出力が復帰することを特徴とする請求項4記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ発生用の高周波電源の出力停止部は、当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに当該発振器の出力を停止する監視部により構成されていることを特徴とする請求項4または5記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ発生用の高周波電源の監視部により検出される高周波の異常は、反射波の異常であることを特徴とする請求項6記載のプラズマ処理装置。
- 前記高周波の異常によるプラズマ発生用の高周波電源の発振器の出力が停止した場合、バイアス側の高周波電源の通信部に停止信号を送信する装置コントローラが設けられていることを特徴とする請求項6または7記載のプラズマ処理装置。
- 前記他の高周波電源の出力停止部は、当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに当該発振器の出力を停止する監視部により構成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載のプラズマ処理装置。
- 前記他の高周波電源の監視部により検出される高周波の異常は、反射波の異常であることを特徴とする請求項9記載のプラズマ処理装置。
- 前記発振器の出力の停止は、発振器を停止することであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載のプラズマ処理装置。
- プラズマに関与する複数の高周波電源を用い、処理容器内の被処理体に対してプラズマにより処理するプラズマ処理方法において、
前記複数の高周波電源のうちの少なくとも一つの高周波電源に設けられた監視部により当該高周波電源の発振器から出力される高周波の異常を検出したときに前記監視部により当該発振器の出力を停止すると共に他の高周波電源のための停止信号を当該高周波電源に含まれる通信部に出力する工程と、
前記停止信号を、前記一つの高周波電源の通信部から他の高周波電源の通信部に直接送信する工程と、
前記他の高周波電源の通信部が前記停止信号を受信したときに、当該高周波電源に設けられた出力停止部により当該高周波電源の発振器の出力を停止する工程と、を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 基板に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置に用いられ、コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項12に記載のプラズマ処理方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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JP4024636B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2007-12-19 | 富士通株式会社 | 有機系絶縁膜のエッチング方法及び半導体装置の製造方法 |
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JP3905870B2 (ja) * | 2003-08-01 | 2007-04-18 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP4359521B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2009-11-04 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びその制御方法 |
CN100543944C (zh) * | 2004-04-30 | 2009-09-23 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
US7292045B2 (en) * | 2004-09-04 | 2007-11-06 | Applied Materials, Inc. | Detection and suppression of electrical arcing |
JP4597886B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2010-12-15 | イーエヌ テクノロジー インコーポレイテッド | プラズマ電源装置用アークエネルギー制御回路 |
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