JP4904135B2 - 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
液晶表示装置(LCD)は、表示解像度が他の平板表示装置より良好し、動画を具現する時にその品質がブラウン管に適する程、応答速度が速いという特性を有している。
したがって、液晶の分子配列方向を任意に調節すると、液晶の分子配列が変わるようになり、光学的異方性により液晶が分子配列方向に光が屈折して、画像情報を表現することができる。
すなわち、画素電極と共通電極との間に電界を形成する際に、液晶分子の捩れる方向を異にして、液晶分子の長軸と短縮に対する異方性を補償した。
これに対し、反射型垂直配向モードの液晶表示装置は、バックライトを使用しないため、消費電力の低減は可能であるが、外部の自然光が暗いときには、使用ができないという限界がある。
[先行技術文献]
[特許文献1]特開2004−85918号公報
また、本発明は、反射透過型垂直配向モードの液晶表示装置において、多重ドメインを形成し、各ドメインの間にストレージキャパシタを形成することによって、総ストレージキャパシタを確保し、画質特性を向上させ、視野角特性を改善するという効果がある。
そして、共通電極185上には、電界を歪ませて多重ドメイン効果を具現するための誘電体突起188が形成されている。
図3に示すように、本発明に係る反射透過型垂直配向モードの液晶表示装置のアレイ基板は、スイッチング素子である薄膜トランジスタ(TFT)がマトリックス状に位置し、このような複数の薄膜トランジスタ(TFT)を交差するゲート配線225とデータ配線239が形成している。
第1〜第3ストレージキャパシタCst1、Cst2、Cst3の総合が1つの画素に対する総ストレージキャパシタ容量Cとなる。
図4に示すように、本発明に係る反射透過型垂直配向モードの液晶表示装置のアレイ基板200は、反射モードと透過モードで選択的に駆動され得るようにするために、第1ドメインAは、反射部RAとして第1画素電極261aの上部又は下部に反射電極249をさらに備えており、第2及び第3ドメインB、Cは、透過部TA1、TA2として第2及び第3画素電極261b、261cを透過電極として使用している。
まず、アレイ基板200上にゲート電極223とゲート配線225とゲート配線225と所定間隔が離隔されて、ストレージ配線244及びストレージ電極243が形成されている。
そして、ゲート配線225が形成されたアレイ基板200の全面に第1絶縁膜であるゲート絶縁膜229を形成する。
ゲート電極223の上部のゲート絶縁膜229上に島(アイランド)形態でアクティブ層231及びオームコンタクト層233を形成する。
このとき、オームコンタクト層233、アクティブ層231、ソース及びドレイン電極235、237と、データ配線239は、1つのマスク工程により形成されることができる。
保護膜245は、窒化シリコン(SiNx)又は酸化シリコン(SiO2)を蒸着して形成した無機絶縁膜である。
第1エッチング溝248aは、透過部TA1として用いられる第2ドメインBに対応する位置に形成し、第2エッチング溝248bは、透過部TA2として用いられる第3ドメインCに対応する位置に形成する。
このとき、第2ドメインBと第3ドメインCとの間に形成された第2ストレージ電極243bが露出されないようにする。
そして、ドレイン電極237の一部を露出させるドレインコンタクト孔253を形成する。
このとき、反射電極249は、反射部RAにおいて誘導絶縁膜247及び第1画素電極261aの凹凸構造に沿って凹凸をなす。
反射電極249は、第1画素電極261aの上部だけでなく、第1画素電極261aの下部にも形成されることができる。
第1基板の全面に絶縁膜を形成するステップを行う。
次いで、ゲート配線と交差するデータ配線を形成し、このとき、ゲート配線とデータ配線との交差点に薄膜トランジスタを形成する。
薄膜トランジスタは、ゲート配線から突出したゲート電極と、このゲート電極上に形成された絶縁膜と、ゲート電極の位置で絶縁膜上に形成された半導体層と、半導体層上で互いに離隔されたソース電極及びドレイン電極からなる。
このとき、反射電極の下部に透明電極が形成されることもできる。
そして、第1基板と対向する第2基板を配置し、第1基板及び第2基板の間に液晶層を介在する。
ここで、付加的に反射電極の下部に凹凸パターンを形成するステップをさらに含むことができる。
第1〜第3ドメインは、実質的に同じ面積を有することができ、第2及び第3ドメインは、透過部であり得る。
そして、接続電極の下部に第3ストレージ電極がさらに形成されて、画素領域にストレージキャパシタ容量を十分に確保することができる。
また、本発明は、反射透過型垂直配向モードの液晶表示装置において多重ドメインを形成し、各ドメインの間にストレージキャパシタを形成することによって、総ストレージキャパシタを確保し、画質特性を向上させ、視野角特性を改善するという効果がある。
123、223 ゲート電極
125、225 ゲート配線
129、229 ゲート絶縁膜
131、231 アクティブ層
133、233 オームコンタクト層
135、235 ソース電極
137、237 ドレイン電極
139、239 データ配線
145、245 保護膜
147、247 誘導絶縁膜
147a、247a 凹凸型パターン
149、249 反射電極
153、253 ドレインコンタクト孔
160 接続画素電極
260a、260b 第1、2接続画素電極
161a、261a 第1画素電極
161b、261b 第2画素電極
261c 第3画素電極
170、270 液晶層
180、280 カラーフィルター基板
181、281 ブラックマトリックス
182、282 カラーフィルター
185、285 共通電極
188、288 誘電体突起
Claims (23)
- 第1ないし第3ドメインを含み、前記第1ドメインは反射部と定義され、前記第2および第3ドメインは透過部と定義されて画素領域が画定された第1基板上に交差配置されたゲート配線及びデータ配線と、
前記ゲート配線と前記データ配線との交差点に形成されたゲート電極、半導体層、ソース及びドレイン電極からなる薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタと接続し、前記第1ないし第3ドメインに形成された第1ないし第3画素電極を含む透明電極と、
前記薄膜トランジスタに接続され、前記第1ドメインに形成された反射電極と、
前記第1ないし第3画素電極の間を電気的に接続させる第1および第2接続電極と、
前記反射部に形成された第1ストレージ電極と、前記第1および第2接続電極の下部に形成された第2および第3ストレージ電極と、
前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第1基板及び第2基板の間に形成された液晶層と、を含み、
前記透過部の面積は前記反射部の面積より大きく形成され、
前記反射部に凹凸パターンが形成され、
前記第1画素電極と前記第1ストレージ電極との間に第1ストレージキャパシタ、前記第1接続電極と前記第2ストレージ電極との間に第2ストレージキャパシタおよび前記第2接続電極と前記第3ストレージ電極との間に第3ストレージキャパシタをそれぞれ形成し、
前記ゲート配線と所定間隔が離隔されて、前記第1ないし第3ストレージ電極と接続したストレージ配線を含むことを特徴とする反射透過型液晶表示装置。 - 前記第1画素電極と第1ストレージ電極との間、前記第1接続電極と前記第2ストレージ電極との間および前記第2接続電極と前記第3ストレージ電極との間には、誘電体膜が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記液晶層は、液晶分子が垂直配向したことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記透明電極は、スリットを含むことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記第2基板は、前記画素周辺領域と対応する位置に形成されたブラックマトリックスと、前記画素領域と対応する位置に形成されたカラーフィルターとを含むことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記第2基板は、誘電体突起がさらに形成されたことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記透過部のセルギャップは、実質的に前記反射部のセルギャップの2倍であることを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記第1〜第3ドメインのうちの少なくとも2つは、液晶の駆動方向が異なることを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記第1基板は、前記透過部にエッチング溝を有する絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 第1ないし第3のドメインを含み、前記第1のドメインは反射部と定義され、前記第2および第3のドメインは透過部と定義されて画素領域が画定された基板上に交差配置されたゲート配線及びデータ配線と、
前記ゲート配線と前記データ配線との交差点に形成されたゲート電極、半導体層、ソース及びドレイン電極からなる薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタと接続し、前記第1ないし第3のドメインに形成された第1ないし第3の画素電極を含む透明電極と、
前記薄膜トランジスタに接続され、前記第1のドメインに形成された反射電極と、
前記第1ないし第3画素電極間を電気的に接続させる第1および第2接続電極と、
前記反射部に形成された第1ストレージ電極と、
前記第1および第2接続電極の下部に形成された第2および第3ストレージ電極と、を含み、
前記第1画素電極と前記第1ストレージ電極との間に第1ストレージキャパシタ、前記第1接続電極と前記第2ストレージ電極との間に第2ストレージキャパシタおよび前記第2接続電極と前記第3ストレージ電極との間に第3ストレージキャパシタをそれぞれ形成し、
前記透過部の面積は前記反射部の面積より大きいことを特徴とする反射透過型液晶表示装置。 - 前記反射部に凹凸パターンがさらに含まれたことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記ゲート配線と所定間隔が離隔されて、前記第1ないし第3ストレージ電極と接続したストレージ配線をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記第1画素電極と第1ストレージ電極との間、前記第1接続電極と前記第2ストレージ電極との間および前記第2接続電極と前記第3ストレージ電極との間には、誘電体膜が介在されたことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記透明電極は、スリットを含むことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 前記基板は、前記透過部にエッチング溝を有する絶縁膜をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の反射透過型液晶表示装置。
- 第1ないし第3のドメインを含み、前記第1のドメインは反射部と定義され、前記第2および第3のドメインは透過部と定義されて画素領域が画定された第1基板上にゲート配線、該ゲート配線と平行したストレージ配線、該ストレージ配線から分岐されて前記第1ドメインに形成される第1ストレージ電極、該第1ドメインと第2ドメインの境界に形成される第2ストレージ電極および前記第2ドメインと第3ドメインとの境界に形成される第3のストレージ電極を形成するステップと、
前記第1基板の全面に絶縁膜を形成するステップと、
前記ゲート配線と交差するデータ配線を形成するステップと、
前記ゲート配線と前記データ配線との交差点に薄膜トランジスタを形成するステップと、
前記薄膜トランジスタと接続し、前記第1ないし第3ドメインに形成された第1ないし第3画素電極を含む透明電極を形成するステップと、
前記薄膜トランジスタに接続され、前記第1ドメインに反射電極を形成するステップと、
前記第2ストレージ電極上に前記第1および第2画素電極を接続する第1接続電極と前記第3ストレージ電極上に前記第2および第3画素電極を接続する第2接続電極を形成するステップと、
前記第1基板と対向する第2基板を配置するステップと、
前記第1基板と前記第2基板との間に液晶層を介在させるステップと、を含み、
前記第1画素電極と前記第1ストレージ電極との間に第1ストレージキャパシタ、前記第1接続電極と前記第2ストレージ電極との間に第2ストレージキャパシタおよび前記第2接続電極と前記第3ストレージ電極との間に第3ストレージキャパシタをそれぞれ形成し、
前記透過部の面積は前記反射部の面積より大きいことを特徴とする反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記反射電極の下部に凹凸パターンを形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
- 前記液晶層は、液晶分子が垂直配向することを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第2基板上において前記画素周辺領域と対応する位置にブラックマトリックスを形成するステップと、
前記画素領域と対応する位置にカラーフィルターを形成するステップと
を含むことを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。 - 前記第2基板上に誘電体突起を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第2ドメインのセルギャップは、実質的に前記第1ドメインのセルギャップの2倍であることを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1及び第2ドメインは、液晶の駆動方向が互いに異なることを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1基板上には、前記透過部にエッチング溝を有する絶縁膜をさらに形成するステップを含むことを特徴とする請求項16に記載の反射透過型液晶表示装置の製造方法。
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