JP4902346B2 - Ｓｎメッキ用電極支持体及びその使用方法 - Google Patents

Description

本発明は、Ｓｎメッキ用電極支持体及びその使用方法に関する。

特許第３５１４２３８号公報

従来、例えば鋼帯にＳｎ（又はＳｎ合金）を連続的にメッキする方法の一つとして、消耗性Ｓｎ電極（本明細書では「消耗性Ｓｎ電極ブロック」あるいは単に「Ｓｎ電極ブロック」と称する）を使用する方法が知られている。メッキ浴としてはハロゲン浴やメタルスルホン酸浴等が使用されている。該方法では、Ｓｎ電極ブロックを支持するための電極支持体として、Ｓｎ鋳造体からなる心材周囲をゴムライニングで覆い、Ｓｎ鋳造体にボルト止めされるカーボン板材で電極支持面を形成したものが用いられていた（特許文献１）。

上記従来の電極支持体にて電極支持面を形成するカーボン板材は、一般には耐食性が良好とみなされている。ところが、消耗性Ｓｎ電極が適用される上記のメッキ浴はカーボンへのアタック作用が強く、特に浴ｐＨが低くなってきた場合に、カーボン板材が少なからず侵食される問題がある。この侵食は、電極支持面の一部で局所的に発生すると、その発生個所から急速に進展する傾向があり、また、Ｓｎ電極裏面の対応する領域の腐食も起こりやすくなるので、速やかな修理が必要である。また、こうしたメッキ浴からの侵食以外にも、Ｓｎ電極ブロックとの間でスパーク等が発生すれば、カーボン板材が深くえぐれるように損傷することがあり、この場合も同様に修理が必要である。しかし、カーボン板材は脆く機械加工が困難であり、損傷個所を研磨等により手軽に補修できない。結局、高価なカーボン板材を丸ごと交換するしか方法がなく、メンテナンス費用が非常に高くつく問題がある。

本発明の課題は、消耗性Ｓｎ電極ブロックの支持面が侵食されにくく、かつ、研磨等による補修にも容易に対応できるＳｎメッキ用電極支持体及びその使用方法を提供することにある。

課題を解決するための手段及び発明の効果

上記の課題を解決するために、本発明のＳｎメッキ用電極支持体は、電解Ｓｎメッキの消耗性Ｓｎ電極ブロックを被メッキ物と対向させて支持するとともに、消耗性Ｓｎ電極ブロックを支持するための電極支持面をＴｉ系金属にて構成したことを前提とする。該前提構成によると、消耗性Ｓｎ電極ブロックを支持するための電極支持面をＴｉ系金属にて構成したので、ハロゲン浴やメタルスルホン酸浴などｐＨの比較的低いＳｎメッキ浴中でも侵食を受け難く、電極支持体のさらなる長寿命化を図ることができる。そして、電極支持面が仮に侵食や損傷を受けても、後述の研磨等による補修対応が容易であり、メンテナンス費用を大幅に削減することができる。また、スパーク等によりやや深い局部損傷が生じた場合も、損傷部分に金属材料を肉盛溶接等により充填することで、部分補修も簡単に行なうことができる。

本発明のメッキ用電極支持体は、消耗性Ｓｎ電極ブロックを電極支持面に沿って摺動可能に配置して使用することができる。Ｔｉ系金属は表面に不動態被膜が形成されやすく、消耗性Ｓｎ電極ブロックを支持させたときの接触抵抗が増大し、メッキ通電時の電流密度低下や通電ムラの原因となる場合がある。しかし、消耗性Ｓｎ電極ブロックを電極支持面に沿って摺動可能に配置すれば、消耗性Ｓｎ電極ブロックを摺動させたときに不動態被膜が擦れて剥離し、消耗性Ｓｎ電極ブロックと電極支持面をなすＴｉ系金属との、金属バルク間での直接接触状態が形成されやすくなるので、接触抵抗の低減に寄与する。

Ｔｉ系金属は、はＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定されたＴｉ又はＴｉ合金を採用可能である。本発明においては、該Ｔｉ系金属として、例えばＴｉ−６Ａｌ−４ＶやＴｉ−０．１５ＰｄなどのＴｉ系合金を使用することも可能である。しかし、より望ましくは上記ＪＩＳに１種〜４種として規定された工業用純Ｔｉを使用するのがよい。工業用純Ｔｉは多くのＴｉ系合金よりも耐食性が良好で固有電気抵抗値も低く、また、安価で電極形状への加工も容易な利点がある。また、消耗性Ｓｎ電極ブロックを電極支持面に沿って摺動可能に配置する場合、摺動面での不動態被膜の剥離も生じやすく、消耗性Ｓｎ電極ブロックとの接触抵抗の低減も図りやすい。

次に、本発明のＳｎメッキ用電極支持体は、電極支持面をメッキ浴中に浸漬した状態で使用することができる。電極支持面をＴｉ系金属で構成することで、常時メッキ浴中に浸漬された状態であっても電極支持面の侵食が進み難く、耐久性を十分に確保することができる。この場合、電極支持面を含むメッキ浴中に浸漬される部分がＴｉ系金属にて構成されていることが、電極支持体全体の耐食性を確保する観点で望ましい。

そして、本発明のＳｎメッキ用電極支持体は、Ｔｉ系金属の中実ムク材からなり電極支持面が形成される支持面形成部材と、該支持面形成部材が溶接接合される本体部とを有することを特徴とする。これにより、電極支持面の摩耗や侵食、あるいは補修による消耗代が本体部から分離された支持面形成部材に生じるので、消耗が進んだ場合でも支持面形成部材を交換するか、後述のごとく新たに継ぎ足すことことで、補修の繰り返しに耐えることができる。

次に、本発明のＳｎメッキ用電極支持体は、支持面形成部材及び本体部がメッキ浴中に浸漬された状態で、消耗性Ｓｎ電極ブロックを電極支持面にて下側から支持する形で使用することができる。このようにすることで、メッキ浴中への電極のセッティングや引き上げも容易に行なうことができる。この場合、本体部は、Ｃｕ系心材と、該Ｃｕ系心材の表面を覆うＴｉ系金属からなる耐食性被覆材とを有し、支持面形成部材を該耐食性被覆材に溶接接合することができる。Ｃｕ系心材の採用により、高価なＴｉ系金属の使用量を大幅に削減することができる。また、Ｃｕ系心材は、従来のＳｎ心材よりも強度が高いので心材体積削減によりメッキ用電極支持体全体の軽量化を図ることができる。また、導電性も良好なのでメッキ効率の向上にも寄与する。

支持面形成部材は、主表面に電極支持面が形成され、主裏面が本体部に密着配置される板状に形成でき、該主裏面の周縁部にて本体部に溶接接合することができる。支持面形成部材は本体部から分離されているにも拘わらず、その接触導通状態を良好に確保でき、消耗性Ｓｎ電極ブロックも安定的に支持できる。また、支持面形成部材の主裏面の周縁部にて本体部に溶接接合することで、比較的少ない溶接金属量にて支持面形成部材を本体部に確実に接合できる。

支持面形成部材は、電極支持面上にて複数の消耗性Ｓｎ電極ブロックを板面長手方向に密接配列させた形で支持するとともに、該消耗性Ｓｎ電極ブロックの配列方向に長手方向を一致させた長尺形態を有するものとして構成できる。また、本体部は、支持面形成部材に対応した長尺形態を有するものとして構成できる。耐食性被覆材は、支持面形成部材よりも広幅に形成されＣｕ系心材の上面に密着配置されるベース板材と、該ベース板材よりも薄く形成されＣｕ系心材の側面及び下面を覆うライニング層とからなるものとして構成できる。支持面形成部材は、該支持面形成部材の幅方向両側面がベース板材の幅方向両側面よりも内側に位置するように該ベース板材の主表面上に密着配置でき、かつ該支持面形成部材の主裏面両縁に沿って各々形成される溶接部によりベース板材の主表面に接合することができる。耐食性被覆材のＣｕ系心材の上面を被覆する部分を、Ｔｉ系金属からなる支持面形成部材よりも広幅のベース板材とすることで、同じＴｉ系金属からなる支持面形成部材を、その主裏面の幅方向両縁にて容易に溶接接合できる。

ベース板材は、Ｓｎ電極ブロックからの荷重が比較的大きく付加されるほか、支持面形成部材を溶接するために比較的肉厚に形成できるので、多少加工性が低くとも問題はなく、安価で高強度な、ＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定された工業用純チタン２種、すなわちＪＩＳ２種工業用純チタンにより構成することが望ましい。一方、Ｃｕ系心材の残余部分を覆うライニング層は、ベース板材よりも薄肉に形成する必要があるので、展伸加工が比較的容易な、ＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定された工業用純チタン１種、すなわちＪＩＳ１種工業用純チタンにより構成するとよい。

Ｔｉ系金属からなるライニング層は、Ｃｕ系心材の側面を覆う部分の上縁に沿って形成される溶接部により、同じＴｉ系金属からなるベース板材の側面に接合することで、異種金属であるＣｕ系心材側に溶接部が形成されず、接合強度（及びＣｕ系心材の密封性）を高めることができる。

次に、本発明のＳｎメッキ用電極支持体の使用方法は、支持面形成部材が、電極支持面が損傷した場合に研磨補修して使用されることを特徴とする。Ｔｉ系金属（特に工業用純Ｔｉ）は研磨加工性が良好であり、補修時の研磨代が小さくても電極支持面を簡単に平滑化できる利点がある。その結果、電極支持面に対する補修・平滑化を繰り返し行なうことができ、耐食性支持部の大幅な長寿命化を図ることができる。

研磨補修により支持面形成部材の厚みが減じられた場合、本体部に一旦溶接接合された古い支持面形成部材を除去することは面倒であるし、また、その除去に伴い発生するバリなどを補修する必要も生ずる。そこで、その厚みの減じた古い支持面形成部材上に重ね合わせて溶接する形で新しい支持面形成部材を継ぎ足し補充して使用すれば、古い支持面形成部材の除去が不要となり、補修の手間も大幅に削減できる。

なお、新しい支持面形成部材を古い支持面形成部材に重ね合わせて溶接する場合、新しい支持面形成部材は側面下縁に沿って形成される溶接部により古い支持面形成部材の側面上縁に接合すると、支持面形成部材を確実にかつ少ない溶接金属量で継ぎ足し補充することができる。

以下、本発明の実施の形態を添付の図面に基づいて説明する。
図１は、本発明のメッキ用電極支持体を用いたＳｎメッキ用電極の一実施形態を示す正面図である。Ｓｎメッキ用電極１においてＳｎメッキ用電極支持体５には電極支持面２が形成され、複数の消耗性Ｓｎ電極ブロック２０が該電極支持面２上に密接配置されている。消耗性Ｓｎ電極ブロック２０は各々Ｓｎ又はＳｎ合金にて構成され、電極支持面２と当接する表面を第一面、これと反対の表面を第二面として、第二面側が被メッキ板材と平行に対向する放電面ＦＰとされている。また、図５はＳｎメッキ用電極支持体５の斜視図である。

このＳｎメッキ用電極１は鋼帯ＳへのＳｎメッキを行なうためのものであって、上記Ｓｎメッキ用電極１を、Ｓｎメッキ液中にて、長手方向に連続搬送される鋼帯Ｓに対し、被メッキ面となる板面に放電面ＦＰが対向する形で配置し、電極１側を陽極、鋼帯Ｓ側を陰極としてメッキ浴（例えば、ハロゲン浴もしくはメタルスルホン酸浴）を介して通電することにより、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０をメッキ金属源として鋼帯Ｓの表面に連続Ｓｎメッキ処理する。鋼帯Ｓの搬送方向は図面中にて紙面に直角な向きである。

複数の消耗性Ｓｎ電極ブロック２０は、第一面と第二面との一方の群が配列方向に互いに連なる基準平面ＳＰをなす一方、他方の群が当該基準平面ＳＰに対し配列方向に傾斜する形で互いに連なる傾斜平面ＧＰを形成するように、配列方向に順次厚みを減ずるものとして構成されている。図３の工程１に示すように、それら複数のブロック２０の第二面側が規定厚さ消耗した場合、工程２に示すごとく、配列末端の厚み最小のブロック２０ｅ’を取り除く。そして、工程３に示すように、取り除いた該ブロック位置に配列後続のブロック２０ｅが位置するように、残余のブロック群２０ｍを電極支持面２上にて配列方向に滑り摺動形態で移動させる。そして、工程４に示すように、当該移動に伴い配列他端側に生ずる電極支持面２上の空きスペースに、第一面及び第二面が基準平面ＳＰ及び傾斜平面ＧＰの対応するものに各々連なる厚みを有した新しい消耗性Ｓｎ電極ブロック２０ｆを補充する。これにより、傾斜平面ＧＰに沿うブロック２０移動長に対応した各ブロック２０の厚さ方向移動量ｔ０だけ、それらブロック群２０ｍの第二面が連なって形成する放電面ＦＰを被メッキ板材側にかさ上げすることが可能となる。

図２は図１のＣ−Ｃ断面を示す。Ｓｎメッキ用電極支持体５は、Ｔｉ系金属（本実施形態では工業用純Ｔｉ）の中実ムク材からなり電極支持面２が形成される支持面形成部材３Ａと、該支持面形成部材３Ａが溶接接合される本体部１１とを有する。本体部１１は、Ｃｕ系心材（本実施形態では無酸素Ｃｕにて構成されている）６と、該Ｃｕ系心材６の表面を覆うＴｉ系金属からなる耐食性被覆材３Ｂ，７とを有し、支持面形成部材３Ａが該耐食性被覆材３Ｂ，７に溶接接合されている。

ハロゲン法Ｓｎメッキ浴中では、従来のカーボン製の耐食性支持部では、メッキ浴のｐＨ低下時に侵食を生じる場合があった。しかし、これをＴｉ系金属製にすることで該溶解による消耗は生じにくくなる。また、図３のように、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０を電極支持面２上にて滑り摺動させることで、該電極支持面２を形成するＴｉ系金属表面の不動態被膜が剥離して、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０と支持面形成部材３Ａとの間でバルク金属同士の直接接触が確保しやすくなり、接触抵抗が減じられる。

ただし、支持面形成部材３Ａも長期間のメッキ浴中での使用に伴い徐々には消耗するし、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０との間でのスパークや電食により電極支持面２に損傷が生ずることもある。電極支持面２が損傷又は消耗した場合は、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０を取り除いて該電極支持面２を研磨することにより平滑化し、その後消耗性Ｓｎ電極ブロック２０を電極支持面２上に再載置するメンテナンス作業を行なう。Ｔｉ系金属からなる電極支持面２は、メッキ液からのアタックによる侵食が小さく、面荒れの進行は従来のカーボン板などと比べればはるかに遅い。また、面が荒れても研磨による再平滑化の仕上げ加工が容易である。また、スパーク等により電極支持面２にえぐれ等のやや深い局部損傷が生じた場合も、損傷部分に金属材料を肉盛溶接等により充填し、その後、研磨により平滑化することで、部分補修も簡単に行なうことができる。

図１に示すように、支持面形成部材３Ａは、電極支持面２上にて複数の消耗性Ｓｎ電極ブロック２０を板面長手方向に密接配列させた形で支持するとともに、該消耗性Ｓｎ電極ブロック２０の配列方向に長手方向を一致させた長尺形態を有する。本体部１１は支持面形成部材３Ａに対応した長尺形態を有するとともに、図２に示すように、耐食性被覆材３Ｂ，７は、支持面形成部材３Ａよりも広幅に形成されＣｕ系心材６の上面に密着配置されるベース板材３Ｂと、該ベース板材３Ｂよりも薄く形成されＣｕ系心材６の側面及び下面を覆うライニング層７とからなる。支持面形成部材３Ａは、該支持面形成部材３Ａの幅方向両側面がベース板材３Ｂの幅方向両側面よりも内側に位置するように該ベース板材３Ｂの主表面上に密着配置され、かつ該支持面形成部材３Ａの主裏面両縁に沿って各々形成される溶接部３ｗ（ＴＩＧ溶接等による）によりベース板材３Ｂの主表面に接合される。

ベース板材３ＢはＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定された工業用純チタン２種により構成され、ライニング層７が同じく工業用純チタン１種により構成されている。ライニング層７は、Ｃｕ系心材６の側面を覆う部分の上縁に沿って形成される溶接部４ｗにより、ベース板材３Ｂの側面に接合されている。

図１に示すように、本体部１１の長手方向の一端から上方に延出する形で給電延出部１２が設けられ、当該給電延出部１２の末端にメッキ用給電部８が形成されている。給電延出部１２により本体部１１を片持ち支持形態とすることで、図３に示すように、給電延出部１２が形成されている側と反対側から消耗性Ｓｎ電極ブロック２０の取り出し又は供給も容易に行なうことができる。

本体部１１は、給電延出部１２の下端から下向きに傾斜する形態で形成されている。そして、複数の消耗性Ｓｎ電極ブロック２０の第二面により上記の傾斜平面ＧＰが形成されている。この構造の採用により、給電延出部１２が形成されている側と反対側から、新しい消耗性Ｓｎ電極ブロック２０ｆの供給を行なうことができ、また、傾斜した電極支持面２上でブロック２０列を押し上げ形態で摺動できるので、消耗性Ｓｎ電極ブロック２０の交換補充作業が一層容易である。各消耗性Ｓｎ電極ブロック２０は第一面が水平面をなし、配列方向の両側面が該第一面と直交する平面になっている。

図１に戻り、Ｃｕ系心材６は、ベース板材３Ｂに沿う心材本体部６Ａと、該心材本体部６Ａの長手方向の一端から上方に延出するとともに給電延出部１２の心材を構成する給電心材部６Ｂとを有するものとして構成されている。ライニング層７は心材本体部６Ａとともに給電延出部１２のメッキ用給電部８を除く周側面を覆うものとして構成されている。心材本体部６Ａを給電心材部６Ｂとともに耐食性ライニングで覆うことにより、Ｃｕ系心材６を効果的に保護でき、また、メッキ液外に露出する給電延出部１２において、Ｃｕ製の給電心材部６Ｂを露出させることで電極への電源供給点の接触抵抗を減ずることができる。Ｃｕ系心材６とベース板材３Ｂとは、ロールクラッド接合、拡散接合、爆発圧接法、ろう付けあるいはシーム溶接など、種々の方法で接合することができる。

また、本体部１１の長手方向に沿って、該本体部１１の底面ＢＬと該底面ＢＬの長手方向先端縁を通る水平基準線ＨＬと給電延出部１２の軸線の下側への延長線ＱＬとが囲む三角形状の領域を埋める形態で、本体部１１の底面部に下向きに延出する形で一体化される中空のベースフレーム部９が設けられている。従来の電極のＳｎメッキ用電極支持体５は、上記三角形状の領域も含めて中実のＳｎ心材部が設けられていたから、Ｓｎメッキ用電極支持体５全体の重量が非常に大きくなり、Ｓｎメッキ用電極支持体５の運搬やラインへの着脱に大きな労力を要した。しかし、上記のように上記三角形状の領域を中空のベースフレーム部９で構成することで、Ｓｎメッキ用電極支持体５の大幅な軽量化を図ることができる。本実施形態では、ベースフレーム部９は給電延出部１２と垂直な底面部９Ｂを有する。また、ベースフレーム部９の上縁が本体部１１の底部に溶接部９ｗにより接合されている。

ベースフレーム部９は、Ｔｉ系金属からなる耐食性合金板材にて構成すれば、メッキ浴中での化学的安定性も確保でき、かつ板金加工により製造も容易である。この場合、本体部１１の幅方向にベースフレーム部９を貫通する形態でメッキ液流通孔１０を形成できる。これにより、メッキ操業中においては、被メッキ板材の搬送によりメッキ浴中に生ずる液流がベースフレーム部９を貫通して流れるので、電極が液流にあおられ難くなり、メッキ浴中の電極位置の安定化を図ることができる。また、メッキ液流通孔１０から中空のベースフレーム部９内にメッキ液が流れ込むので、ベースフレームに浮力が生じにくく、Ｓｎメッキ用電極支持体５をメッキ浴中にセットする作業を行ないやすい。また、Ｓｎメッキ用電極支持体５をメッキ浴から引き上げる際にはメッキ液流通孔１０から内部のメッキ液が速やかに流れ出し、液切りも容易である。

次に、支持面形成部材３Ａは電極支持面２が損傷した場合に研磨補修して使用される。そして、研磨補修により支持面形成部材３Ａの厚みが減じられた場合に、その厚みの減じた古い支持面形成部材３Ａ上に重ね合わせて溶接する形で新しい支持面形成部材３Ａが継ぎ足し補充して使用される。また、ライニング層７の縁部はベース板材３Ｂ側に溶接接合されているから、電極支持面２を補修する際の影響がライニング層７に全く及ばず、従来のように電極支持面２を削りすぎて（ゴム）ライニングを損傷させたりする惧れもない。

具体的には、図４の工程１１に示すように、研磨を繰り返すことにより、該支持面形成部材３Ａの厚みが予め定められた限界位置以下に消耗した場合に、工程１２に示すように、該消耗した旧支持面形成部材３Ａの電極支持面２を研磨により平滑化する（研磨後の面を符号に「ｐ」をつけて表わす）。また、工程１３に示すように、当該電極支持面２上に裏面側を研磨仕上げした新支持面形成部材３Ａ’を重ね合わせ、それら旧支持面形成部材３Ａと新支持面形成部材３Ａ’とを溶接により接合する。工程１４に示すように、その接合後の新支持面形成部材３Ａ’の上面を研磨して新しい電極支持面２（２ｐ’）として使用すればよい。新支持面形成部材３Ａ’と旧支持面形成部材３Ａとの接触面（２ｐ，２ｐ’）が研磨により平滑化されているので接触抵抗も低く、溶接接合により両者の導通を確実に取ることができる。

図４において、上記の溶接は、旧支持面形成部材３Ａと新支持面形成部材３Ａ’との重ね合わせ面の幅方向両縁に沿って開先部２ｊを形成し、当該開先部２ｊを溶接ビード２ｗで充填する形で行なわれている。メンテナンス用に用意する支持面形成部材３Ａは形状及び寸法をそろえておくことが、支持面形成部材３Ａの製造及び管理を容易化する上で当然望ましい。すると、旧支持面形成部材３Ａと新支持面形成部材３Ａ’とは重ね合わせたときに幅方向の側面が面一となる。そこで、上記のように重ね合わせ面の幅方向両縁に開先部２ｊを作って肉盛形態で溶接ビードを形成することで、旧支持面形成部材３Ａと新支持面形成部材３Ａ’との溶接接合をより確実に行なうことができる。

なお、以上説明した実施形態において、消耗性Ｓｎ電極ブロックは、メッキ浴中にてＳｎメッキ用電極支持体により下側から支持されるようになっていたが、図６に示すように、メッキ浴外に配置されたＳｎメッキ用電極支持体２０３に消耗性Ｓｎ電極ブロック２２０の上端を懸架状態にて支持させるようにしてもよい。図６は、鋼帯Ｓの両面にＳｎメッキを連続的に施すラインの一例を示すもので、鋼帯Ｓが、コンダクタロール２０１（メッキ浴外）及びシンクロール２０２（メッキ浴内）により、つづら折れ状に方向転換されつつ、メッキ槽２００内のメッキ浴ＥＬ（例えば、フェロスタン浴である）中を長手方向に連続搬送される。また、メッキ槽２００の下流側にはドラッグアウト２１０が設けられている。図７に示すように、Ｓｎメッキ用電極支持体は、メッキ槽２００の上方にて鋼帯Ｓの幅方向に配置された長尺のアノードブリッジ２０３であり、Ｃｕ系心材２０３Ｃの表面をＴｉ又はＴｉ合金製のライニング２０３Ｌにて覆ったものである。消耗性Ｓｎ電極ブロック２２０の上端には、アノードブリッジ２０３への懸架部２２０ｈが突出形成されており、図８に示すように、各消耗性Ｓｎ電極ブロック２２０は、新しい電極ブロック２２０ｎの補充に伴い、該懸架部２２０ｈにてアノードブリッジ２０３上を摺動形態で移動する。また、各消耗性Ｓｎ電極ブロック２２０の下端部は、メッキ浴中に配置される補助支持部２０４にて支持される（本実施形態では、補助支持部２０４は、Ｔｉ又はＴｉ合金製の板材にて構成されるとともに、消耗性Ｓｎ電極ブロック２２０の下端部が上方から挿入される挿入支持孔２０４ｈを有している）。

本発明のＳｎメッキ用電極の一例を示す正面図。 図１のＣ−Ｃ断面図。 図１のＳｎメッキ用電極における消耗性Ｓｎ電極ブロックの交換工程を説明する図。 図１のＳｎメッキ用電極のメンテナンス作業に係る工程説明図。 図１のメッキ用電極支持体の斜視図。 メッキ浴外にＳｎメッキ用電極支持体を配置する実施形態を示す模式図。 図６のＳｎメッキ用電極支持体に対する消耗性Ｓｎ電極ブロックの懸架支持形態を示す模式図。 図７の支持形態を平面視にて示す模式図。

符号の説明

１ Ｓｎメッキ用電極
２ 電極支持面
３Ａ 支持面形成部材
３Ｂ ベース板材
３ｗ 溶接部
５ メッキ用電極支持体
６ Ｃｕ系心材
６Ａ 心材本体部
６Ｂ 給電心材部
７ ライニング層
８ メッキ用給電部
９ ベースフレーム部
１０ メッキ液流通孔
１１ 本体部
１２ 給電延出部
２０ 消耗性Ｓｎ電極ブロック
ＳＰ 基準平面
ＧＰ 傾斜平面
２００ メッキ槽
２０１ コンダクタロール
２０２ シンクロール
２０３ アノードブリッジ（Ｓｎメッキ用電極支持体）
２０４ 補助支持部
２０４ｈ 挿入支持孔
２０３Ｃ Ｃｕ系心材
２０３Ｌ ライニング
２２０ 消耗性Ｓｎ電極ブロック
２２０ｈ 懸架部
ＥＬ メッキ浴

Claims (13)

1. 電解Ｓｎメッキの消耗性Ｓｎ電極ブロックを被メッキ物と対向させて支持するとともに、前記消耗性Ｓｎ電極ブロックを支持するための電極支持面をＴｉ系金属にて構成し、
   前記Ｔｉ系金属の中実ムク材からなり前記電極支持面が形成される支持面形成部材と、該支持面形成部材が溶接接合される本体部とを有することを特徴とするＳｎメッキ用電極支持体。
2. 前記消耗性Ｓｎ電極ブロックを前記電極支持面に沿って摺動可能に配置して使用される請求項１記載のＳｎメッキ用電極支持体。
3. 前記Ｔｉ系金属はＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定されたＴｉ又はＴｉ合金である請求項１又は請求項２に記載のＳｎメッキ用電極支持体。
4. 前記電極支持面が前記メッキ浴中に浸漬された状態で使用される請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のＳｎメッキ用電極支持体。
5. 前記電極支持面を含む前記メッキ浴中に浸漬される部分がＴｉ系金属にて構成されている請求項４に記載のＳｎメッキ用電極支持体。
6. 前記支持面形成部材及び前記本体部がメッキ浴中に浸漬された状態で、前記消耗性Ｓｎ電極ブロックを前記電極支持面にて下側から支持する形で使用され、
   前記本体部は、Ｃｕ系心材と、該Ｃｕ系心材の表面を覆うＴｉ系金属からなる耐食性被覆材とを有し、前記支持面形成部材が該耐食性被覆材に溶接接合されてなる請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のＳｎメッキ用電極支持体。
7. 前記支持面形成部材は、主表面に前記電極支持面が形成され、主裏面が前記本体部に密着配置される板状に形成され、該主裏面の周縁部にて前記本体部に溶接接合されている請求項６記載のＳｎメッキ用電極支持体。
8. 前記支持面形成部材は、前記電極支持面上にて複数の前記消耗性Ｓｎ電極ブロックを板面長手方向に密接配列させた形で支持するとともに、該消耗性Ｓｎ電極ブロックの配列方向に長手方向を一致させた長尺形態を有し、
   前記本体部は前記支持面形成部材に対応した長尺形態を有するとともに、前記耐食性被覆材は、前記支持面形成部材よりも広幅に形成され前記Ｃｕ系心材の上面に密着配置されるベース板材と、該ベース板材よりも薄く形成され前記Ｃｕ系心材の側面及び下面を覆うライニング層とからなり、
   前記支持面形成部材は、該支持面形成部材の幅方向両側面が前記ベース板材の幅方向両側面よりも内側に位置するように該ベース板材の主表面上に密着配置され、かつ該支持面形成部材の主裏面両縁に沿って各々形成される溶接部により前記ベース板材の前記主表面に接合される請求項７記載のＳｎメッキ用電極支持体。
9. 前記ベース板材がＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定されたＪＩＳ２種工業用純チタンにより構成され、前記ライニング層がＪＩＳ：Ｈ４６００（２００１）に規定されたＪＩＳ１種工業用純チタンにより構成される請求項８記載のＳｎメッキ用電極支持体。
10. 前記ライニング層は、前記Ｃｕ系心材の側面を覆う部分の上縁に沿って形成される溶接部により、前記ベース板材の側面に接合されている請求項９記載のＳｎメッキ用電極支持体。
11. 請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載のＳｎメッキ用電極支持体の使用方法であって、
    前記支持面形成部材は前記電極支持面が損傷した場合に研磨補修して使用されることを特徴とするＳｎメッキ用電極支持体の使用方法。
12. 前記研磨補修により前記支持面形成部材の厚みが減じられた場合に、その厚みの減じた古い支持面形成部材上に重ね合わせて溶接する形で新しい支持面形成部材が継ぎ足し補充して使用される請求項１１記載のＳｎメッキ用電極支持体の使用方法。
13. 前記新しい支持面形成部材は側面下縁に沿って形成される溶接部により前記古い支持面形成部材の側面上縁に接合される請求項１２記載のＳｎメッキ用電極支持体の使用方法。

Images