JP4891830B2 - 電子顕微鏡用試料ホルダおよび観察方法 - Google Patents
電子顕微鏡用試料ホルダおよび観察方法 Download PDFInfo
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Description
図1に、本実施例の構成を示す。
(実施例2)
本実施例の構成は、実施例1と類似である。ただし、Ti薄膜101の膜厚を150nmとし、かつ、その開口部の直径を200nmとした点が異なる(図5)。
(実施例3)
本実施例によるホルダの構造を図6に示す。本実施例の構成は、実施例1と類似である。ただし、開口部の側面に、抗体112を配置した点が異なる。
(実施例4)
本実施例によるホルダの構造を図8に示す。開口部を形成した薄膜130の内側に、抗体112を配置した。本構造の作製方法は、実施例3の場合と類似である。また、利用方法も、実施例3と同様である。
(実施例5)
本実施例では、実施例1に記載のホルダの開口部に、タンパク質を含んだ水を入れた後、試料を急速冷却するための自動処理装置を示す。構成を、図9に示す。
(実施例6)
本実施例は、実施例5と類似である。ただし、タンパク質110などを含んだ水111の膜厚を測定するために、光源144と分光器145のかわりに光学顕微鏡150を配置した点が異なる(図10)。
Claims (4)
- 開口部を有する薄膜と、
前記開口部の内側あるいは周辺に配置された、抗体あるいはアプタマー
を備えたことを特徴とする電子顕微鏡用試料ホルダ。 - 間に金属を配置することにより、前記薄膜に対して抗体あるいはアプタマーを固定することを特徴とする請求項1記載の電子顕微鏡用試料ホルダ。
- 請求項1に記載の電子顕微鏡用試料ホルダに対して、気体を吹き付けることにより、開口部以外の水分を除去する工程を含む観察方法。
- 請求項3において、水分を除去する際に、水の膜厚に対応した干渉色を計測することにより、残留の水分量を制御する工程を含む観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007108861A JP4891830B2 (ja) | 2007-04-18 | 2007-04-18 | 電子顕微鏡用試料ホルダおよび観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007108861A JP4891830B2 (ja) | 2007-04-18 | 2007-04-18 | 電子顕微鏡用試料ホルダおよび観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008267889A JP2008267889A (ja) | 2008-11-06 |
JP4891830B2 true JP4891830B2 (ja) | 2012-03-07 |
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ID=40047603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4891830B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105531792B (zh) | 2013-08-13 | 2019-05-28 | 医药研究委员会 | 包括多孔金属箔的电子显微镜样品支架 |
EP3062082B1 (en) * | 2015-02-25 | 2018-04-18 | Fei Company | Preparation of sample for charged-particle microscopy |
GB201613173D0 (en) * | 2016-07-29 | 2016-09-14 | Medical Res Council | Electron microscopy |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02106670A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-18 | Daikin Ind Ltd | 冷凍装置 |
JP2781320B2 (ja) * | 1993-01-18 | 1998-07-30 | 株式会社蛋白工学研究所 | 電子顕微鏡等の試料ホルダ |
JPH0784099A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-31 | Nikon Corp | X線顕微鏡用試料カプセル |
JP2982721B2 (ja) * | 1996-11-22 | 1999-11-29 | 日本電気株式会社 | 薄膜試料作製法 |
JP3542884B2 (ja) * | 1997-03-31 | 2004-07-14 | 日本電子株式会社 | 試料観察装置用冷却装置 |
JP2000019717A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検査装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP2002148188A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-22 | Aisin Seiki Co Ltd | ダニアレルゲン計測方法、ダニアレルゲン用の被検査物、及びダニアレルゲン計測装置 |
JP4505287B2 (ja) * | 2003-08-27 | 2010-07-21 | パナソニック株式会社 | マイクロチップ並びにその製造方法及びそれを用いた検査方法 |
JP2007139510A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Yamaha Motor Co Ltd | 微細構造を有する試料支持体およびその製造方法 |
WO2008109406A1 (en) * | 2007-03-02 | 2008-09-12 | Protochips, Inc. | Membrane supports with reinforcement features |
-
2007
- 2007-04-18 JP JP2007108861A patent/JP4891830B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JP2008267889A (ja) | 2008-11-06 |
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