JP4890665B2 - 電極−膜−枠接合体及びその製造方法、並びに燃料電池 - Google Patents
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Description
次いで、図26Bに示すように、一次成形体102A上にMEA101を配置する。
本発明の第1態様によれば、高分子電解質膜の第1の主面に配置された第1触媒層と、前記第1触媒層の主面に配置された第1ガス拡散層と、前記電解質膜の第2の主面に配置された第2触媒層と、前記第2触媒層の主面に配置された第2ガス拡散層と、を有する膜電極接合体の周縁部に枠体が形成された電極−膜−枠接合体の製造方法であって、
前記製造方法は、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と予め成形された額縁状の形状を有する第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第1の主面側に前記第1成形体を配置する工程と、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と予め成形された額縁状の形状を有する第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第2の主面側に前記第2成形体を配置する工程と、
前記第1成形体を配置する工程及び前記第2成形体を配置する工程の後、前記電解質膜の厚み方向から見て前記第2成形体の外縁部よりも内側に位置する前記電解質膜の第2の主面の内側領域に直接接することなく、前記第1成形体及び前記第2成形体を一体的に接続するように前記第1成形体と前記第2成形体との間に第3成形体を射出成形することにより、前記第1成形体と前記第2成形体と前記第3成形体とを含む前記枠体を形成する工程と、
を含む、電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記枠体を形成する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第3成形体の一部が前記露出する第2触媒層の周縁部の一部とが重なるように、前記第3成形体を射出成形する、第1態様に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記枠体を形成する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第3成形体の一部と前記露出する第1触媒層の周縁部の一部とが重なるように、前記第3成形体を射出成形する、第2態様に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部と前記第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第1成形体を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2触媒層の周縁部と前記第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第2成形体を配置する、第1〜5態様のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記第1成形体を配置する工程、第2成形体を配置する工程、及び前記枠体を形成する工程の前に、
前記第1触媒層の主面に前記第1ガス拡散層を配置する工程と、
前記第2触媒層の主面に前記第2ガス拡散層を配置する工程と、
を含み、
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1ガス拡散層の周縁部より外側に前記第1成形体を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に前記第2成形体を配置する、第1〜7態様のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記第1成形体を配置する工程、第2成形体を配置する工程、及び前記枠体を形成する工程の後に、
前記第1触媒層の主面に前記第1ガス拡散層を配置する工程と、
前記第2触媒層の主面に前記第2ガス拡散層を配置する工程と、
を含み、
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1成形体の内縁部より内側に前記第1ガス拡散層を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2成形体の内縁部より内側に前記第2ガス拡散層を配置する、第1〜7態様のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記第2成形体は、前記第2ガス拡散層と隙間を空けて配置され、
前記枠体を形成する工程の後、前記隙間に弾性体を配置する工程をさらに含む、第8又は9態様に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記枠体は、
第1成形体と第2成形体と第3成形体とを有し、
前記第1成形体は、額縁状の形状を有し、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と少なくとも前記第1成形体の内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第1の主面側に配置され、
前記第2成形体は、額縁状の形状を有し、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と少なくとも前記第2成形体の内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第2の主面側に配置され、
前記第3成形体は、前記第1成形体と前記第2成形体とを一体的に接続するように、前記第1成形体と前記第2成形体との間に配置されている、
電極−膜−枠接合体を提供する。
前記第1成形体を構成する材料は、前記第1触媒層の周縁部の主面に混在しておらず、
前記第2成形体を構成する材料は、前記第2触媒層の周縁部の主面に混在していない、第13又は14態様に記載の電極−膜−枠接合体を提供する。
前記枠体は、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部と前記第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第1成形体が配置され、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2触媒層の周縁部と前記第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第2成形体が配置されている、第13〜16態様のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法を提供する。
前記第2成形体は、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に配置されている、第13〜17態様のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体を提供する。
前記第1及び第2成形体のいずれか他方は、熱可塑性エラストマーで構成されている、
第21態様に記載の電極−膜−枠接合体を提供する。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1〜図5を用いて、本発明の第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を有する燃料電池の構造を説明する。図1は、本第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を有する燃料電池の構造を、一部を分解して模式的に示す斜視図である。図2は、図1のII−II線断面におけるセルの積層断面を、一部を分解して示す図である。図3は、図1の電極−膜−枠接合体の構成を模式的に示す平面図であり、図4は、図3のIV−IV線断面図である。図5は、図1の電極−膜−枠接合体のアノードセパレータ側の表面構造を示す平面図であり、図6は、カソードパレータ側の表面構造を示す平面図である。
また、第3成形体63は、第1成形体61及び第2成形体62よりも圧縮弾性率の低い材料で構成されていてもよい。この場合、第1成形体61及び第2成形体62を圧縮弾性率の低い材料で接続することにより、例えば、ハンドリング時に高分子電解質膜5Aにかかる機械的なストレスを低減できるため、高分子電解質膜5Aの機械的劣化を抑制できる。第3成形体63の好適な材料としては、例えば、後述するガスケット7に用いられる熱可塑性樹脂又は熱可塑性エラストマーと同様の材料を用いることができ、例えば、ガラスフィラーが充填されていないポリプロピレンを用いることができる。
以上により、図4に示す電極−膜−枠接合体1が製造される。
以上により、図4に示す電極−膜−枠接合体1が製造される。
図9は、本発明の第2実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第2実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Aが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、第3成形体63aが第2触媒層5B2の周縁部の主面と接触していない点である。
図10は、本発明の第3実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第3実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Bが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、前記第2実施形態と同様に、第3成形体63bが第2触媒層5B2の周縁部の主面と接触していない点である。
図11は、本発明の第4実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第4実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Cが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、第3成形体63cが第2触媒層5B2の周縁部の主面と接触しておらず、第3成形体63cが第1触媒層5B1側に回り込んで第1触媒層5B1の周縁部の主面の一部と接触するように形成されている点である。
図12は、本発明の第5実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第5実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Dが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、第3成形体63dが第1触媒層5B1側に回り込んで第1触媒層5B1の周縁部の主面の一部と接触するように形成されている点である。
図13は、本発明の第6実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第6実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Eが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、高分子電解質膜5Aの周縁部より第1触媒層5B1の周縁部が内側に形成されている点である。
図15は、本発明の第7実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第7実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Fが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、高分子電解質膜5Aの周縁部より第1触媒層5B1及び第2触媒層5B2の周縁部が内側に形成されている点である。また、第3成形体63fが第1触媒層5B1側に回り込むように設けられている。
図16は、本発明の第8実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第8実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Gが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、高分子電解質膜5Aの周縁部より第1触媒層5B1の周縁部が内側に配置され、かつ、第1触媒層5B1の周縁部と第1成形体61の内縁部とが重ならないように形成されている点である。
図17は、本発明の第9実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第9実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Hが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、高分子電解質膜5Aの周縁部より第2触媒層5B2の周縁部が内側に配置され、かつ、第2触媒層5B2の周縁部と第2成形体62の内縁部とが重ならないように形成されている点である。また、第1触媒層5B1の周縁部の主面の一部が露出するように形成し、第3成形体63hが第1触媒層5B1側に回り込むように形成されている。
図18は、本発明の第10実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第10実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Iが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、第1ガス拡散層5C1の周縁部が第2ガス拡散層5C2の周縁部より外側に配置され、かつ、第1ガス拡散層5C1の周縁部と第2成形体62の内縁部とが重なるように配置されている点である。
図19は、本発明の第11実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第11実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Jが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、高分子電解質膜5Aの厚み方向から見て、第2ガス拡散層5C2の周縁部が第1ガス拡散層5C1の周縁部より外側に配置され、かつ、第2ガス拡散層5C2の周縁部と第1成形体61bの内縁部とが重なるように配置されている点である。
図20は、本発明の第12実施形態にかかる電極−膜−枠接合体の構成を模式的に示す平面図である。図21は、図20のVI−VI線断面図である。本第12実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Kが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、第1成形体61cが第2成形体62と同じ大きさに形成され、それらをつなぐように第3成形体63kが形成されている点である。
以上により、図21に示す電極−膜−枠接合体1Kが製造される。
図23は、本発明の第13実施形態にかかる電極−膜−枠接合体の構成を模式的に示す平面図である。図24は、図23のVIII−VIII線断面図である。本第13実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Lが前記第13実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Kと異なる点は、第1成形体61cの一部と第2成形体62の一部とが、第3成形体63lを射出成形する前に一体的に接続されている点である。すなわち、本第13実施形態においては、第1成形体61cと第2成形体62とが一体成形されている。
図25は、本発明の第14実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第14実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Mが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、枠体6が第1及び第2ガス拡散層5C1,5C2との間に隙間を空けて設けられ、当該隙間を塞ぐようにガスケット7,7から延伸した弾性体の一例である延伸部7C1,7C2が設けられている点である。本第14実施形態において、延伸部7C1,7C2を含むガスケット7全体は、発電部の近くにおいて、高温及び高圧の熱可塑性樹脂が高分子電解質膜5Aに直接接触することが無いような方法で形成されている。例えば、ガスケット7は、予め射出成形された弾性体で構成されている。
図27は、本発明の第16実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第15実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Nが前記第14実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Mと異なる点は、延伸部7C1,7C2により隙間40を塞ぐことに代えて、弾性体71により隙間40を塞ぐようにした点である。
図28は、本発明の第16実施形態にかかる電極−膜−枠接合体を、MEAの周縁部と枠体との接合部分を拡大して示す模式断面図である。本第16実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1Pが前記第1実施形態にかかる電極−膜−枠接合体1と異なる点は、第3成形体63pを構成する樹脂材料の一部が第2成形体62の全部または一部を覆っている点である。このような構成によっても、前記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
Claims (25)
- 高分子電解質膜の第1の主面に配置された第1触媒層と、前記第1触媒層の主面に配置された第1ガス拡散層と、前記電解質膜の第2の主面に配置された第2触媒層と、前記第2触媒層の主面に配置された第2ガス拡散層と、を有する膜電極接合体の周縁部に枠体が形成された電極−膜−枠接合体の製造方法であって、
前記製造方法は、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と予め成形された額縁状の形状を有する第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第1の主面側に前記第1成形体を配置する工程と、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と予め成形された額縁状の形状を有する第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第2の主面側に前記第2成形体を配置する工程と、
前記第1成形体を配置する工程及び前記第2成形体を配置する工程の後、前記電解質膜の厚み方向から見て前記第2成形体の外縁部よりも内側に位置する前記電解質膜の第2の主面の内側領域に直接接することなく、前記第1成形体及び前記第2成形体を一体的に接続するように、前記第1成形体と前記第2成形体との間に第3成形体を射出成形することにより、前記第1成形体と前記第2成形体と前記第3成形体とを含む前記枠体を形成する工程と、
を含む、電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記第2成形体を配置する工程において、前記第2触媒層の周縁部の主面の一部が露出するように前記第2触媒層の周縁部上に前記第2成形体を配置し、
前記枠体を形成する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第3成形体の一部と前記露出する第2触媒層の周縁部の一部とが重なるように、前記第3成形体を射出成形する、請求項1に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記枠体を形成する工程において、前記第3成形体を構成する樹脂材料の一部が前記露出する第2触媒層の周縁部の一部に混在するように、前記第3成形体を射出成形する、請求項2に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。
- 前記第1成形体を配置する工程において、前記第1触媒層の周縁部の主面の一部が露出するように、前記第1触媒層の周縁部上に前記第1成形体を配置し、
前記枠体を形成する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第3成形体の一部と前記露出する第1触媒層の周縁部の一部とが重なるように、前記第3成形体を射出成形する、請求項2に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記枠体を形成する工程において、前記第3成形体を構成する樹脂材料の一部が前記露出する第1触媒層の周縁部の一部に混在するように、前記第3成形体を射出成形する、請求項4に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。
- 前記膜電極接合体は、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部及び前記第2触媒層の周縁部のうち少なくとも一方が、前記電解質膜の周縁部より内側に配置されている、請求項1〜5のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。
- 前記膜電極接合体は、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部が前記第1ガス拡散層の周縁部より外側に配置され、前記第2触媒層の周縁部が前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に配置され、
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部と前記第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第1成形体を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2触媒層の周縁部と前記第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第2成形体を配置する、請求項1〜5のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記製造方法は、
前記第1成形体を配置する工程、前記第2成形体を配置する工程、及び前記枠体を形成する工程の前に、
前記第1触媒層の主面に前記第1ガス拡散層を配置する工程と、
前記第2触媒層の主面に前記第2ガス拡散層を配置する工程と、
を含み、
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1ガス拡散層の周縁部より外側に前記第1成形体を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に前記第2成形体を配置する、請求項1〜7のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記製造方法は、
前記第1成形体を配置する工程、前記第2成形体を配置する工程、及び前記枠体を形成する工程の後に、
前記第1触媒層の主面に前記第1ガス拡散層を配置する工程と、
前記第2触媒層の主面に前記第2ガス拡散層を配置する工程と、
を含み、
前記第1成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1成形体の内縁部より内側に前記第1ガス拡散層を配置し、
前記第2成形体を配置する工程において、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2成形体の内縁部より内側に前記第2ガス拡散層を配置する、請求項1〜7のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記枠体を形成する工程においては、前記第3成形体を構成する樹脂材料の一部が前記第2ガス拡散層の周縁部に混在するように射出成形される、請求項8又は9に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。
- 前記第1成形体は、前記第1ガス拡散層と隙間を空けて配置され、
前記第2成形体は、前記第2ガス拡散層と隙間を空けて配置され、
前記枠体を形成する工程の後、前記隙間に弾性体を配置する工程をさらに含む、請求項8〜10のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。 - 前記第1成形体と前記第2成形体とは、前記第3成形体により接続される前に、それらの一部が接続されるように一体成形されている、請求項1に記載の電極−膜−枠接合体の製造方法。
- 高分子電解質膜の第1の主面に配置された第1触媒層と、前記第1触媒層の主面に配置された第1ガス拡散層と、前記電解質膜の第2の主面に配置された第2触媒層と、前記第2触媒層の主面に配置された第2ガス拡散層と、を有する膜電極接合体の周縁部に枠体が形成された電極−膜−枠接合体であって、
前記枠体は、
第1成形体と第2成形体と第3成形体とを有し、
前記第1成形体は、額縁状の形状を有し、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と少なくとも前記第1成形体の内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第1の主面側に配置され、
前記第2成形体は、額縁状の形状を有し、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記電解質膜の周縁部と少なくとも前記第2成形体の内縁部とが重なるように、前記電解質膜の第2の主面側に配置され、
前記第3成形体は、前記第1成形体と前記第2成形体とを一体的に接続するように、前記第1成形体と前記第2成形体との間に配置されている、
電極−膜−枠接合体。 - 前記枠体は、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層及び前記第2触媒層の周縁部の一部のうち少なくとも一方と前記第3成形体の一部とが重なるように配置されている、請求項13に記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記第3成形体を構成する樹脂材料の一部は、前記第1触媒層の周縁部の主面の一部及び第2触媒層の周縁部の主面の一部のうち少なくとも一方に混在しており、
前記第1成形体を構成する材料は、前記第1触媒層の周縁部の主面に混在しておらず、
前記第2成形体を構成する材料は、前記第2触媒層の周縁部の主面に混在していない、請求項13又は14に記載の電極−膜−枠接合体。 - 前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部及び前記第2触媒層の周縁部のうち少なくとも一方が、前記電解質膜の周縁部より内側に配置されている、請求項13〜15のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部が前記第1ガス拡散層の周縁部より外側に配置され、前記第2触媒層の周縁部が前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に配置され、
前記枠体は、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1触媒層の周縁部と前記第1成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第1成形体が配置され、
前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2触媒層の周縁部と前記第2成形体の少なくとも内縁部とが重なるように、前記第2成形体が配置されている、請求項13〜16のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体。 - 前記第1成形体は、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第1ガス拡散層の周縁部より外側に配置され、
前記第2成形体は、前記電解質膜の厚み方向から見て、前記第2ガス拡散層の周縁部より外側に配置されている、請求項13〜17のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体。 - 前記第1及び第2成形体のうち少なくとも一方は、前記第1及び第2ガス拡散層のうち少なくとも一方と隙間を空けて配置され、当該隙間と当該隙間に隣接する前記第1及び第2成形体のうち少なくとも一方とを覆うように弾性体が配置されている、請求項18に記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記弾性体は、前記弾性体を構成する樹脂材料の一部が、前記隙間に隣接する第1及び第2ガス拡散層のうち少なくとも一方の周縁部に混在している、請求項19に記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記第2成形体を構成する樹脂材料の硬度は、前記第1成形体を構成する樹脂材料の硬度よりも低い、請求項13に記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記第1及び第2成形体のいずれか一方は、熱可塑性樹脂で構成され、
前記第1及び第2成形体のいずれか他方は、熱可塑性エラストマーで構成されている、
請求項21に記載の電極−膜−枠接合体。 - 前記第1及び第2成形体のうち少なくとも一方は、熱可塑性樹脂層と熱可塑性エラストマー層とを含む複層構造で構成されている、請求項13に記載の電極−膜−枠接合体。
- 前記熱可塑性エラストマー層が前記第1又は第2触媒層の周縁部と接触するように構成されている、請求項23に記載の電極−膜−枠接合体。
- 請求項13〜24のいずれか1つに記載の電極−膜−枠接合体を備える燃料電池。
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