JP4887395B2 - リソグラフィ装置及びリソグラフィ方法 - Google Patents
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Description
放射ビームPB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整する照明系(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、要素PLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めする第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造(例えば支持構造)MTと、
基板(例えばレジストでコーティングされたウエーハ)Wを保持し、要素PLに対して基板を正確に位置決めする第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウエーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つ以上のダイからなる)露光領域Cに投影するよう構成されている投影系(例えば屈折投影レンズ)PLと、を備える。
Claims (7)
- マスクレスリソグラフィ装置であって、
パルス化されている放射ビームを調整する照明系と、
放射ビームの断面にパターンを与えるプログラム可能パターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターンが与えられた放射ビームを基板に投影する投影系と、を備え、
前記照明系は、放射ビームの偏光を調整する偏光子と、該偏光子によって偏光が調整された放射ビームの前記照明系の瞳面での分布を調整する瞳面分布アジャスタと、該瞳面分布アジャスタによって調整された放射ビームを前記プログラム可能パターニングデバイスに合焦させる結合光学系と、を備え、前記照明系の瞳面は前記結合光学系の前側焦点面に実質的に一致しており、
前記偏光子は、放射ビームの偏光を制御するポッケルスセルを備え、
前記瞳面分布アジャスタは、前記ポッケルスセルによって偏光が制御された放射ビームの前記照明系の瞳面での分布を制御する個別的に制御可能な反射性素子のアレイを備え、該個別的に制御可能な反射性素子のアレイは、ミラーアレイを備え、
前記マスクレスリソグラフィ装置は、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイを動作させるコントローラをさらに備え、
前記コントローラは、前記プログラム可能パターニングデバイスに第1の露光のための第1のパターンが存在するときに、連続する複数の放射パルスを含む継続時間第1の偏光状態及び第1の双極瞳面分布が放射ビームに与えられ、連続する複数の放射パルスを含む継続時間第2の偏光状態及び第2の双極瞳面分布が放射ビームに与えられ、パルス間隔において第1の偏光状態及び第1の双極瞳面分布と第2の偏光状態及び第2の双極瞳面分布とが切り替えられるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第1の偏光状態は、TE偏光及びTM偏光の一方であり、前記第2の偏光状態は、TE偏光及びTM偏光の他方であり、
前記コントローラは、前記第1の露光のために、前記第1の偏光状態及び第1の双極瞳面分布と、前記第2の偏光状態及び第2の双極瞳面分布と、第3の偏光状態及び第3の瞳面分布とに切り替えられるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させ、
前記第3の偏光状態は、TE偏光とTM偏光との間の直線偏光であり、前記第3の瞳面分布は、瞳面分布の中央に放射をもつことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、前記第1の露光のために、各々が異なる偏光状態である4つの双極瞳面分布に切り替えられるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させることを特徴とする請求項1または2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記反射性素子のアレイの個々の反射性素子に入射し当該反射性素子により反射されたサブビームが所望の方向に向けられるように各反射性素子の反射表面の回転角度を制御し、
前記瞳面分布アジャスタは、前記反射性素子のアレイの大きさに相当する大きさにビームサイズを大きくするビーム発散光学系と、各反射性素子からのサブビームが前記照明系の瞳面において所望の点または領域に入射するように当該サブビームの方向を変えるための方向変更光学系と、を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - 前記コントローラは、偏光状態の切替開始前に瞳面分布の切替を開始することにより、第1の偏光状態から第2の偏光状態への切替完了と、第1の瞳面分布から第2の瞳面分布への切替完了とが実質的に同時となるようにすることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記プログラム可能パターニングデバイスは、二重露光によりダブルパターニングを行うために、第1の露光のための第1のパターンから第2の露光のための第2のパターンに変更可能であり、
前記コントローラは、前記第1のパターンから第2のパターンへの変更に要する時間に、偏光状態及び瞳面分布を切り替えることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。 - マスクレスリソグラフィ装置を使用するマスクレスリソグラフィ方法であって、該マスクレスリソグラフィ装置は、
パルス化されている放射ビームを調整する照明系と、
放射ビームの断面にパターンを与えるプログラム可能パターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
パターンが与えられた放射ビームを基板に投影する投影系と、を備え、
前記照明系は、放射ビームの偏光を調整する偏光子と、該偏光子によって偏光が調整された放射ビームの前記照明系の瞳面での分布を調整する瞳面分布アジャスタと、該瞳面分布アジャスタによって調整された放射ビームを前記プログラム可能パターニングデバイスに合焦させる結合光学系と、を備え、前記照明系の瞳面は前記結合光学系の前側焦点面に実質的に一致しており、
前記偏光子は、放射ビームの偏光を制御するポッケルスセルを備え、
前記瞳面分布アジャスタは、前記ポッケルスセルによって偏光が制御された放射ビームの前記照明系の瞳面での分布を制御する個別的に制御可能な反射性素子のアレイを備え、該個別的に制御可能な反射性素子のアレイは、ミラーアレイを備え、
前記マスクレスリソグラフィ装置は、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイを動作させるコントローラをさらに備えており、
前記方法は、
前記コントローラを使用して、前記プログラム可能パターニングデバイスに第1の露光のための第1のパターンが存在するときに、連続する複数の放射パルスを含む継続時間第1の偏光状態及び第1の双極瞳面分布を放射ビームに与えるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させことと、
前記コントローラを使用して、前記プログラム可能パターニングデバイスに前記第1のパターンが存在するときに、パルス間隔において第1の偏光状態及び第1の双極瞳面分布から第2の偏光状態及び第2の双極瞳面分布に切り替えるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させることと、
前記コントローラを使用して、連続する複数の放射パルスを含む継続時間第2の偏光状態及び第2の双極瞳面分布を放射ビームに与えるように、前記ポッケルスセル及び前記個別的に制御可能な反射性素子のアレイの動作を整合させることと、を含むことを特徴とする方法。
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