JP4883589B2 - アニール炉 - Google Patents
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- 238000000137 annealing Methods 0.000 title claims description 41
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 23
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Hall/Mr Elements (AREA)
Description
(1)ヒータによって素子を効果的に加熱し、ヒータの熱が外部に伝わらないようにする。
(2)冷却についても、速やかに冷却が行えるようにする。
(3)素子を簡単に交換可能に支持できるようにする。
本発明のアニール炉1の実施例の作用を説明する。磁気アニール処理を行う場合は、処理されるべき素子19をサンプルホルダー7のスリット18内に挿入する。そして、マグネット2に対して素子19の向きが所定の方向になるように、サンプルホルダー7を載置台20の位置決め溝21内に入れて位置決めしてアニール炉1のヒートパイプ6の内側内に、図1に示すように装架する。
2 マグネット
3 真空槽
4 ラジエーションシールド
5 ヒータ
6 ヒートパイプ(冷却手段)
7 サンプルホルダー
8 窒素供給源
9、13、16、17 バルブ
10 供給配管
11 排気管
12 真空ポンプ
18 スリット
19 素子(サンプル)
20 載置台
21 位置決め溝
30 アニール炉
31 素子(サンプル)
32 真空槽
33 ヒータ
34 マグネット
35 断熱材
36 冷却水用パイプ
Claims (5)
- マグネットと、前記マグネットにより発生する磁場内に置かれた真空槽と、前記真空槽内に設けられたラジエーションシールドと、前記ラジエーションシールドで囲まれた空間内に設けられたヒータと、前記ヒータの内側に設けられたヒートパイプを備える冷却手段と、前記冷却手段で囲まれた空間に配置され、処理すべき素子を支持するサンプルホルダーを載置する載置台とを備え、
前記ヒータにより加熱された前記素子を真空状態に保ったまま前記ヒートパイプにより冷却することを特徴とするアニール炉。 - 前記ヒートパイプによる冷却は、真空排気された前記ヒートパイプ内に窒素又は空気供給源から窒素又は空気を供給することによることを特徴とする請求項1記載のアニール炉。
- 前記サンプルホルダーは、直方体形状の金属製ブロックから構成されており、その一面に、処理すべき前記素子を挿入することのできるスリットが形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のアニール炉。
- 前記載置台は、その上面に位置決め溝が形成されており、該溝に前記サンプルホルダーの側面の向きを選択的に変えて位置決めして載置することが可能な構成としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のアニール炉。
- 前記ヒータで前記素子をキューリー点以上に加熱して前記素子の磁化を消滅させてから、磁場をかけながら前記冷却手段で前記素子を降温することにより前記素子の磁化方向を揃えることが可能な構成としたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のアニール炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008213536A JP4883589B2 (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | アニール炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008213536A JP4883589B2 (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | アニール炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010050301A JP2010050301A (ja) | 2010-03-04 |
JP4883589B2 true JP4883589B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=42067150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008213536A Expired - Fee Related JP4883589B2 (ja) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | アニール炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4883589B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6134172B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2017-05-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 磁気アニール装置 |
JP6412839B2 (ja) * | 2015-08-28 | 2018-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 磁化処理装置及び磁化処理方法 |
JP6532360B2 (ja) * | 2015-09-16 | 2019-06-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01102690A (ja) * | 1987-10-15 | 1989-04-20 | Alps Electric Co Ltd | コード認識方式 |
JPH0820182B2 (ja) * | 1988-05-18 | 1996-03-04 | 株式会社島津製作所 | 焼結炉 |
JP3215599B2 (ja) * | 1995-06-02 | 2001-10-09 | 東芝セラミックス株式会社 | 熱処理用基板保持具、熱処理方法および熱処理装置 |
JP3693739B2 (ja) * | 1996-03-07 | 2005-09-07 | 財団法人電力中央研究所 | 高周波誘導加熱炉 |
JP3874151B2 (ja) * | 1999-05-13 | 2007-01-31 | 石川島播磨重工業株式会社 | 加熱装置 |
JP4389194B2 (ja) * | 2002-09-27 | 2009-12-24 | 日立金属株式会社 | 磁場中熱処理炉 |
JP2004359512A (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | ワーク整列用治具、ワーク整列装置およびワーク整列方法 |
-
2008
- 2008-08-22 JP JP2008213536A patent/JP4883589B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010050301A (ja) | 2010-03-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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