JP4861284B2 - X線回折装置およびx線回折方法 - Google Patents
X線回折装置およびx線回折方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4861284B2 JP4861284B2 JP2007253425A JP2007253425A JP4861284B2 JP 4861284 B2 JP4861284 B2 JP 4861284B2 JP 2007253425 A JP2007253425 A JP 2007253425A JP 2007253425 A JP2007253425 A JP 2007253425A JP 4861284 B2 JP4861284 B2 JP 4861284B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- diffraction
- flat
- plane
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Journal of Synchrotron Radiation (1996), 3, 75-83 Journal of Research of the National Institute of Standards and Technology, 109, 133-142 (2004)
12 多層膜ミラー
13 チャンネルカットモノクロメータ
14 試料ホルダー
16 ソーラースリット
18 ミラー
19 反射面
20 X線検出器
22 発散ビーム
24a 平行ビーム
24 平行ビーム(入射X線)
26 試料
28 回折X線
30 受光光学系
Claims (4)
- 平行ビームのX線を試料に照射して、試料からの回折X線を、回折現象を用いたミラーで反射させてからX線検出器で検出するX線回折装置において、
前記ミラーの反射面は複数の平坦反射面の組み合わせからなり、回折平面に平行な平面内において、各平坦反射面の中心点と試料とを結ぶ線分と、その平坦反射面とのなす角度が、すべての平坦反射面において一定であり、かつ、各平坦反射面において反射に寄与する結晶格子面がその平坦反射面に平行になっていて、
前記X線検出器は、回折平面に平行な平面内において1次元の位置感応型であり、
回折平面に平行な平面内において、異なる前記平坦反射面で反射した反射X線が、前記X線検出器の異なる地点にそれぞれ到達するように、前記複数の平坦反射面と前記X線検出器との相対位置関係が定められている、
ことを特徴とするX線回折装置。 - 請求項1に記載のX線回折装置において、前記複数の平坦反射面の中心点は、回折平面に平行な平面内において前記試料の表面上に中心を有する等角螺旋の上に位置することを特徴とするX線回折装置。
- 平行ビームからなるX線を試料に照射して、試料からの回折X線を、回折現象を用いたミラーで反射させてからX線検出器で検出するX線回折方法において、
前記ミラーの反射面は複数の平坦反射面の組み合わせからなり、回折平面に平行な平面内において、各平坦反射面の中心点と試料とを結ぶ線分と、その平坦反射面とのなす角度が、すべての平坦反射面において一定であり、かつ、各平坦反射面において反射に寄与する結晶格子面がその平坦反射面に平行になっていて、
前記X線検出器は、回折平面に平行な平面内において1次元の位置感応型であり、
回折平面に平行な平面内において、異なる前記平坦反射面で反射した反射X線が、前記X線検出器の異なる地点にそれぞれ到達するように、前記複数の平坦反射面と前記X線検出器との相対位置関係が定められていて、
異なる回折角度を有する複数の前記回折X線を前記ミラーを介して前記X線検出器で別個に、かつ、同時に検出する、
ことを特徴とするX線回折方法。 - 請求項3に記載のX線回折方法において、前記複数の平坦反射面の中心点は、回折平面に平行な平面内において前記試料の表面上に中心を有する等角螺旋の上に位置することを特徴とするX線回折方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007253425A JP4861284B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | X線回折装置およびx線回折方法 |
US12/190,790 US7801272B2 (en) | 2007-09-28 | 2008-08-13 | X-ray diffraction apparatus and X-ray diffraction method |
EP08015139A EP2042860B1 (en) | 2007-09-28 | 2008-08-27 | X-ray diffraction apparatus and x-ray diffraction method |
EP11000547.7A EP2306179B1 (en) | 2007-09-28 | 2008-08-27 | X-ray diffraction apparatus and x-ray diffraction method |
CN2008101799209A CN101403713B (zh) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | X射线衍射装置以及x射线衍射方法 |
RU2008138456/28A RU2449262C2 (ru) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | Рентгенодифракционная установка и способ рентгеновской дифракции |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007253425A JP4861284B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | X線回折装置およびx線回折方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009085669A JP2009085669A (ja) | 2009-04-23 |
JP4861284B2 true JP4861284B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=40659298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007253425A Expired - Fee Related JP4861284B2 (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | X線回折装置およびx線回折方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4861284B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4971383B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2012-07-11 | 株式会社リガク | X線回折方法及びx線回折装置 |
WO2011002037A1 (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-06 | 株式会社リガク | X線装置、その使用方法およびx線照射方法 |
JP6322172B2 (ja) * | 2015-09-11 | 2018-05-09 | 株式会社リガク | X線小角光学系装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2867523B2 (ja) * | 1990-01-13 | 1999-03-08 | 株式会社島津製作所 | X線回折装置 |
JPH0461428A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波信号切換え回路 |
JPH04198745A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-07-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | X線回折方法 |
JPH04164239A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-09 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 粉末x線回折計 |
JPH04329347A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-18 | Rigaku Corp | 薄膜試料x線回折装置 |
DE19833524B4 (de) * | 1998-07-25 | 2004-09-23 | Bruker Axs Gmbh | Röntgen-Analysegerät mit Gradienten-Vielfachschicht-Spiegel |
JP3944330B2 (ja) * | 1999-04-12 | 2007-07-11 | 株式会社リガク | X線回折装置及びx線ロッキングカーブの測定方法 |
JP3726080B2 (ja) * | 2002-05-23 | 2005-12-14 | 株式会社リガク | 多結晶材料の配向性の評価方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007253425A patent/JP4861284B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009085669A (ja) | 2009-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4861283B2 (ja) | X線回折装置およびx線回折方法 | |
JP4971383B2 (ja) | X線回折方法及びx線回折装置 | |
US7801272B2 (en) | X-ray diffraction apparatus and X-ray diffraction method | |
TWI254794B (en) | X-ray diffraction apparatus | |
JP5009563B2 (ja) | 試料の検査方法および装置 | |
KR102243222B1 (ko) | 빔 생성 유닛 및 x선 소각 산란 장치 | |
JP3726080B2 (ja) | 多結晶材料の配向性の評価方法 | |
WO2013108876A1 (ja) | X線回折装置 | |
JP4861284B2 (ja) | X線回折装置およびx線回折方法 | |
US9640292B2 (en) | X-ray apparatus | |
CN105008904A (zh) | 用于使用平面内掠入射衍射进行表面标测的方法和装置 | |
US8488740B2 (en) | Diffractometer | |
Buchanan et al. | Effective modeling of high-energy laboratory-based x-ray phase contrast imaging utilizing absorption masks or gratings | |
US8744046B2 (en) | Method and apparatus of precisely measuring intensity profile of X-ray nanobeam | |
Kern | Basic design principles and instrument geometry considerations | |
Toraya | High-performance compact-multi-crystal analyzer for X-ray diffractometer scans | |
JP2000206059A (ja) | X線回折装置及びx線回折測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111021 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |