JP4846285B2 - Substrate fixing tray and substrate alignment system using the same - Google Patents
Substrate fixing tray and substrate alignment system using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP4846285B2 JP4846285B2 JP2005202322A JP2005202322A JP4846285B2 JP 4846285 B2 JP4846285 B2 JP 4846285B2 JP 2005202322 A JP2005202322 A JP 2005202322A JP 2005202322 A JP2005202322 A JP 2005202322A JP 4846285 B2 JP4846285 B2 JP 4846285B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- frame
- substrate fixing
- tray
- tray according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 667
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 49
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 41
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 41
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 19
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 0 *CC1(*)CCCC1 Chemical compound *CC1(*)CCCC1 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68728—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/04—Fixed inductances of the signal type with magnetic core
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/70—Arrangements for deflecting ray or beam
- H01J29/72—Arrangements for deflecting ray or beam along one straight line or along two perpendicular straight lines
- H01J29/76—Deflecting by magnetic fields only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68735—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge profile or support profile
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting substrates others than wafers, e.g. chips
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/70—Electron beam control outside the vessel
- H01J2229/703—Electron beam control outside the vessel by magnetic fields
- H01J2229/7031—Cores for field producing elements, e.g. ferrite
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/136—Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/53—Means to assemble or disassemble
- Y10T29/5313—Means to assemble electrical device
- Y10T29/53265—Means to assemble electrical device with work-holder for assembly
Description
本発明は、基板固定トレイ及びこれを利用した基板整列システム及びその方法に関し、より詳細には、真空工程用鉛直基板固定トレイの平板面上に、前記基板が固定支持されるように少なくとも一部分以上基板固定手段を含んで構成し、鉛直配置された基板を固定及び支持して高精密の整列が可能で、かつ安定した蒸着工程がなされるようにした基板固定トレイに関する。 The present invention relates to a substrate fixing tray, a substrate alignment system using the same, and a method thereof, and more specifically, at least a part of the substrate is fixed and supported on a flat plate surface of a vertical substrate fixing tray for a vacuum process. The present invention relates to a substrate fixing tray configured to include a substrate fixing means, and to fix and support a vertically arranged substrate so that high-precision alignment is possible and a stable deposition process is performed.
一般に、薄膜蒸着工程には大きく分けて真空中で蒸着する方法と、大気圧中で蒸着する方法等がある。前記方法の中で、真空で薄膜を蒸着する方法は、異物の介入なしに高純度の薄膜を形成することができ、薄膜の密度が相対的に密集されるように蒸着することができ、半導体及び表示素子分野で広く使用されている。 In general, the thin film deposition process is roughly divided into a method of vapor deposition in vacuum and a method of vapor deposition in atmospheric pressure. Among the above methods, the method of depositing a thin film in a vacuum can form a high-purity thin film without intervention of foreign substances, and can be deposited so that the density of the thin film is relatively dense. And widely used in the display element field.
従来では、真空の中で薄膜蒸着工程を行うとき、工程チャンバの容積の限界及び工程チャンバに装入することができる基板面積の制限などによって回分式工程によって薄膜を蒸着して来た。 Conventionally, when a thin film deposition process is performed in a vacuum, a thin film is deposited by a batch process due to a limit of the volume of the process chamber and a limitation of a substrate area that can be loaded into the process chamber.
このような従来の基板を固定及び支持する手段とその方法は、図面を参照して下記のように説明する。 The conventional means and method for fixing and supporting the substrate will be described below with reference to the drawings.
図1aは、従来の一実施形態による固定装置が基板上に整列された状態を示す図であり、図1bは、図1aの固定装置が基板上に下降した状態を示す図である。 FIG. 1A is a diagram illustrating a state in which fixing devices according to a conventional embodiment are aligned on a substrate, and FIG. 1B is a diagram illustrating a state in which the fixing device of FIG. 1A is lowered on the substrate.
図1a及び図1bを参照すれば、基板10はフレーム20上に装着され、基板10とフレーム20の間には基板10上に形成させようとするパターンを持つマスク30が位置している。
Referring to FIGS. 1 a and 1 b, the
基板10の上部には、基板10を支持する固定部50が配置されている。固定部50は磁石板52と、磁石板52の下面に附着されるゴム磁石54と、を含む。
A
固定部50が基板10を固定するためにロボット搬送によって固定部50が基板10上に位置づけられ、基板10に対してマスク30が整列する。
In order for the
次に、図1bに示すように、固定部50は、基板10に向けて下降するようになる。固定部50が下降すれば、基板10の下部に位置する金属材からなるマスク30は、磁力を持って固定部50に向けて変形しながら基板10上に密着するようになる。
Next, as shown in FIG. 1 b, the
一方、固定部50のゴム磁石54は、基板10の背面に安着されてこれを支持する。このように基板10に対してマスク30が密着された状態で蒸着を遂行するようになる。
On the other hand, the
しかし、マスク30と固定部50の間隔が狭くなる場合には、マスク30の中央部分が先に上昇するようになって整列の不整合が発生する。したがって、マスク30の中央部分は、基板10に対して密着が良好な反面、端部分は密着がまともになされない。その結果、基板10に形成させようとするパターンが所望の位置から外れた位置に形成され、これは製品の不良につながることになる。
However, when the distance between the
また、マスク30の中央部分が他の部分より先に上昇するようになれば、マスク30が基板10に密着される時、滑りが惹起されて基板10に損傷が発生するという問題点が発生する。
In addition, if the central portion of the
また、基板10とマスク30の時計側整列(vision alignment)後、合着する時に基板10及びマスク30との微細な平行度の差によってその間に微細な隙間が発生し、これによって基板10及びマスク30の間の微細なスリップを誘発して整列精密度が下がるようになって再整列を数回施行しなければならないという問題点が発生する。
In addition, after the alignment of the
一方、従来の基板固定トレイ及びこれを利用した基板整列システム及びその方法に関する技術を記載した文献としては、薄膜蒸着装置用基板固定装置及び基板固定方法を記載した特許文献1等がある。
本発明は、前記のような従来の問題点を解決するために案出されたもので、鉛直に配置した基板を固定及び支持して高精密の整列が可能で、かつ安定した蒸着工程がなされるようにした基板固定トレイおよびこれを利用した基板整列システム及びその方法を提供することをその目的とする。 The present invention has been devised to solve the conventional problems as described above, and can fix and support a vertically-arranged substrate for high-precision alignment and a stable deposition process. It is an object of the present invention to provide a substrate fixing tray and a substrate alignment system and method using the same.
前記目的を達成するために、本発明による基板固定トレイは、蒸着物が蒸着される基板と、前記基板を収容するように構成されたフレームと、前記フレームを収容するように構成されたトレイと、及び前記基板を前記フレームに固定支持するように少なくとも一つ以上が構成された基板固定手段と、を含んでなる。 To achieve the above object, a substrate fixing tray according to the present invention includes a substrate on which a deposit is deposited, a frame configured to receive the substrate, and a tray configured to store the frame. And at least one substrate fixing means configured to fix and support the substrate to the frame.
また、前記基板固定手段は、前記基板の少なくとも一側で弾性力で前記基板を前記フレームに加圧密着させるための加圧密着部材を含む。ここで、前記加圧密着部材は、尾端に挿入突起部を具備し、前記弾性手段によってフレームと弾性固定させ、前記フレームには前記挿入突起部を挟持する加圧用凹溝と、解除用凹溝と、をそれぞれ形成し、前記基板を加圧密着する際には、前記挿入突起部を前記加圧用凹溝に挿入し、前記基板を解除する際には前記挿入突起部を前記解除用凹溝に挿入することが好ましい。 The substrate fixing means includes a pressure contact member for pressing and contacting the substrate to the frame with an elastic force on at least one side of the substrate. Here, the pressure contact member includes an insertion protrusion at a tail end, and is elastically fixed to the frame by the elastic means, and the pressure depression groove for holding the insertion protrusion on the frame and the release depression When the substrate is pressed and adhered, the insertion protrusion is inserted into the pressing recess, and when the substrate is released, the insertion protrusion is inserted into the release recess. It is preferable to insert into the groove.
また、前記加圧密着部材は、引掛り部材が安着される連結孔を形成し、前記引掛り部材にばね部材を係止して前記フレームと弾性連結することができる。 In addition, the pressure contact member can form a connection hole on which the hook member is seated, and can be elastically connected to the frame by locking a spring member to the hook member.
また、前記基板固定手段は、前記基板の一側で前記基板の側部を支持する少なくとも一つ以上の側部支持体を含む。 The substrate fixing means may include at least one side support that supports the side of the substrate on one side of the substrate.
また、前記基板固定手段は、前記基板の下部で前記基板を安着支持する少なくとも一つ以上の下部支持体を含む。ここで、前記下部支持体には、基板が安着される凹溝を形成し、前記凹溝は安着される基板の遊隔が可能にさせるために少なくとも一側を傾斜して形成することが好ましい。 In addition, the substrate fixing means includes at least one lower support that supports the substrate in a fixed manner below the substrate. Here, the lower support is formed with a concave groove on which a substrate is seated, and the concave groove is formed with an inclination on at least one side in order to allow a free space of the substrate to be seated. Is preferred.
さらに、前記下部支持体の前記基板が安着される凹溝の入口は、丸型に形成することが好ましい。 Further, it is preferable that the entrance of the concave groove on which the substrate of the lower support is seated is formed in a round shape.
また、前記フレーム上に前記基板を整列させるように構成される基板整列手段をさらに含んでなる。ここで、前記基板整列手段は、前記フレーム上の少なくとも一辺以上に、前記基板が前記フレームに安着時の基準点を提示するように構成される基準要素と、前記フレーム上の少なくとも一辺以上に、前記基板が前記フレームに安着時の前記基板が前記基準要素に接触されるように前記基板を調整する調整要素と、を含んでなる。 The apparatus further includes substrate alignment means configured to align the substrate on the frame. Here, the substrate aligning means includes at least one side on the frame, a reference element configured to present a reference point when the substrate is seated on the frame, and at least one side on the frame. An adjustment element for adjusting the substrate so that the substrate contacts the reference element when the substrate is seated on the frame.
また、前記基準要素は、前記フレーム上の少なくとも一辺以上の基準点に形成された基準ピンであり、これを通って基準棒が通過するように形成された基準孔であり、前記調整要素は、前記フレーム上の少なくとも一辺以上を通って調整棒が通過するように形成された調整孔である。 Further, the reference element is a reference pin formed at a reference point of at least one side on the frame, a reference hole formed so that a reference bar passes through the reference pin, and the adjustment element is The adjusting hole is formed so that the adjusting rod passes through at least one side of the frame.
また、前記基板整列手段は、前記フレーム上の少なくとも2ケ所以上を通って基板ハンドラーが通過するように構成されれた通孔を含んでなる。 In addition, the substrate alignment means includes a through hole configured to allow the substrate handler to pass through at least two locations on the frame.
また、前記基板固定手段は、前記フレーム上のいずれか一辺以上に、前記フレーム上に安着された前記基板を固定させることができるように構成されたクランプからなり、前記クランプは、前記基板の少なくとも一側で弾性力によって前記基板を前記フレームに加圧密着させるための加圧密着部材である。このとき、前記加圧密着部材は、弾性手段を具備し、尾端に挿入突起部を具備し、前記弾性手段によってフレームと弾性固定させ、前記フレームには前記挿入突起部を挟持する溝が形成される。 The substrate fixing means includes a clamp configured to fix the substrate seated on the frame to any one or more sides of the frame, and the clamp includes A pressure contact member for pressing and contacting the substrate to the frame by an elastic force on at least one side. At this time, the pressure contact member has elastic means, has an insertion protrusion at a tail end, is elastically fixed to the frame by the elastic means, and a groove for holding the insertion protrusion is formed in the frame. Is done.
ここで、前記加圧密着部材は、引っ掛かり部材が安着される連結孔を形成し、前記引っ掛かり部材にばね部材を係止して前記フレームと弾性連結するように構成される。 Here, the pressure contact member is configured to form a connection hole in which the hook member is seated and to elastically connect the spring member to the frame by locking the spring member.
また、前記加圧密着部材は、前記基板を加圧する第1位置及び前記基板引入時に指向される第2位置で相互連係動作されるように構成され、前記連係動作は、連係基板クランププッシャーでなされる。ここで、前記加圧密着部材の相互連係動作は、ガイド方式でなされることが好ましく、前記ガイド方式は、前記加圧密着部材の前記フレーム内に収納される前記挿入突起部上の少なくとも一つ以上に形成されたガイド突起と、前記ガイド突起に係合するように前記フレーム内に形成されるガイド溝とからなるか、前記加圧密着部材の前記フレーム内に収納される前記挿入突起部上のいずれか一部位以上に形成されたガイド溝と、前記ガイド溝に係合するように前記フレーム内に形成されるガイド突起と、からなる。 The pressing contact member is configured to be interlocked at a first position for pressurizing the substrate and a second position directed when the substrate is pulled in, and the linking operation is performed by a linking substrate clamp pusher. The Here, it is preferable that the press-contacting member is linked in a guide manner, and the guide method includes at least one of the insertion protrusions housed in the frame of the press-contact member. The guide projection formed as described above and a guide groove formed in the frame so as to engage with the guide projection, or on the insertion projection portion accommodated in the frame of the pressure contact member A guide groove formed at a part of the guide groove and a guide protrusion formed in the frame so as to be engaged with the guide groove.
また、前記加圧密着部材の相互連係動作は、前記基板クランププッシャーで前記加圧密着部材を上下及び回転運動させることによってなされる。 The mutual operation of the pressure contact member is performed by moving the pressure contact member up and down and rotating with the substrate clamp pusher.
本発明による基板固定トレイを利用した基板整列システムは、基板固定トレイと、前記基板固定トレイに固定された前記基板のいずれか一面に圧着されるマスクと、前記基板を加圧するように構成された平板チャック及び前記平板チャックに連結されて前記平板チャックを移動させるように構成された駆動手段を含み、前記基板固定トレイを支持及び固定して整列させるための整列プレートと、を含んでなる。 A substrate alignment system using a substrate fixing tray according to the present invention is configured to press the substrate, the substrate fixing tray, a mask that is pressure-bonded to one of the substrates fixed to the substrate fixing tray, and the substrate. A flat plate chuck and driving means coupled to the flat plate chuck and configured to move the flat plate chuck, and an alignment plate for supporting and fixing and aligning the substrate fixing tray.
本発明による基板固定トレイを利用した基板整列方法によれば、前記基板固定トレイ及び前記整列プレートは、相互締結されて前記基板固定トレイを固定する少なくとも一つ以上の締結部をさらに含んでなる。 According to the substrate alignment method using the substrate fixing tray according to the present invention, the substrate fixing tray and the alignment plate further include at least one fastening portion that is fastened to fix the substrate fixing tray.
また、本発明による基板整列方法は、フレームが具備されたトレイがトレイ支持手段上に安着されるトレイ安着段階と、前記トレイ上に基板が進入される基板進入段階と、前記トレイ上に進入される前記基板が基板ハンドラーによって支持されるハンドリング段階と、前記基板ハンドラーによって支持される前記基板が前記トレイ上に安着される基板安着段階と、前記基板が基板整列手段によって整列された整列段階と、前記整列された基板が基板固定手段によって前記トレイ上に固定される固定段階と、前記基板が固定された前記トレイが前記トレイ支持手段から起立される起立段階と、前記起立されたトレイがチャンバ内部に投入される投入段階と、を含んでなる。 Further, the substrate alignment method according to the present invention includes a tray seating stage in which a tray provided with a frame is seated on the tray support means, a substrate entry stage in which a substrate is entered on the tray, and a tray on the tray. A handling step in which the substrate to be entered is supported by a substrate handler; a substrate seating step in which the substrate supported by the substrate handler is seated on the tray; and the substrate is aligned by a substrate aligning means. An alignment step; a fixing step in which the aligned substrates are fixed on the tray by a substrate fixing means; an standing step in which the tray on which the substrate is fixed is raised from the tray supporting means; And an input stage in which the tray is input into the chamber.
上述したように、本発明による基板固定トレイ、これを利用した基板整列システム及びその方法によって、鉛直に配置した基板を固定及び支持して高精密の整列が可能で、かつ安定した蒸着工程をなすことができる。 As described above, the substrate fixing tray according to the present invention, the substrate alignment system using the substrate fixing method, and the method thereof can fix and support a vertically arranged substrate to achieve high-precision alignment and perform a stable deposition process. be able to.
以下、添付された図を参照して本発明による基板固定トレイの好ましい実施形態を詳しく説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of a substrate fixing tray according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
また、従来の基板固定トレイに比べて同じ機能をする同じ構成要素に対しては、たとえ他の図に示されても同じ参照符号を付ける。 In addition, the same components having the same functions as those of the conventional substrate fixing tray are given the same reference numerals even if they are shown in other drawings.
図2aは、本発明の実施形態による基板固定トレイの正面図であり、図2bは本発明の実施形態による基板固定トレイの背面図であり、図2cは本発明の実施形態による基板固定トレイの側面図である。 2a is a front view of a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention, FIG. 2b is a rear view of the substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2c is a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention. It is a side view.
図2aないし図2cを参照すれば、本発明の実施形態による基板固定トレイは、蒸着物が蒸着される基板10と、この基板10を収容して固定支持手段66、68が具備された基板固定トレイ60で構成される。
Referring to FIGS. 2a to 2c, a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention includes a
平板型で構成されたトレイ60は、フレーム70が収容されるのに適するように構成され、トレイ60に固定されるようにフレーム固定片72がさらに構成されている。
The
トレイ60に収容されるフレーム70は、基板10が収容されるのに適するように構成され、基板10を固定するように基板固定手段110、120、130、140が構成される。トレイ60の下部には、真空チャンバ内で基板10の移送が可能になるように移送手段64が構成されており、トレイ60の上部には移送手段64による移送を誘導するガイド手段62が構成される。ホルダー部材66及び付着部材68はトレイ60の平板上にフレーム70の外郭周りに複数個が構成され、ホルダー部材66には穴が形成されている。
The
図3aは本発明の実施形態による基板固定トレイの上部及び側面基板固定手段が示された図であり、図3bは本発明の実施形態による基板固定トレイの下部及び側面基板固定手段が示された図であり、図3cは本発明の実施形態による基板固定トレイの基板固定手段と引掛り部材及び弾性手段が示された透過斜視図である。 FIG. 3A is a view showing the upper and side substrate fixing means of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3B is the lower portion of the substrate fixing tray and the side substrate fixing means according to the embodiment of the present invention. FIG. 3C is a transparent perspective view illustrating the substrate fixing means, the hooking member, and the elastic means of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention.
図3aないし図3cを参照すれば、基板10の上部または下部に位置づけられた基板固定手段110、130は基板10を弾性力で固定支持するように構成される。ここで、基板固定手段110、130が基板10を固定支持する弾性力は、前記基板固定手段110、130に弾性手段136がさらに含まれて達成され、望ましくは弾性手段136はばね部材である。
Referring to FIGS. 3A to 3C, the substrate fixing means 110 and 130 positioned at the upper or lower portion of the
弾性手段136は、図3cに示すように、基板固定手段130に形成された連結孔に引掛り部材135が安着され、この引掛り部材135に系止されて構成される。本明細書では添付された図とともに基板固定手段130について説明したが、このような構成は本明細書の基板固定手段110にまた適用される。
As shown in FIG. 3 c, the
基板固定手段110、130には、挿入突起部111、131が形成されてフレーム70上にこれにそれぞれ対応されるように形成された凹溝71a、71b、73a、73bに挿入されるように構成されている。フレーム70上の上部に形成された凹溝71a、71bは基板固定手段110の挿入突起部111を収納するように構成される。
基板固定手段110が、基板10を加圧する時には加圧用凹溝71aに、基板固定手段110が基板10をフレーム70から解除するときには解除用凹溝71bに挿入される。フレーム70上の下部に形成された凹溝73a、73bは基板固定手段130の挿入突起部131を収納するように構成される。基板固定手段130が基板10を加圧する時には加圧用凹溝73aに、基板固定手段130が基板10をフレーム70から解除するときは解除用凹溝73bに挿入される。
When the substrate fixing means 110 pressurizes the
基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段110、130の前記弾性手段は引張された後、基板10がフレーム70に完全に安着されれば引張解除、すなわち、圧縮されるようになる。この引張解除、すなわち、圧縮力によって基板10がフレーム70に支持及び固定されるようになる。
When the
また、側面に位置づけられた基板固定手段120は、フレーム70に形成された溝図示せず)に固定されて構成され、基板10が装入される方向に基板10を収容するように基板10の厚さを収容するように段差を成して構成される。言い換えれば、側面の基板固定手段120は、フレーム70に附着した状態でフレーム70と一緒に凹溝を成し、この凹溝に基板10の厚さが収容されるように構成される。基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段120の段差、すなわち、フレーム70と一緒になった凹溝に基板10が収容されるようになる。この基板固定手段120は上述した基板固定手段110、130によって基板10がフレーム70に支持及び固定されるようになれば、これを補助することになる。
Further, the substrate fixing means 120 positioned on the side surface is configured to be fixed to a groove (not shown) formed in the
図4aは、本発明の実施形態による基板固定トレイの上部基板固定手段がフレームに結合される前の状態を示す図であり、図4bは、本発明の実施形態による基板固定トレイの上部基板固定手段がフレームに結合された後の状態を示す図である。 FIG. 4A is a diagram illustrating a state before the upper substrate fixing means of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention is coupled to the frame, and FIG. 4B is an upper substrate fixing of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention. FIG. 6 shows the state after the means is coupled to the frame.
図4aないし図4bを参照すれば、基板10がフレーム70に固定される時に、基板10の上部では基板固定手段110で固定支持される。基板10の上部を固定するように構成された基板固定手段110は、その一部にフレーム70に形成された凹溝71a、71bに収容されるように突出部を持つように構成される。フレーム70に形成された凹溝71a、71bは、基板固定手段110にさらに含まれて構成された弾性手段を収容し、この弾性手段の一端を固定するように構成される。
Referring to FIGS. 4 a to 4 b, when the
基板10固定の時、基板固定手段110は、前記弾性手段によってフレーム70から遠い方向に引張された後、基板10の側面が基板固定手段120の凹溝に完全に装入されれば、基板10を固定するために弾性手段の引張を解除して収縮させる。収縮された弾性手段によってこれに連動された基板固定手段110は、装入された基板10を加圧して密着することで支持固定する。
When the
図4cは、本発明の実施形態による基板固定トレイの下部基板固定手段がフレームに結合された状態を示す図で、図4dは図4cに示す図の背面に凹溝が形成されたことを示す図である。 4c is a view illustrating a state in which the lower substrate fixing means of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention is coupled to the frame, and FIG. 4d illustrates that a concave groove is formed on the back surface of the diagram illustrated in FIG. 4c. FIG.
図4cないし図4dを参照すれば、基板10がフレーム70に固定される時に、基板10の下部では基板固定手段130によって固定支持される。基板10の上部を固定するように構成された基板固定手段130は、その一部にフレーム70に形成された凹溝73a、73bに収容されるように突出部を持つように構成される。フレーム70に形成された凹溝73a、73bは基板固定手段110にさらに含まれて構成された弾性手段を収容し、基板固定手段130がフレーム70に加圧される面の背面には、前記弾性手段の一端を固定するための形状を持つ加圧用凹溝73aが構成される。
Referring to FIGS. 4 c to 4 d, when the
また、基板固定手段110、130の一部には、前記弾性手段の他の一端が安着される連結孔が形成され、前記弾性手段にはこの連結孔に安着されるために前記弾性手段の他の一端が系止される引掛り部材135(図3c参照)が構成される。本明細書では添付された図とともに加圧用凹溝73aに対してのみ説明したが、このような構成は本明細書の加圧用凹溝71aにまた適用される。
Further, a connecting hole in which the other end of the elastic means is seated is formed in a part of the substrate fixing means 110, 130, and the elastic means is seated in the connecting hole so as to be seated in the connecting hole. A hook member 135 (see FIG. 3c) is constructed in which the other end is secured. In the present specification, only the pressurizing
図5aは、本発明の実施形態による基板固定トレイの下部基板基板固定手段がトレイに結合される前の状態を示す透過側面図であり、図5bは、本発明の実施形態による基板固定トレイの下部基板固定手段がトレイに結合された後の状態を示す透過側面図であり、図5cは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定手段130、140を示す図である。
FIG. 5a is a transparent side view illustrating a state before the lower substrate substrate fixing means of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention is coupled to the tray, and FIG. 5b is a perspective view of the substrate fixing tray according to the embodiment of the present invention. FIG. 5c is a transparent side view illustrating a state after the lower substrate fixing unit is coupled to the tray, and FIG. 5c illustrates the
図5aないし図5cを参照すれば、基板10がフレーム70に固定される時に、基板10の下部では基板固定手段130によって固定支持される。基板10の下部を固定するように構成された基板固定手段130は、その一部にフレーム70に形成された凹溝73a、73bに収容されるように突出部を持つように構成される。フレーム70に形成された凹溝73a、73bは基板固定手段130にさらに含まれて構成された弾性手段を収容し、この弾性手段の一端を固定するように構成される。
Referring to FIGS. 5 a to 5 c, when the
基板10固定の時、基板固定手段130は、前記弾性手段によってフレーム70から遠い方向に引張された後、基板10の側面が基板固定手段120の弾性力F2で加圧用凹溝73aに完全に装入されれば、基板10を固定するために弾性手段の引張を解除して収縮させるようになる。収縮された弾性手段によってこれと連動された基板固定手段130は、装入された基板10を加圧して密着することで固定支持するようになる。
When the
引き続いて、図5aないし図5cを参照すれば、基板10がフレーム70に固定される時に、基板10の下部では基板固定手段140によって支持される。基板10の下部を支持するように構成された基板固定手段140は、フレーム70に形成された凹溝に固定されて構成されている。基板固定手段140は、その上部に基板10を支持するように凹溝が形成されている。
Subsequently, referring to FIGS. 5 a to 5 c, when the
図5cに示すように、この凹溝は所定の間隔を持つ底面b、鉛直に形成された一側a及び鉛直に傾斜を成して形成された他の一側cで形成される。基板10を支持するように形成された前記凹溝の入口部分には基板10が装入される時に円滑に装入されるように角が丸め処理されている。基板10がフレーム70に装着される時に基板10の下部は、基板固定手段140上に安着される。より正確には、基板固定手段140に形成された前記溝の底面bに安着される。
As shown in FIG. 5c, the concave groove is formed by a bottom surface b having a predetermined interval, one side a formed vertically, and the other side c formed vertically. The entrance portion of the concave groove formed so as to support the
前記凹溝の鉛直に形成された一側aは、フレーム70に密着されるように構成され、基板10がこの鉛直に形成された一側aに密着されるようにする。すなわち、基板固定手段140によって加圧されて密着された基板10は、この鉛直に形成された一側aに平行になるように密着される。
The vertically formed one side a of the concave groove is configured to be in close contact with the
基板10に遊隔を与えるように形成された基板固定手段140の底面bは、基板10を支持し、支持された状態で基板10のフレーム70への密着及び分離が可能になるように遊隔を与える。
The bottom surface b of the substrate fixing means 140 formed so as to give a clearance to the
基板固定手段140の鉛直に傾斜を成して形成された一側cは、基板10が基板固定手段140の前記凹溝に安着される時、基板10の位置公差を許容して基板10がガイドの役割をするように、前記凹溝内部に下傾斜、すなわち、鉛直方向のフレーム70側に下傾斜している。
One side c formed with a vertical inclination of the substrate fixing means 140 allows a positional tolerance of the
以下、添付された図を参照して本発明による基板固定トレイの他の実施形態を詳しく説明する。 Hereinafter, another embodiment of the substrate fixing tray according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図6aは、本発明の実施形態による基板固定トレイの一側面図であり、図6bは、本発明の変形実施形態による基板固定トレイの一側面図である。 FIG. 6a is a side view of a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6b is a side view of a substrate fixing tray according to a modified embodiment of the present invention.
平板型に構成されたトレイ60は、フレーム70が収容されるのに適するように構成され、トレイ60に固定されるようにフレーム固定片(図示せず)がさらになっている。トレイ60に収容されるフレーム70は、基板10が収容されるのに適するように構成され、基板10を固定するように基板固定手段110、120、130、140が構成される。
The
トレイ60の下部には真空チャンバ内で基板10の移送が可能になるように移送手段64が具備され、トレイ60の上部には移送手段64による移送を誘導するガイド手段62が構成される。ホルダー部材66及び付着部材68はトレイ60の平板上にフレーム70外郭の周りに複数個が構成され、ホルダー部材66には穴が形成されている。
A transfer means 64 is provided at the lower part of the
また、図6aに示すように、トレイ60のフレーム70上に安着される基板を整列させるために、フレーム70 上に複数個の基準ピン76が構成されている。この複数個の基準ピン76は、基板10がフレーム70上に安着される時、基板10の好ましい位置を提示する基準点の役割をする。
Also, as shown in FIG. 6 a, a plurality of reference pins 76 are formed on the
また、フレーム70上には、基板10を要求される位置に移動、すなわち、基準ピン76上に基板10の側辺が正確に接触されるようにする調整手段(図示せず)が貫通される複数個の調整孔77が形成される。この調整孔77を通じて調整手段(図示せず)がトレイ60の背面から調整孔77を貫通して基準ピン76を基準にして基板10の位置が調整される。
Further, adjustment means (not shown) is provided on the
図6aに示す構成の変形例として図6bに示すように、基準手段としてフレーム70上に複数個の基準孔78を形成することも可能である。このような基準孔78の形成の際には、基板10がフレーム70上に安着される時、基準孔78を通じて基準手段(図示せず)がトレイ60の背面から基準孔78を貫通して基準点を提示する。以後、上述したような調整孔77を通じて調整手段が利用されて基板10の位置が調整される。
As a modification of the configuration shown in FIG. 6a, as shown in FIG. 6b, it is possible to form a plurality of reference holes 78 on the
このような基準要素76、78は、フレーム70上の少なくとも一辺以上に形成されて基板10の基準点を提示する。基準要素76、78が形成されていないフレーム70の残りの辺は調整孔77が形成される。
好ましくは、長方形のフレーム70において、隣り合う二つの辺にそれぞれ二つの基準要素76、78を形成し、残りの隣合う二つの辺にはそれぞれ二つの調整孔77が形成される。
Preferably, in the
トレイ60のフレーム70上には、後ほど説明される基板ハンドラーがこれを通じて通過されるように複数個の通孔75が構成される。この通孔75を通じて前記基板ハンドラーがトレイ60の背面からトレイ60を通過してトレイ60正面のフレーム70上に基板10が安着されるように作動する。安定な基板10安着のために、本実施形態では相互対面するフレーム70の二つの辺上にそれぞれ二つの通孔75を形成した。
A plurality of through
トレイ60に収容されるフレーム70は、基板10が収容されるのに適するように構成され、基板10を固定するように基板固定手段110、120、130、140が構成される。
The
図7a及び図7bは、本発明の他の実施形態による固定手段の作動状態が示された部分斜視図である。 7a and 7b are partial perspective views illustrating an operating state of a fixing unit according to another embodiment of the present invention.
基板10の上部に位置づけられた基板固定手段110は、基板10を固定させるように構成されて、フレーム70上に形成された溝(図示せず)に固定挿入されるように構成される。
The substrate fixing means 110 positioned on the upper portion of the
側面に位置づけられた基板固定手段120は、フレーム70に形成された溝(図示せず)に固定されて構成され、基板10が装入される方向に基板10を収容するように基板10の厚さを収容するように段差を成して構成される。言い換えれば、側面の基板固定手段120は、フレーム70に附着した状態でフレーム70と一緒に凹溝を成し、この凹溝に基板10の厚さが収容されるように構成される。
The substrate fixing means 120 positioned on the side surface is configured to be fixed to a groove (not shown) formed in the
基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段120の段差、すなわち、フレーム70と一緒になっている凹溝に基板10が収容される。この基板固定手段120は、上述した基板固定手段110、130によって基板10がフレーム70に支持及び固定されればこれを補助するようになる。
When the
基板10の下部に位置された基板固定手段130は、基板10を弾性力によって固定支持するように構成される。ここで、基板固定手段130が基板10を固定支持する弾性力は、前記基板固定手段130に弾性手段136がさらに含まれて達成され、好ましくは弾性手段136はばね部材である。
Substrate fixing means 130 positioned below the
基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段130の弾性手段136は引張されられた後、基板10がフレーム70に完全に安着されれば、引張解除、すなわち、圧縮されるようになる。この引張解除、すなわち、圧縮力によって基板10がフレーム70に支持及び固定される。
After the elastic means 136 of the board fixing means 130 is pulled when the
基板固定手段130には、挿入突起部131が形成されてフレーム70上にこれとそれぞれ対応されるように形成された凹溝に挿入されるように構成されている。この挿入突起部131は、上述した弾性手段136によってフレーム70上に基板固定手段130が弾性固定される。
An
基板固定手段130は、クランプとしての役割をし、基板10がフレーム70上に安着される時に弾性力で基板10をフレーム70に加圧密着させる。
The substrate fixing means 130 serves as a clamp, and presses and adheres the
基板固定手段130は、フレーム70上で基板10を加圧する第1位置(図7a)及び基板10がフレーム70上に引入時に基板10の引入を干渉しないように、仮に指向される第2位置(図7b)に相互連係動作されるように構成される。このような基板固定手段130の相互連係動作は、基板クランププッシャー(図示せず)でなされるように構成される。このような基板固定手段130の一例が図8a及び図8bに示されている。
The substrate fixing means 130 is a first position where the
弾性手段136は、基板固定手段130に形成された連結孔に引っ掛かり部材135が安着され、この引っ掛かり部材135に系止されて構成される。
The elastic means 136 is configured such that a hooking
基板固定手段130の上述した第1位置及び第2位置への相互連係動作は、ガイド方式によってなされることができる。基板固定手段130の挿入突起部131上には、少なくとも一つ以上のガイド突起133が形成されている。
The interlinking operation of the substrate fixing means 130 to the first position and the second position described above can be performed by a guide method. At least one
フレーム70の内部、より詳細には、基板固定手段130の挿入突起部131が挿入されるフレーム70上の凹溝内面のある一部位には、基板固定手段130の挿入突起部131上に形成されたガイド突起133と符合するようにガイド溝79が形成されている。このフレーム70に形成されたガイド溝79は、ガイド溝79に沿って基板固定手段130のガイド突起133が移動する時に基板固定手段130が上述した第1位置及び第2位置へそれぞれ移動されることができるように構成される。すなわち、ガイド溝79は、円筒状の挿入突起部131を収納するように形成された円筒状の前記凹溝の内面に螺旋状に形成され、ガイド突起133がガイド溝79に沿って移動する時に基板固定手段130今1位置及び第2位置にそれぞれ移動されることができるようにする。
Inside the
上述したガイド方式の以外に、図示しなかったが、基板固定手段130の挿入突起部131にガイド溝が形成され、フレーム70の前記凹溝にガイド突起が形成されるガイド方式も可能であり、技術的趣旨は上述したガイド方式と同様である。
Other than the guide method described above, although not shown, a guide method in which a guide groove is formed in the
基板固定手段130の第1位置及び第2位置への相互連係動作は、図9a及び図9bに示すように、基板固定手段130と基板クランププッシャー530を相互嵌合させて果たすこともできる。
The interlinking operation of the substrate fixing means 130 to the first position and the second position can be achieved by mutually fitting the substrate fixing means 130 and the
基板固定手段130の挿入突起部131には、凸部134が形成される。この凸部134は、挿入突起部131が基板クランププッシャー530に接する面に形成される。基板クランププッシャー530には、すなわち、基板クランププッシャー530の基板固定手段130の挿入突起部131と相接される面には、凸部134と符合するように凹部が形成される。最も望ましくは、 挿入突起部131の凸部134が形成された面は平板型で、基板クランププッシャー530の凹部534が形成された面もまた平板型に形成され、凸部134及び凹部534が嵌合する時に基板固定手段130の凸部134が形成された面と、基板クランププッシャー530の凹部534が形成された面全体が相接するようにする。
A
完全に嵌合された基板固定手段130は、基板クランププッシャー530の線形運動及び回転運動と連動されて第1位置及び第2位置への相互連係動作が可能になる。
The fully-fitted substrate fixing means 130 can be linked to the first position and the second position in conjunction with the linear motion and the rotational motion of the
本明細書では、添付された図とともに基板固定手段130に対してのみ説明したが、このような構成は本明細書の基板固定手段110にまた適用することができる。
In the present specification, only the
以下、添付された図を参照して本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列システムを詳しく説明する。 Hereinafter, a substrate alignment system using a substrate fixing tray according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図10aは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックプレートの配置を示す図であり、図10bは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックプレートの合着を示す図である。 FIG. 10a is a diagram illustrating an arrangement of a substrate fixing tray and a mask tray and a chuck plate of a substrate alignment system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 10b is a substrate fixing tray and a mask of the substrate alignment system according to an embodiment of the present invention. It is a figure which shows joining of a tray and a chuck | zipper plate.
図10aないし図10bを参照すれば、トレイ60はトレイ60に固定された基板10に真空蒸着をするために整列プレート90のチャック92が位置づけられた手前に配置される。また、真空蒸着の時基板10にパターンが形成されるようにするためのマスクトレイ80は、トレイ60の手前に配置される。すなわち、トレイ60はマスクトレイ80と整列プレート90の間に配置される。
Referring to FIGS. 10a to 10b, the
以後、トレイ60は整列プレート90のチャック92に附着するようになる。整列プレート90に附着したトレイ60には、蒸着物質が流入される方向にパターンが形成されたシャドウマスク30(図12b参照)が附着されて基板10上に蒸着がなされるようにするためにチャック92が附着された反対面にマスクトレイ80が附着される。
Thereafter, the
このような蒸着工程以前にトレイ60に装着された基板10とマスクトレイ80に装着された前記シャドウマスクとの整列がなされる。このような整列のために整列プレート90は、基板10が装着されたトレイ60がマスクトレイ80に装着された前記シャドウマスクと整合を成すようにトレイ60を多方向に動かすことができるように構成される。未説明図面符号82はマスクトレイのガイド手段であり、図面符号84はマスクトレイの移送手段である。
Prior to the deposition process, the
図11aは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイにおいて基板、基板フレーム及びトレイを示す図であり、図11bは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイにおいて、基板が脱着された状態を示す図であり、図11cは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイにおいて基板が附着された状態を示す図である。 FIG. 11a illustrates a substrate, a substrate frame, and a tray in a substrate fixing tray of the substrate alignment system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 11b illustrates a substrate in the substrate fixing tray of the substrate alignment system according to an embodiment of the present invention. FIG. 11 c is a diagram illustrating a state where a substrate is attached to a substrate fixing tray of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention.
図11aないし図11cを参照すれば、フレーム70はトレイ60の正面に結合され、基板10はトレイ60の背面でフレーム70に結合される。フレーム70は、トレイ60の中央部に形成された開口に結合され、フレーム支持片によってトレイ60に固定される。
Referring to FIGS. 11 a to 11 c, the
以後、基板10はフレーム70に形成された開口に結合され、基板固定手段110、120、130、140によってフレーム70に固定される。基板10が基板固定手段110、120、130、140によってフレーム70に固定される過程は上述されている。トレイ60にフレーム80及び基板10が結合されることで基板10を固定する基板固定トレイが完成される。
Thereafter, the
図12aは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックの合着を示した図であり、図12bは、図12aの基板及びマスクとの合着を示した図であり、図13aは本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックの合着の時、その上部の一部が示された図であり、図13bは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックの合着の時、その下部の一部が示された図である。 FIG. 12A is a view illustrating the attachment of the substrate fixing tray and the mask tray and the chuck of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention, and FIG. 12B is a view illustrating the attachment of the substrate and the mask of FIG. 13a is a view illustrating a part of the upper part of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention when the substrate fixing tray and the mask tray are attached to the chuck, and FIG. FIG. 5 is a view illustrating a part of a lower portion of the substrate alignment system and the mask tray and the chuck when the chuck is attached to the substrate alignment system according to the embodiment.
図12aないし図13bを参照すれば、トレイ60に装着された基板10とマスクトレイ80に装着された前記シャドウマスクは、整列がなされた後、整列プレート90のチャック92と合着される。整列プレート90のチャック92は、駆動手段を含んでなり、基板10及び前記シャドウマスクが合着を成すことができるように水平往復移動が可能である。この時、基板10の下部は、基板固定手段130、140によって固定され、基板10の上部及び側面もまた基板固定手段110、120によって固定支持される。
Referring to FIGS. 12a to 13b, the
図14aは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックの不完全密着が概略的に示された図であり、図14bは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板固定トレイ及びマスクトレイとチャックの完全密着が概略的に示された図である。 FIG. 14a is a view schematically showing incomplete contact between a substrate fixing tray and a mask tray and a chuck of a substrate alignment system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 14b is a substrate alignment system according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a view schematically showing complete contact between the substrate fixing tray and the mask tray and the chuck.
図14aないし図14bを参照すれば、基板10及びマスク30は、チャック92の加圧の時に微小なスリップが発生する。すなわち、基板10及びマスク30が相互に滑るようになるか、相互に非平行な状態が成立されるようになる。このような微小なスリップは、チャック92がさらに加入されれば解消されるが、このような過程で基板10に加えられるチャック92の加圧力と、マスク30に加えられる加圧力が異なり、基板10面積全体の圧力分布が微小にバラ付きになるので基板10及びマスク30の整列が不整合されることになる。
Referring to FIGS. 14 a to 14 b, the
図15aは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板に対する基板固定手段の作用が示された図であり、図15bは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板の不完全密着を示した図であり、図15cは、本発明の実施形態による基板整列システムの基板の完全密着を示した図である。 FIG. 15a is a view illustrating the operation of the substrate fixing unit with respect to the substrate of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention, and FIG. 15b illustrates the incomplete adhesion of the substrate of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention. FIG. 15c is a view illustrating the complete contact of the substrates of the substrate alignment system according to the embodiment of the present invention.
図15aないし図15cを参照すれば、チャック92の加圧による力F1で基板10はマスクトレイ80側へ押されるが、これによって基板10は不完全密着をするようになる。この加圧による力F1による基板10の動きは、基板固定手段140に形成された前記凹溝の底面の遊隔範囲内でなされる。したがって、チャックプレート90の加圧の時にも基板10とこれと合着されたシャドウマスク30とのスリップが起きることなく、合着された状態で流動的な動きがまされることになる。基板固定手段140は、基板10の厚さに対して若干の遊隔のみを提供するので、基板10がフレーム70上から脱落されないようにする。
Referring to FIGS. 15a to Fig. 15c, although the
また、この加圧による力F1は、基板10を固定支持している基板固定手段110、130及びこの基板固定手段110、130と連動された弾性手段の加圧による力F2によって補償される。すなわち、上述された基板10及びこれと合着されたマスクが加圧による力F1によって押されても基板10が再度基板トレイ60に装着されたフレーム70に密着されるように加圧され、基板10が完全密着を成すようにするのである。このように基板固定手段110、120、130、140によって基板10及びマスクとの合着が整列の崩れることなくなされることができる。
Further, the force F 1 due to the pressurization is compensated by the force F 2 due to the pressurization of the substrate fixing means 110, 130 that fixes and supports the
以下、添付された図を参照して本発明による基板固定トレイを利用した基板整列方法の好ましい実施形態を詳しく説明する。 Hereinafter, a preferred embodiment of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
本発明による基板固定トレイを利用した基板整列方法は、基板固定トレイに基板が提供される段階と、前記基板が基板トレイの側部支持体及び下部支持体の凹溝に安着、支持される段階と、前記基板トレイの上部または下部加圧体の挿入突起部をフレームに形成された加圧用凹溝に挿入して前記基板を前面から前記フレームに加圧密着させる段階と、からなる。 The substrate alignment method using the substrate fixing tray according to the present invention includes a step of providing a substrate to the substrate fixing tray, and the substrate is seated and supported in the concave grooves of the side support and the lower support of the substrate tray. And a step of inserting an insertion protrusion of an upper or lower pressurizing body of the substrate tray into a pressurizing groove formed on a frame to press-contact the substrate to the frame from the front surface.
図11aないし図11cを参照すれば、フレーム70は、トレイ60の正面から結合され、基板10はトレイ60の背面からフレーム70に結合される。フレーム70はトレイ60の中央部に形成された開口に結合されてフレーム支持片によってトレイ60に固定される。
Referring to FIGS. 11 a to 11 c, the
以後、基板10はフレーム70に形成された開口に結合されて基板固定手段110、120、130、140によってフレーム70に固定される。基板10が基板固定手段110、120、130、140によってフレーム70に固定される過程は上述されている。トレイ60にフレーム80及び基板10が結合されることで基板10を固定する基板固定トレイが完成され、基板固定トレイ60に基板10が提供される段階がなされる。
Thereafter, the
図3aないし図3cを参照すれば、基板10の上部または下部に位置された基板固定手段110、130は、基板10を弾性力によって固定支持するように構成される。ここで、基板固定手段110、130が基板10を固定支持する弾性力は、前記基板固定手段110、130に弾性手段136がさらに含まれて達成され、好ましくは弾性手段136はばね部材である。弾性手段136は図3cに示すように、基板固定手段130に形成された連結孔に引掛り部材185が安着され、この引掛り部材185に系止されて構成される。
Referring to FIGS. 3a to 3c, the substrate fixing means 110 and 130 positioned at the upper or lower portion of the
基板固定手段110、130には挿入突起部111、131が形成されてフレーム70上にこれとそれぞれ対応されるように形成された凹溝71a、71b、73a、73bに挿入されるように構成されている。フレーム70 上の上部に形成された凹溝71a、71bは、基板固定手段110の挿入突起部111を収納するように構成される。基板固定手段110が基板10を加圧の時には、加圧用凹溝71aに、基板固定手段110が基板10をフレーム70から解除するときには解除用凹溝71bに挿入される。
フレーム70上の下部に形成された凹溝73a、73bは基板固定手段130の挿入突起部131を収納するように構成される。基板固定手段130が基板10を加圧する時には、加圧用凹溝73aに、基板固定手段130が基板10をフレーム70から解除するときには解除用凹溝73bに挿入される。
The
基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段110、130の前記弾性手段は引張された後、基板10がフレーム70に完全に安着されれば引張解除、すなわち、圧縮されるようになる。この引張解除、すなわち、圧縮力によって基板10がフレーム70に支持及び固定される。
When the
また、側面に位置された基板固定手段120は、フレーム70に形成された溝(図示せず)に固定されて構成され、基板10が装入される方向に基板10を収容するように基板10の厚さを収容するように段差を成して構成される。言い換えれば、側面の基板固定手段120は、フレーム70に附着された状態でフレーム70と一緒に凹溝を成し、この凹溝に基板10の厚さが収容されるように構成される。基板10がフレーム70に装着される時に基板固定手段120の段差、すなわち、フレーム70と一緒になった凹溝に基板10が収容される。この基板固定手段120は、上述された基板固定手段110、130によって基板10がフレーム70に支持及び固定されればこれを補助するようになる。
Further, the substrate fixing means 120 positioned on the side surface is configured to be fixed to a groove (not shown) formed in the
図4aないし図4d、図5aないし図5c、及び図15aないし図15cを参照すれば、チャック92の加圧による力F1によって基板10は、マスクトレイ80側へ押されるが、これによって基板10は不完全密着をするようになる。この加圧による力F1による基板10の動きは、基板固定手段140に形成された前記凹溝の底面の遊隔範囲内でなされる。したがって、チャックプレート90の加圧の時にも基板10とこれと合着されたシャドウマスク30とのスリップが起きずに、合着された状態で流動的な動きがなされる。基板固定手段140は、基板10の厚さに対して少しの遊隔のみを与えるので、基板10がフレーム70上から脱落しないようにする。
4a-4d, Figure 5a to 5c, and referring to FIGS. 15a to Fig. 15c, the
また、この加圧による力F1は、基板10を固定支持している基板固定手段110、130及びこの基板固定手段110、130と連動された弾性手段の加圧による力F2によって補償される。すなわち、上述された基板10及びこれと合着されたマスクが加圧による力F1で押されても基板10が再度基板トレイ60に装着されたフレーム70に密着されるように加圧されて基板10が完全密着を成すようにするのである。このように基板固定手段110、120、130、140によって基板10及びマスクとの合着が整列の崩れることなくなされることができる。
Further, the force F 1 due to the pressurization is compensated by the force F 2 due to the pressurization of the substrate fixing means 110, 130 that fixes and supports the
このように、前記基板10が基板固定トレイ60の側部支持体120及び下部支持体140の凹溝に安着支持される段階がななされた後、前記基板固定トレイ60の上部または下部加圧体110、130の挿入突起部111、131をフレーム70に形成された加圧用凹溝71a、73aに挿入して前記基板10を前面から前記フレーム70に加圧密着させる段階がなされる。
As described above, after the
以下、添付された図を参照して本発明による基板固定トレイを利用した基板整列方法のさらに好適な実施形態を詳しく説明する。 Hereinafter, a preferred embodiment of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図16は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法のトレイ安着段階が概略的に示された図であり、図17は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法の基板進入段階が概略的に示された図であり、図18は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法のハンドリング段階が概略的に示された図であり、図19は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法の基板安着段階が概略的に示された図であり、図20は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法の整列段階が概略的に示す図であり、図21は、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法の固定段階を概略的に示す図であり、図22a及び図22bは、本発明の実施形態による基板固定トレイを利用した基板整列方法の起立段階を概略的に示す図である。 FIG. 16 is a view schematically illustrating a tray seating stage of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention, and FIG. 17 is a diagram illustrating using a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention. FIG. 18 is a diagram schematically illustrating a handling step of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 19 is a diagram schematically illustrating a substrate attachment stage of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention, and FIG. 20 is a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention. FIG. 21 schematically illustrates an alignment step of a substrate alignment method using a substrate, and FIG. 21 schematically illustrates a fixation step of a substrate alignment method using a substrate fixing tray according to an embodiment of the present invention. 22a and FIG. b is a diagram schematically showing the standing stage substrate alignment method using the substrate fixed tray according to an embodiment of the present invention.
本発明による基板固定トレイを利用した基板整列方法は、フレームが具備されたトレイがトレイ支持手段上に安着されるトレイ安着段階と、前記トレイ上に基板が進入される基板進入段階と、前記トレイ上に進入される前記基板が基板ハンドラーによって支持されるハンドリング段階と、前記基板ハンドラーによって支持される前記基板が前記トレイ上に安着される基板安着段階と、前記基板が基板整列手段によって整列される整列段階と、前記整列された基板が基板固定手段によって前記トレイ上に固定される固定段階と、前記基板が固定された前記トレイが前記トレイ支持手段から起立される起立段階と、前記起立されたトレイがチャンバ内部に投入される投入段階と、を含んでなる。 A substrate alignment method using a substrate fixing tray according to the present invention includes: a tray seating stage in which a tray provided with a frame is seated on a tray support means; and a substrate entry stage in which a substrate enters the tray. A handling step in which the substrate entering the tray is supported by a substrate handler; a substrate seating step in which the substrate supported by the substrate handler is seated on the tray; and An alignment step in which the aligned substrate is fixed on the tray by a substrate fixing means, and a standing step in which the tray on which the substrate is fixed is raised from the tray support means; And a loading step in which the raised tray is loaded into the chamber.
まず、フレーム70が具備されたトレイ60がトレイ支持手段410上に安着される。トレイ支持手段410は、トレイ60を水平に支持するように構成され、トレイ60はトレイ支持手段410上に水平に安着される。
First, the
以後、ロボットアーム450によって持ち上げられた基板10がトレイ支持手段410上に載置されたトレイ60上部に進入される。ロボットアーム450へ基板10が進入されれば、基板ハンドラー475はトレイ60のフレーム70上に形成された通孔75を通じて基板10を支持する。
Thereafter, the
基板ハンドラー475によって基板10が支持されればロボットアーム450は、トレイ60が載置された線上から完全に後退される。そのため、ロボットアーム450は作動の際基板ハンドラー475と相互干渉しないように構成及び作動することが好ましい。
If the
基板10がロボットアーム450から基板ハンドラー475に持ち上げられた後、基板ハンドラー475は再びフレーム70上に形成された通孔475を通じて後退するようになる。したがって基板ハンドラー475によって持ち上げられた基板10は、トレイ60のフレーム70上に安着される。
After the
以後、トレイ60のフレーム70上に安着された基板10は整列段階を経ることになる。この整列段階はフレーム70上に形成された調整孔77を通じてプッシュピン477がトレイ60の背面からトレイ60を貫通して基準ピン76に基板10の二つの辺が接触されるように調整することによってなる。
Thereafter, the
基準ピン76は、長方形のフレーム70上の隣合う二つの辺にそれぞれ二個ずつ構成されている。基準ピン76が構成された二つの辺に残り隣り合う二つの辺には、それぞれ二つの調整孔77が形成され、これを通じてプッシュピン477が基板10位置を基準ピン76側で調整することができる。
Two reference pins 76 are formed on each of two adjacent sides on the
フレーム70上に構成される基準ピン76の代りに、基準孔78(図6b)を形成して整列段階が進行されることもできる。この時は基準アーム(図示せず)がトレイ60の背面から貫通されて基準位置を提示するように構成される。また、基準ピン76と基準孔78が複合的に構成されることもできる。
Instead of the
上述した整列段階を通じて基板10がトレイ60のフレーム70上に整列された後、基板10は整列された位置上に基板固定手段110、130によって固定される。基板固定手段110、130は、基板クランププッシャー530(図示せず)によって基板10引入の時、基板10との干渉を回避するように指向された第2位置で基板10を弾性固定させるように設定された第1位置に移動される(図7参照)。第1位置に移動された基板固定手段110、130は整列がなされた基板10を固定する。
After the
基板10の整列及び固定がなされた後、トレイ支持手段410上に水平に載置された基板10を搭載したトレイ60は、トレイ支持手段410で起立されて位置づけられた後、工程チャンバ(図示せず)内部に投入される。
After the
以上、添付の図を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、前記説明は単に本発明を説明することを目的としており、意味の限定や特許請求の範囲に記載された本発明の範囲を限定するためのものではない。したがって、前記説明によって、当業者であれば、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で各種の変更および修正が可能であることは言うまでもない。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. However, the description is merely for the purpose of illustrating the present invention, and the present invention described in the meaning limitation and claims. It is not intended to limit the range. Therefore, it goes without saying that various changes and modifications can be made by those skilled in the art based on the above description without departing from the technical idea of the present invention.
10 基板
20 フレーム
30 シャドウマスク
50 固定部
52 磁石板
54 ゴム磁石
60 基板トレイ
62 ガイド手段
64 移送手段
66 ホルダー部材
68 付着部材
70 フレーム
71a、73a 加圧用凹溝
71b、73b 締結用凹溝
72 固定片
75 通孔
76 基準ピン
77 調整孔
78 基準孔
79 ガイド溝
80 マスクトレイ
82 マスクトレイのガイド手段
84 マスクトレイの移送手段
90 整列プレート
92 チャック
110、120、130、140 基板固定手段
111 挿入突起部
120 基板固定手段
131 挿入突起部
133 ガイド突起
134 凸部
135 引掛かり部材
136 弾性手段
410 トレイ支持手段
450 ロボットアーム
475 基板ハンドラー
477 プッシュピン
530 基板クランププッシャー
534 凹部
a 凹溝の鉛直に形成された一側
b 凹溝の所定の間隔を持つ底面
c 凹溝の鉛直に傾斜を成して形成された他の一側
F1 チャックプレートの加圧による力
F2 基板固定手段の加圧による力
DESCRIPTION OF
Claims (30)
蒸着物が蒸着される基板と、
前記基板を収容するように構成されたフレームと、
前記フレームを収容するように構成されたトレイと、
前記基板を前記フレームに固定支持する少なくとも一つ以上の基板固定手段と、
を含んでなり、
前記フレームの、前記基板に面する側の面と、前記基板の、前記フレームに面する面と、が密着状態で固定されることを特徴とする基板固定トレイ。 A substrate fixing tray for fixing and supporting a vertically arranged substrate,
A substrate evaporation kimono is deposited,
A frame configured to receive the substrate;
A tray configured to receive the frame;
At least one substrate fixing means for fixing and supporting the substrate to the frame;
Comprising
A substrate fixing tray, wherein a surface of the frame facing the substrate and a surface of the substrate facing the frame are fixed in close contact with each other.
前記弾性手段によってフレームと弾性固定させ、
前記フレームには前記挿入突起部を挟持する加圧用凹溝と、解除用凹溝と、をそれぞれ形成し、
前記基板を加圧密着する際には前記挿入突起部を前記加圧用凹溝に挿入し、
前記基板を解除する際には前記挿入突起部を前記解除用凹溝に挿入することを特徴とする、請求項3に記載の基板固定トレイ。 The pressure contact member comprises an insertion protrusion at the tail end,
Elastically fixed to the frame by the elastic means,
The frame is formed with a pressing groove for holding the insertion protrusion and a releasing groove, respectively.
When press-contacting the substrate, insert the insertion protrusion into the pressing groove,
4. The substrate fixing tray according to claim 3, wherein when the substrate is released, the insertion protrusion is inserted into the release groove.
前記凹溝は安着される基板の遊隔が可能にするために、少なくとも一側を傾斜して形成することを特徴とする、請求項7に記載の基板固定トレイ。 The lower support is formed with a concave groove on which the substrate is seated,
8. The substrate fixing tray according to claim 7, wherein the concave groove is formed to be inclined at least on one side in order to allow a free space of the substrate to be seated.
前記フレーム上の少なくとも一辺以上に、前記基板が前記フレームに安着時の基準点を提示するように構成される基準要素と、
前記フレーム上の少なくとも一辺以上に、前記基板が前記フレームに安着時の前記基板が前記基準要素に接触されるように該基板を調整する調整要素と、
を含んでなることを特徴とする、請求項10に記載の基板固定トレイ。 The substrate alignment means includes
A reference element configured to present a reference point when the substrate is seated on the frame, on at least one side of the frame;
An adjustment element that adjusts the substrate so that the substrate contacts the reference element when the substrate is seated on the frame on at least one side of the frame;
The substrate fixing tray according to claim 10, comprising:
前記フレームには前記挿入突起部を挟持する溝が形成されることを特徴とする、請求項18に記載の基板固定トレイ。 The pressure contact member includes an insertion protrusion at the tail end, and is elastically fixed to the frame by the elastic means.
19. The substrate fixing tray according to claim 18, wherein a groove for holding the insertion protrusion is formed in the frame.
前記引っ掛かり部材にばね部材を係止して前記フレームと弾性連結するように構成されることを特徴とする、請求項19に記載の基板固定トレイ。 The pressure contact member forms a connection hole in which the hook member is seated,
The substrate fixing tray according to claim 19, wherein a spring member is locked to the hooking member and elastically connected to the frame.
前記加圧密着部材の前記フレーム内に収納される前記挿入突起部上の少なくとも一つ以上に形成されたガイド突起と、
前記ガイド突起に係合するように前記フレーム内に形成されるガイド溝と、
からなることを特徴とする、請求項23に記載の基板固定トレイ。 The guide method is
A guide protrusion formed on at least one of the insertion protrusions housed in the frame of the pressure contact member;
A guide groove formed in the frame to engage with the guide protrusion;
The substrate fixing tray according to claim 23, comprising:
前記加圧密着部材の前記フレーム内に収納される前記挿入突起部上のいずれか一部位以上に形成されたガイド溝と、
前記ガイド溝に係合するように前記フレーム内に形成されるガイド突起と、
からなることを特徴とする、請求項23に記載の基板固定トレイ。 The guide method is
A guide groove formed on any one or more positions on the insertion protrusion stored in the frame of the pressure contact member;
A guide protrusion formed in the frame to engage with the guide groove;
The substrate fixing tray according to claim 23, comprising:
前記基板固定トレイに固定された前記基板のいずれか一面に圧着されるマスクと、
前記基板を加圧するように構成された平板チャック及び前記平板チャックに連結されて前記平板チャックを移動させるように構成された駆動手段と、を含み、
前記基板固定トレイを支持及び固定して整列させるための整列プレートと、を含んでなることを特徴とする基板整列システム。 A substrate fixing tray according to any one of claims 1 to 26,
A mask that is crimped to any one of the substrates fixed to the substrate fixing tray;
A flat plate chuck configured to pressurize the substrate, and driving means connected to the flat plate chuck and configured to move the flat plate chuck,
An alignment plate for supporting and fixing and aligning the substrate fixing tray.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2005-000956 | 2005-01-05 | ||
KR1020050000956A KR100583522B1 (en) | 2005-01-05 | 2005-01-05 | Holding tray for substrate, substrate alignment system using the same and method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006188747A JP2006188747A (en) | 2006-07-20 |
JP4846285B2 true JP4846285B2 (en) | 2011-12-28 |
Family
ID=36639127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005202322A Active JP4846285B2 (en) | 2005-01-05 | 2005-07-11 | Substrate fixing tray and substrate alignment system using the same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8166641B2 (en) |
JP (1) | JP4846285B2 (en) |
KR (1) | KR100583522B1 (en) |
CN (1) | CN1800443B (en) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE466118T1 (en) * | 2007-02-02 | 2010-05-15 | Applied Materials Inc | PROCESS CHAMBER, INLINE COATING SYSTEM AND METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE |
WO2008133149A1 (en) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Ulvac, Inc. | Supporting member, carrier and supporting method |
KR101569796B1 (en) * | 2009-06-23 | 2015-11-20 | 주성엔지니어링(주) | Apparatus for aligning a substrate apparatus for processing a substrate therewith and method for aligning a substrate |
JP5731838B2 (en) * | 2010-02-10 | 2015-06-10 | キヤノンアネルバ株式会社 | Tray-type substrate transfer system, film forming method, and electronic device manufacturing method |
JP5546299B2 (en) * | 2010-03-17 | 2014-07-09 | 株式会社アルバック | Clamp device and substrate holder |
CN102212783A (en) * | 2010-04-12 | 2011-10-12 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | Coating support and coating machine |
US9837295B2 (en) | 2010-04-15 | 2017-12-05 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for semiconductor wafer leveling, force balancing and contact sensing |
US9859141B2 (en) | 2010-04-15 | 2018-01-02 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Apparatus and method for aligning and centering wafers |
KR101366839B1 (en) * | 2012-03-30 | 2014-02-26 | (주)에스엔텍 | Tray for high temperature process |
US9082799B2 (en) * | 2012-09-20 | 2015-07-14 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | System and method for 2D workpiece alignment |
KR101381679B1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-04-04 | 주식회사 선익시스템 | A apparatus for attaching/detaching substrates to prevent damage of substrates |
KR20150132414A (en) * | 2013-03-15 | 2015-11-25 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Carrier for a substrate and method for carrying a substrate |
KR101458719B1 (en) * | 2013-10-02 | 2014-11-05 | 현대중공업 주식회사 | Adjusting apparatus for starting point of transferring arm and method for adjusting starting point of transferring arm |
KR101827527B1 (en) * | 2016-04-26 | 2018-02-08 | 제이비코프레이션 주식회사 | Substrate transfer tray for sputter |
KR101952718B1 (en) * | 2017-01-31 | 2019-02-27 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | A method of processing a substrate and a substrate carrier for holding the substrate |
CN107686960B (en) * | 2017-07-25 | 2019-12-17 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Film forming device |
CN107761051B (en) * | 2017-11-14 | 2019-08-27 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | A kind of mask, mask evaporation component and evaporation coating device |
KR102099773B1 (en) * | 2018-03-27 | 2020-04-10 | 하명순 | jig apparatus for multi masking |
JP7292913B2 (en) * | 2019-03-26 | 2023-06-19 | 株式会社アルバック | Vacuum device, Conveyor, Alignment method |
JP7263082B2 (en) * | 2019-03-29 | 2023-04-24 | 株式会社アルバック | Vacuum device, Conveyor, Alignment method |
CN110205599A (en) * | 2019-07-15 | 2019-09-06 | 云谷(固安)科技有限公司 | Substrate placing stage and evaporated device |
KR20210091557A (en) * | 2020-01-14 | 2021-07-22 | 한국알박(주) | Magnet clamp for tray |
CN114908329B (en) * | 2021-02-08 | 2024-03-08 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | Correction method and semiconductor manufacturing apparatus |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01226580A (en) * | 1988-02-26 | 1989-09-11 | Yamaichi Electric Mfg Co Ltd | Ic carrier |
JPH0499275A (en) * | 1990-08-10 | 1992-03-31 | Ulvac Japan Ltd | Carrier for transporting base plate for sputtering |
JPH04110466A (en) * | 1990-08-31 | 1992-04-10 | Oki Electric Ind Co Ltd | Wafer holder |
US5192087A (en) * | 1990-10-02 | 1993-03-09 | Nippon Steel Corporation | Device for supporting a wafer |
JPH10302257A (en) * | 1997-04-24 | 1998-11-13 | Fuji Electric Co Ltd | Film forming disc holder |
US5971156A (en) * | 1997-09-05 | 1999-10-26 | Kinetrix, Inc. | Semiconductor chip tray with rolling contact retention mechanism |
JP3075228B2 (en) * | 1997-09-29 | 2000-08-14 | 日本電気株式会社 | PCB mounting jig |
JPH11163104A (en) * | 1997-11-27 | 1999-06-18 | Sony Corp | Sheet board holding device in surface treatment of the sheet board |
US6143147A (en) * | 1998-10-30 | 2000-11-07 | Tokyo Electron Limited | Wafer holding assembly and wafer processing apparatus having said assembly |
US6258228B1 (en) * | 1999-01-08 | 2001-07-10 | Tokyo Electron Limited | Wafer holder and clamping ring therefor for use in a deposition chamber |
KR100838065B1 (en) * | 2002-05-31 | 2008-06-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | Fixed device for thin film sputter and fixed method using the same |
US6786739B2 (en) * | 2002-09-30 | 2004-09-07 | Intel Corporation | Bridge clip with reinforced stiffener |
JP4331707B2 (en) * | 2004-12-16 | 2009-09-16 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | Alignment system, vertical tray transfer device, and vapor deposition device equipped with the same |
JP4364196B2 (en) * | 2005-01-05 | 2009-11-11 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | Tray alignment system |
-
2005
- 2005-01-05 KR KR1020050000956A patent/KR100583522B1/en active IP Right Grant
- 2005-07-11 JP JP2005202322A patent/JP4846285B2/en active Active
- 2005-10-31 CN CN2005101170513A patent/CN1800443B/en active Active
-
2006
- 2006-01-05 US US11/325,575 patent/US8166641B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1800443A (en) | 2006-07-12 |
US8166641B2 (en) | 2012-05-01 |
CN1800443B (en) | 2010-09-01 |
KR100583522B1 (en) | 2006-05-25 |
JP2006188747A (en) | 2006-07-20 |
US20060144738A1 (en) | 2006-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4846285B2 (en) | Substrate fixing tray and substrate alignment system using the same | |
US20060148114A1 (en) | Method of forming mask and mask | |
KR100664777B1 (en) | Method and apparatus for mounting electronic device | |
JP4084393B2 (en) | Component mounting apparatus and component mounting method | |
JP2007305952A (en) | Substrate alignment method | |
JP3904429B2 (en) | Backup pin positioning device | |
TWI780643B (en) | Die tool holding device, die tool positioning device, multi-component transfer device, and manufacturing method of component array | |
JP3314663B2 (en) | Chip bonding equipment | |
JP2021158329A (en) | Stamp tool holding device and manufacturing method of element array | |
JP2002368058A (en) | Carrier for display substrate | |
JP4641390B2 (en) | Vacuum deposition equipment | |
KR100703544B1 (en) | Device for alining tray | |
KR100583521B1 (en) | Substrate supported tray alignment system | |
JP2008304640A (en) | Positioning equipment and method, and assembling equipment and method | |
JPH10218339A (en) | Carrying device | |
JP4281490B2 (en) | Substrate backing device for electronic component mounting equipment | |
JP2004273756A (en) | Device and method for fixing substrate | |
JP2022098289A (en) | Multi-element transfer device and manufacturing method of element array | |
KR100671656B1 (en) | A tray alignment assembly | |
JP2022098290A (en) | Stamp tool positioning device and manufacturing method of element array | |
KR100596336B1 (en) | Device for receiving substrate and method for aligning thereof | |
CN117203057A (en) | Conveying clamp and supporting component and working device | |
JP2003034012A (en) | Cream solder printing apparatus | |
JP2527690B2 (en) | Contact alignment structure in IC socket | |
JP2003005653A (en) | Id tag attaching apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20081208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090317 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100309 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110301 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110818 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110913 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111012 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4846285 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |