JP4834477B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

この発明は、表示装置に係り、特に、品質に関わる検査を行うための検査部を備えた表示装置に関する。

液晶表示装置などの表示装置は、マトリクス状の画素によって構成されたアクティブエリアを備えている。このアクティブエリアは、画素の行方向に沿って延在する複数の走査線、画素の列方向に沿って延在する複数の信号線、これら走査線と信号線との交差部付近に配置されたスイッチング素子、スイッチング素子に接続された画素電極などを備えている。

アクティブエリアの各走査線や各信号線に接続された配線群は、アクティブエリアの周囲に配置されている。このような配線群でのショートや断線、さらにはアクティブエリアでのショートや断線などの表示パネル上での配線不良を検査する検査配線を同一の表示パネル上に備えた表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
特開２００１−０３３８１３号公報

このような表示パネルを製造する過程において、検査用配線が損傷を受けたり、隣接する検査用配線の間に導電性を有する異物が付着したりすると、表示パネルの配線不良を検査することが困難となる。

そこで、この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示パネル上の配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。

この発明の第１の態様による表示装置は、
複数の画素を有するアクティブエリアと、
前記アクティブエリア外に配置され、前記アクティブエリアの検査を行うための検査部と、を備え、
前記検査部は、
複数の第１配線パターンからなる第１配線パターン群と、
第１配線パターンのそれぞれとは離間した複数の第２配線パターンからなる第２配線パターン群と、
検査部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、各第１配線パターンと対応する第２配線パターンとをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の開口部のエッジから１０μｍ以上離間して配置され、第１配線パターンと第２配線パターンとを電気的に接続する複数の第３配線パターンからなる第３配線パターン群と、
を備えたことを特徴とする。

この発明の第２の態様による表示装置は、
複数の画素を有するアクティブエリアと、
前記アクティブエリア外に配置され、前記アクティブエリアの検査を行うための検査部と、を備え、
前記検査部は、
複数の第１配線パターンからなる第１配線パターン群と、
第１配線パターンのそれぞれとは離間した複数の第２配線パターンからなる第２配線パターン群と、
検査部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、各第１配線パターンと対応する第２配線パターンとをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の開口部に配置され、第１配線パターンと第２配線パターンとを電気的に接続する複数の第３配線パターンからなる第３配線パターン群と、を備え、
前記絶縁膜は、隣接する第３配線パターン間に、開口部のエッジから開口部の内方に向かって突出した突起部を有することを特徴とする。

この発明によれば、表示パネル上の配線不良を安定して検査することが可能であり、しかも、製造歩留まりの低下を抑制することが可能な表示装置を提供することができる。

以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置、特に液晶表示装置について図面を参照して説明する。

図１に示すように、液晶表示装置は、略矩形平板状の表示パネルとして液晶表示パネル１を備えている。この液晶表示パネル１は、一対の基板すなわちアレイ基板３及び対向基板４と、これら一対の基板の間に光変調層として保持された液晶層５と、によって構成されている。この液晶表示パネル１は、画像を表示する略矩形状のアクティブエリア６を備えている。このアクティブエリア６は、マトリクス状に配置された複数の画素ＰＸを有している。

アレイ基板３は、アクティブエリア６において、画素ＰＸの行方向に沿って延在する複数の走査線Ｙ（１、２、３、…、ｍ）、画素ＰＸの列方向に沿って延在する複数の信号線Ｘ（１、２、３、…、ｎ）、これらの走査線Ｙと信号線Ｘとの交差部付近において画素ＰＸ毎に配置されたスイッチング素子７、スイッチング素子７に接続された画素電極８などを備えている。走査線Ｙ及び信号線Ｘは、絶縁層を介して互いに異なる層に配置されている。

スイッチング素子７は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などによって構成されている。このスイッチング素子７のゲート電極７Ｇは、対応する走査線Ｙに電気的に接続されている（あるいは走査線と一体に形成されている）。スイッチング素子７のソース電極７Ｓは、対応する信号線Ｘに電気的に接続されている（あるいは信号線と一体に形成されている）。スイッチング素子７のドレイン電極７Ｄは、対応する画素ＰＸの画素電極８に電気的に接続されている。

画素電極８は、バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型の液晶表示装置においては、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの光透過性を有する金属材料によって形成される。また、画素電極８は、対向基板４側から入射する外光を選択的に反射して画像を表示する反射型の液晶表示装置においては、アルミニウム（Ａｌ）などの光反射性を有する金属材料によって形成される。

対向基板４は、アクティブエリア６において、全画素ＰＸに共通の対向電極９などを備えている。この対向電極９は、ＩＴＯなどの光透過性を有する金属材料によって形成されている。これらアレイ基板３及び対向基板４は、画素電極８と対向電極９とを対向させた状態で配設され、これらの間にギャップを形成しつつシール材によって貼り合わせられている。液晶層５は、アレイ基板３と対向基板４とのギャップに封止された液晶組成物によって形成されている。

カラー表示タイプの液晶表示装置では、液晶表示パネル１は、複数種類の画素、例えば赤（Ｒ）を表示する赤色画素、緑（Ｇ）を表示する緑色画素、青（Ｂ）を表示する青色画素を有している。すなわち、赤色画素は、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタを備えている。緑色画素は、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタを備えている。青色画素は、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタを備えている。これらカラーフィルタは、アレイ基板３または対向基板４の主面に配置される。

液晶表示パネル１は、アクティブエリア６の外側に位置する外周部１０に駆動信号源として駆動ＩＣチップ１１を配置可能である。図１に示した例では、駆動ＩＣチップ１１は、対向基板４の端部４Ａより外方に延在したアレイ基板３の延在部１０Ａ上に配置されている。なお、液晶表示パネル１は、アクティブエリア６に駆動信号を供給する駆動回路を有するフレキシブル・プリンテッド・サーキット（ＦＰＣ）を接続可能な接続パッド部を、駆動ＩＣチップ１１と同様に延在部１０Ａ上に配置しても良い。このような駆動ＩＣチップ１１やフレキシブル・プリンテッド・サーキットは、異方性導電膜などを介して電気的及び機械的に液晶表示パネル１に接続される。

液晶表示パネル１に実装された駆動ＩＣチップ１１は、アクティブエリア６の各信号線Ｘに駆動信号（映像信号）を供給する信号線駆動部１１Ｘの少なくとも一部、及び、アクティブエリア６の各走査線Ｙに駆動信号（走査信号）を供給する走査線駆動部１１Ｙの少なくとも一部を有している。

走査線駆動部１１Ｙは、例えば、奇数番走査線Ｙ（１、３、５、…）に対して駆動信号を出力する第１駆動部１１Ｙ１、及び、偶数番走査線Ｙ（２、４、６、…）に対して駆動信号を出力する第２駆動部１１Ｙ２を含んで構成されてもよい。これら第１駆動部１１Ｙ１及び第２駆動部１１Ｙ２は、信号線駆動部１１Ｘを挟んだ両側にそれぞれ配置されている。

より詳細には、第１駆動部１１Ｙ１は、外周部１０の一端側１０Ｂに配置された第１配線群２０を介して奇数番走査線Ｙ（１、３、５、…）と電気的に接続されている。この第１配線群２０は、奇数番走査線Ｙ（１、３、５、…）のそれぞれに接続された配線Ｗ（１、３、５、…）によって構成されている。つまり、第１駆動部１１Ｙ１から出力された駆動信号は、各配線Ｗ（１、３、５、…）を介して対応する奇数番走査線Ｙ（１、３、５、…）に供給され、奇数行目の画素ＰＸをオン・オフさせる。すなわち、奇数行目の各画素ＰＸに含まれるスイッチング素子７は、対応する走査線Ｙから供給された駆動信号に基づいてオン・オフ制御される。

第２駆動部１１Ｙ２は、外周部１０の他端側１０Ｃに配置された第２配線群３０を介して偶数番走査線Ｙ（２、４、６、…）と電気的に接続されている。この第２配線群３０は、偶数番走査線Ｙ（２、４、６、…）のそれぞれに接続された配線Ｗ（２、４、６、…）によって構成されている。つまり、第２駆動部１１Ｙ２から出力された駆動信号は、各配線Ｗ（２、４、６、…）を介して対応する偶数番走査線Ｙ（２、４、６、…）に供給され、偶数行目の画素ＰＸをオン・オフさせる。すなわち、偶数行目の各画素ＰＸに含まれるスイッチング素子７は、対応する走査線Ｙから供給された駆動信号に基づいてオン・オフ制御される。

また、信号線駆動部１１Ｘは、各信号線Ｘ（１、２、３、…）と電気的に接続されている。つまり、信号線駆動部１１Ｘから出力された駆動信号は、対応する各信号線Ｘ（１、２、３、…）に供給される。各列の各画素ＰＸに含まれるスイッチング素子７は、オンしたタイミングで対応する信号線Ｘから供給された映像信号を画素電極８に入力する。

アレイ基板３は、図１に示すように、外周部１０における第１配線群２０の各配線間の配線不良、第２配線群３０の各配線間の配線不良、及び、アクティブエリア６における配線不良や画素ＰＸの表示品位など、アクティブエリア６での品質に関わる検査を行うための検査部４０を備えている。この検査部４０は、駆動ＩＣチップ１１が配置される領域に対応して形成されている。

図２に示すように、検査部４０は、信号線駆動部１１Ｘに対応して設けられた信号線検査部４１、走査線駆動部１１Ｙの第１駆動部１１Ｙ１に対応して設けられた第１走査線検査部４２、第２駆動部１１Ｙ２に対応して設けられた第２走査線検査部４３、及び、各検査部４１、４２、４３に各種信号を入力するためのパッド部４４を有している。

信号線検査部４１は、アクティブエリア６を検査する際に検査用の駆動信号が供給されるとともに各信号線Ｘに接続された信号線検査用配線５１を備えている。また、信号線検査部４１は、各信号線Ｘ（１、２、…、ｎ）と信号線検査用配線５１との間にスイッチング素子６１を備えている。さらに、信号線検査部４１は、アクティブエリア６を検査する際にスイッチング素子６１のオン・オフを制御する検査用の制御信号が供給される検査用制御配線５５を備えている。つまり、信号線検査用配線５１及び検査用制御配線５５は、信号線検査部４１において、アクティブエリア６を検査する際に検査用の信号が供給される検査用配線として機能する。

スイッチング素子６１は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。各スイッチング素子６１のゲート電極６１Ｇは、検査用制御配線５５に電気的に接続されている。また、各スイッチング素子６１のソース電極６１Ｓは、信号線検査用配線５１に電気的に接続されている。さらに、各スイッチング素子６１のドレイン電極６１Ｄは、対応する信号線Ｘに電気的に接続されている。

第１走査線検査部４２は、アクティブエリア６を検査する際に検査用の駆動信号が供給されるとともに第１配線群２０の各配線２１、例えば配線Ｗ１、Ｗ３、Ｗ５…に接続された第１検査用配線５２を備えている。また、第１走査線検査部４２は、各配線２１と第１検査用配線５２との間にスイッチング素子６２を備えている。さらに、第１走査線検査部４２は、アクティブエリア６を検査する際にスイッチング素子６２のオン・オフを制御する検査用の制御信号が供給される検査用制御配線５５を備えている。この検査用制御配線５５は、信号線検査部４１と共通である。つまり、第１検査用配線５２及び検査用制御配線５５は、第１走査線検査部４２において、アクティブエリア６を検査する際に検査用の信号が供給される検査用配線として機能する。

スイッチング素子６２は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。各スイッチング素子６２のゲート電極６２Ｇは、検査用制御配線５５に電気的に接続されている。また、各スイッチング素子６２のソース電極６２Ｓは、対応する第１検査用配線５２に電気的に接続されている。さらに、各スイッチング素子６２のドレイン電極６２Ｄは、対応する配線２１に電気的に接続されている。

第２走査線検査部４３は、アクティブエリア６を検査する際に検査用の駆動信号が供給されるとともに第２配線群３０の各配線３１、例えば配線Ｗ２、Ｗ４、Ｗ６…に接続された第２検査用配線５３を備えている。また、第２走査線検査部４３は、各配線３１と第２検査用配線５３との間にスイッチング素子６３を備えている。さらに、第１走査線検査部４２は、アクティブエリア６を検査する際にスイッチング素子６３のオン・オフを制御する検査用の制御信号が供給される検査用制御配線５５を備えている。この検査用制御配線５５は、信号線検査部４１と共通である。つまり、第２検査用配線５３及び検査用制御配線５５は、第２走査線検査部４３において、アクティブエリア６を検査する際に検査用の信号が供給される検査用配線として機能する。

スイッチング素子６３は、例えば薄膜トランジスタによって構成されている。各スイッチング素子６３のゲート電極６３Ｇは、検査用制御配線５５に電気的に接続されている。また、各スイッチング素子６３のソース電極６３Ｓは、対応する第２検査用配線５３に電気的に接続されている。さらに、各スイッチング素子６３のドレイン電極６３Ｄは、対応する配線３１に電気的に接続されている。

パッド部４４は、信号線検査用配線５１の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド７１、第１検査用配線５２の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド７２、第２検査用配線５３の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド７３、及び、検査用制御配線５５の一端部に駆動信号の入力を可能とする入力パッド７５を備えている。

入力パッド７１から入力される駆動信号は、検査段階において、各画素ＰＸの画素電極８に書き込まれる検査用の映像信号である。入力パッド７２及び７３から入力される駆動信号は、検査段階において、各画素ＰＸのスイッチング素子７のオン・オフを制御するための検査用の制御信号である。入力パッド７５から入力される駆動信号は、検査段階において、信号線検査部４１のスイッチング素子６１、第１走査線検査部４２のスイッチング素子６２、及び、第２走査線検査部４３のスイッチング素子６３のオン・オフを制御するための検査用のスイッチ信号である。

各信号線Ｘ（１、２、…ｎ）、第１配線群２０の各配線２１、及び、第２配線群３０の各配線３１は、それぞれの中途部に駆動ＩＣチップ１１との接続を可能とする接続パッドＰＤを備えている。

上述したような構成の液晶表示装置によれば、アクティブエリアの両端側から奇数番走査線及び偶数番走査線にそれぞれ駆動信号を供給可能なレイアウトにおいて、奇数番走査線に駆動信号を供給するための第１配線群を構成する第１配線に対して検査信号を入力することが可能となるとともに、偶数番走査線に駆動信号を供給するための第２配線群を構成する第２配線に対して検査信号を入力することが可能となる。このため、第１配線群における配線間でのショートや各配線の断線、及び、第２配線群における配線間でのショートや各配線の断線といったパネル上での配線不良を確実に検出することが可能となる。

また、信号線検査部４１、第１走査線検査部４２、及び、第２走査線検査部４３は、駆動ＩＣチップ１１が配置される領域に対応して、アレイ基板３の延在部１０Ａ上に配置されている。当然のことながら、各種検査用配線５１〜５５は、延在部１０Ａ上に配置されている。これらの検査用配線は、駆動ＩＣチップ１１の長手方向に沿って伸びている。つまり、検査用配線は、駆動ＩＣチップ１１を実装した際に駆動ＩＣチップ１１に重なる。要するに、外形寸法を拡大することなく、駆動ＩＣチップを実装可能な領域を確保する一方でアレイ基板上に検査用配線を配置することが可能となる。

さらに、駆動ＩＣチップ１１を接続可能な接続パッドＰＤは、アクティブエリア６と検査部４０との間に配置されている。このため、アクティブエリア６での品質に関わる検査を行うための検査信号が検査部４０を介して供給される配線経路と、アクティブエリア６に画像を表示するための駆動信号（映像信号及び走査信号）が駆動ＩＣチップ１１から供給される配線経路とが一致する。したがって、検査部４０を介した検査により良品と判定された液晶表示パネル１に、正常と判定された駆動ＩＣチップ１１を実装することにより、信頼性の高い液晶表示装置を提供することが可能となる。

また、検査部４０を備えたアレイ基板３において、検査部４０を覆うように後述する絶縁膜を配置することにより、検査部４０に対応して駆動ＩＣチップ１１を配置する際の検査用配線の損傷を防止することができるとともに、隣接する検査用配線間への導電性の異物の付着を防止することができる。

≪第１構造例≫
次に、検査部４０の第１構造例について具体的に説明する。

図３及び図４に示すように、検査部４０を構成する各種検査用配線は、複数の金属層の配線パターンを利用して形成されている。すなわち、アレイ基板３は、絶縁基板１１０上に配置された第１金属層Ｍ１、第１金属層Ｍ１上に配置された第１絶縁膜１２０Ａ、第１絶縁膜１２０Ａ上に配置された第２金属層Ｍ２、第２金属層Ｍ２上に配置された第２絶縁膜１２０Ｂ、第２絶縁膜１２０Ｂ上に配置された第３の絶縁膜１３０（例えば平坦化膜（ＨＲＣ）と呼ばれる基板表面の平坦化を目的とする膜）、絶縁膜１３０上に配置された第３金属層Ｍ３などを備えている。

第１金属層Ｍ１は、例えば、走査線Ｙなどを形成する金属層であり、モリブデン（Ｍｏ）／タングステン（Ｗ）などの金属材料によって形成されている。第２金属層Ｍ２は、例えば、信号線Ｘなどを形成する金属層であり、モリブデン（Ｍｏ）／アルミニウム（Ａｌ）／モリブデン（Ｍｏ）などの金属材料によって形成されている。第３金属層Ｍ３は、例えば、画素電極８などを形成する金属層であり、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの金属材料によって形成されている。

第１絶縁膜１２０Ａ及び第２絶縁膜１２０Ｂは、窒化シリコン膜（ＳｉＮ）や酸化シリコン膜（ＳｉＯ_２）などの無機系材料によって形成されている。絶縁膜１３０は、アクリル樹脂などの有機系材料によって形成されている。この絶縁膜１３０は、検査部４０のほぼ全体を覆うように島状に配置されている。

検査部４０は、図３に示すように、複数の第１配線パターンＷＰ１からなる第１配線パターン群Ｇ１と、これら第１配線パターンＷＰ１のそれぞれとは離間した複数の第２配線パターンＷＰ２からなる第２配線パターン群Ｇ２と、各第１配線パターンＷＰ１と対応する第２配線パターンＷＰ２とをそれぞれ個別に電気的に接続する複数の第３配線パターンＷＰ３からなる第３配線パターン群Ｇ３と、を備えている。つまり、検査部４０を構成する各検査用配線は、第１配線パターンＷＰ１と第２配線パターンＷＰ２とを第３配線パターン２ＷＰ３によって電気的に接続したブリッジ構造によって形成されたものを含んでいる。

図４に示した例では、第１配線パターンＷＰ１は第１金属層Ｍ１に形成され、第２配線パターンＷＰ２は第２金属層Ｍ２に形成され、第３配線パターンＷＰ３は第３金属層Ｍ３に形成されている。

なお、図４に示した例に限らず、第１配線パターンＷＰ１及び第２配線パターンＷＰ２は、その双方が同一金属層（すなわち第１金属層Ｍ１または第２金属層Ｍ２のいずれか一方）に形成されていても、また、双方が互いに異なる金属層に形成されていても良い（すなわち一方が第１金属層Ｍ１に形成され、他方が第２金属層Ｍ２に形成されていてもよい）。

第１配線パターンＷＰ１は、少なくともその一端部（コンタクト部）Ｃ１が検査部４０の内部に延在している。この第１配線パターンＷＰ１のコンタクト部Ｃ１は、第１絶縁膜１２０Ａ及び第２絶縁膜１２０Ｂを貫通するコンタクトホールＣＨ１から露出している。第２配線パターンＷＰ２は、少なくともその一端部（コンタクト部）Ｃ２が検査部４０の内部に延在している。この第２配線パターンＷＰ２のコンタクト部Ｃ２は、第２絶縁膜１２０Ｂを貫通するコンタクトホールＣＨ２から露出している。

絶縁膜１３０は、各第１配線パターンＷＰ１と対応する第２配線パターンＷＰ２とをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部ＡＰを有している。すなわち、開口部ＡＰは、複数の第３配線パターンＷＰ３が並ぶ方向（図３における矢印Ｄの方向）に伸びた帯状に形成されている。この開口部ＡＰは、複数の第１配線パターンＷＰ１の各コンタクト部Ｃ１を露出するとともに、複数の第２配線パターンＷＰ２の各コンタクト部Ｃ２を露出し、これらのコンタクト部Ｃ１及びＣ２をつなぐように絶縁膜１３０の下層に位置する第２絶縁膜１２０Ｂを露出する。

第３配線パターンＷＰ３は、絶縁膜１３０の開口部ＡＰのエッジＡＰＥから離間して配置され、第１配線パターンＷＰ１と第２配線パターンＷＰ２とを電気的に接続している。すなわち、第３配線パターンＷＰ３は、コンタクト部Ｃ１及びＣ２に接触するとともに、これらのコンタクト部Ｃ１及びＣ２をつなぐように第２絶縁膜１２０Ｂ上に延在している。このため、第３配線パターンＷＰ３は、第１配線パターンＷＰ１のコンタクト部Ｃ１及び第２配線パターンＷＰ２のコンタクト部Ｃ２を露出するコンタクトホールを経由して絶縁膜１３０上に配置される場合と比較して、配置される領域の凹凸の影響を受けにくい。これにより、第３配線パターンＷＰ３の断線を防止することが可能となる。

また、第１構造例においては、第３配線パターンＷＰ３は、開口部ＡＰのエッジＡＰＥから十分に離間して配置されている。ここで、エッジＡＰＥとは、開口部ＡＰを規定する端辺のうち、図３における矢印Ｄの方向に伸びた端辺に相当する。この第３配線パターンＷＰ３とエッジＡＰＥとの間隔Ｇは、１０μｍ以上であることが望ましい。

すなわち、小型化及び高精細化などの要求により、画素ピッチがさらに小さくなったり、狭額縁化がさらに進んだりして、配線ピッチ、ここでは特に第３配線パターンＷＰ３のピッチを十分に確保できなくなった場合、開口部ＡＰは、上述したように複数の配線パターンに共通に形成される。このとき、開口部ＡＰのエッジＡＰＥと第３配線パターンＷＰ３とが近接していると、開口部ＡＰ内で第３配線パターンＷＰ３のパターニング不良が発生した際に、隣接する検査用配線間でショートすることがある。発明者の検討によれば、第３配線パターンＷＰ３とエッジＡＰＥとの間隔Ｇが１０μｍ未満のとき、間隔Ｇが小さいほど隣接する検査用配線間でのショート発生率が高かったが、間隔Ｇが１０μｍ以上のときにはショートの発生がほぼ皆無であった。ショート発生率の低下のためには、間隔Ｇは広いことが望ましいことが検証された。

一方で、額縁面積の制約があり、間隔Ｇを広げすぎた場合に、開口部ＡＰがシール材の塗布領域に重なると、シール材の塗布ムラを生じたり、開口部ＡＰの深さ分だけ段差が生じて貼り合せ不良やギャップ不良を生じたりするおそれがある。また、開口部ＡＰがアクティブエリア６まで広がると、画素でのギャップ不良に起因して表示不良を生じるおそれがある。このため、発明者の検討によれば、第３配線パターンＷＰ３とエッジＡＰＥとの間隔Ｇは、４０μｍ以下とすることが望ましいことが検証された。

≪第２構造例≫
次に、検査部４０の第２構造例について具体的に説明する。

図５に示すように、第１構造例と同様に、検査部４０を構成する各種検査用配線は、複数の金属層の配線パターンを利用して形成されている。

絶縁膜１３０は、各第１配線パターンＷＰ１と対応する第２配線パターンＷＰ２とをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部ＡＰを有している。すなわち、開口部ＡＰは、図５における矢印Ｄの方向に伸びた帯状に形成されている。この開口部ＡＰは、複数の第１配線パターンＷＰ１の各コンタクト部Ｃ１を露出するとともに、複数の第２配線パターンＷＰ２の各コンタクト部Ｃ２を露出し、これらのコンタクト部Ｃ１及びＣ２をつなぐように絶縁膜１３０の下層に位置する第２絶縁膜１２０Ｂを露出する。

第３配線パターンＷＰ３は、絶縁膜１３０の開口部ＡＰに配置され、第１配線パターンＷＰ１と第２配線パターンＷＰ２とを電気的に接続している。すなわち、第３配線パターンＷＰ３は、コンタクト部Ｃ１及びＣ２に接触するとともに、これらのコンタクト部Ｃ１及びＣ２をつなぐように第２絶縁膜１２０Ｂ上に延在している。

この第２構造例においては、絶縁膜１３０は、隣接する第３配線パターンＷＰ３間に、開口部ＡＰのエッジＡＰＥから開口部ＡＰの内方に向かって突出した突起部１３０Ｐを有している。

すなわち、複数の配線パターンに共通の開口部ＡＰを形成したとき、第１構造例のように、第３配線パターンＷＰ３とエッジＡＰＥとの間隔Ｇを十分に確保できない場合、開口部ＡＰ内で第３配線パターンＷＰ３のパターニング不良が発生した際に、第３配線パターンＷＰ３を形成するための金属材料がエッジＡＰＥに沿って残り、隣接する第３配線パターンＷＰ３が繋がってしまうことによるショートが発生することがある。

そこで、絶縁膜１３０に開口部ＡＰを形成するためのパターニング工程において、隣接するコンタクト部Ｃ１の間、及び、隣接するコンタクト部Ｃ２の間に延在するように突起部１３０Ｐを形成する。これにより、第３配線パターンＷＰ３を形成するための金属材料を成膜した際、コンタクト部間のエッジＡＰＥ近傍には突起部１３０Ｐにより金属材料が成膜されない。突起部１３０Ｐ上に成膜された金属材料は、金属材料のパターニング工程により除去されるため、エッジＡＰＥに沿って金属材料が残るようなパターニング不良が発生したとしても、隣接する第３配線パターンＷＰ３間でのショートの発生を防止することができる。

特に、突起部１３０Ｐの形状としては、隣接するコンタクト部の間に向かって尖った略三角形状であることが望ましい。このような形状の突起部１３０Ｐは、隣接するコンタクト部間の狭いスペースであっても容易に配置することが可能であり、また、隣接する第３配線パターンＷＰ３のそれぞれを区画してショートの発生を防止できる。

以上説明したように、この実施の形態によれば、検査部を備えたアレイ基板において、検査部を覆うように島状に配置された絶縁膜により、検査用配線の損傷や隣接する検査用配線間への導電性の異物の付着を防止することができる。

また、検査部は、同層または異層に配置された第１配線パターンと第２配線パターンとをこれらとは異なる層の第３配線パターンによって電気的に接続したブリッジ構造の検査用配線を含んでいる。各検査用配線のブリッジ構造は、絶縁膜に形成された開口部に配置されている。このとき、第３配線パターンを開口部のエッジから十分に離間して配置する、あるいは、隣接する第３配線パターン間に開口部のエッジから開口部の内方に向かって突出した突起部を絶縁膜に形成することにより、たとえ、開口部内で第３配線パターンのパターニング不良が発生しても、隣接するブリッジ構造が導通することがなく、検査用配線間でのショートを防止することが可能となる。

したがって、検査部を用いて表示パネル上の各種配線の配線不良を安定的に検査することが可能となる。このため、配線不良の表示パネルの後工程への流出を未然に防ぐことが可能となる。これにより、製造歩留まりの低下を抑制することが可能となる。

なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。

この発明の表示装置は、上述した液晶表示装置に限定されるものではない。例えば、アクティブエリアの両端側から奇数番走査線及び偶数番走査線にそれぞれ駆動信号を供給するレイアウトに限らず、アクティブエリアの一端側から全走査線にそれぞれ駆動信号を供給するレイアウトに適用しても良い。また、第１絶縁膜および第２絶縁膜も適宜形成方法形成場所を変更しても良いし、第１配線パターンおよび第２配線パターンも、必ずしも前記のような延在形態でなくとも良い。また、表示装置の一例として液晶表示装置を例に説明したが、自己発光素子を表示素子とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置に適用しても良い。

図１は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示パネルの構成を概略的に示す図である。 図２は、図１に示した液晶表示パネルの検査部の構成を概略的に示す図である。 図３は、図２に示した検査部の第１構造例に係る検査用配線の一部を拡大した平面図である。 図４は、図３に示した検査部をＡ−Ａ線で切断したときの断面図である。 図５は、図２に示した検査部の第２構造例に係る検査用配線の一部を拡大した平面図である。

符号の説明

ＰＸ…画素、１…液晶表示パネル、３…アレイ基板、６…アクティブエリア、１０…外周部、１０Ａ…延在部、１１…駆動ＩＣチップ、２０…第１配線群、２１…配線、３０…第２配線群、３１…配線、４０…検査部、４１…信号線検査部、４２…第１走査線検査部、４３…第２走査線検査部、４４…パッド部、５１…信号線検査用配線、５２…第１検査用配線、５３…第２検査用配線、５５…検査用制御配線、１２０Ａ…第１絶縁膜、１２０Ｂ…第２絶縁膜、１３０…絶縁膜、１３０Ｐ…突起部、ＡＰ…開口部、ＡＰＥ…エッジ、Ｍ１…第１金属層、Ｍ２…第２金属層、Ｍ３…第３金属層、ＷＰ１…第１配線パターン、ＷＰ２…第２配線パターン、ＷＰ３…第３配線パターン、Ｇ１…第１配線パターン群、Ｇ２…第２配線パターン群、Ｇ３…第３配線パターン群、Ｃ１…コンタクト部、Ｃ２…コンタクト部

Claims (8)

1. 複数の画素を有するアクティブエリアと、
   前記アクティブエリア外に配置され、前記アクティブエリアの検査を行うための検査部と、を備え、
   前記検査部は、
   複数の第１配線パターンからなる第１配線パターン群と、
   第１配線パターンのそれぞれとは離間した複数の第２配線パターンからなる第２配線パターン群と、
   検査部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、各第１配線パターンと対応する第２配線パターンとをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部を有する絶縁膜と、
   前記絶縁膜の開口部のエッジから１０μｍ以上離間して配置され、第１配線パターンと第２配線パターンとを電気的に接続する複数の第３配線パターンからなる第３配線パターン群と、
   を備えたことを特徴とする表示装置。
2. 前記第３配線パターンと前記絶縁膜の開口部のエッジとの間隔は、４０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
3. 複数の画素を有するアクティブエリアと、
   前記アクティブエリア外に配置され、前記アクティブエリアの検査を行うための検査部と、を備え、
   前記検査部は、
   複数の第１配線パターンからなる第１配線パターン群と、
   第１配線パターンのそれぞれとは離間した複数の第２配線パターンからなる第２配線パターン群と、
   検査部のほぼ全体を覆うように島状に配置され、各第１配線パターンと対応する第２配線パターンとをつなぐ配線を施すために複数の配線パターンに共通の開口部を有する絶縁膜と、
   前記絶縁膜の開口部に配置され、第１配線パターンと第２配線パターンとを電気的に接続する複数の第３配線パターンからなる第３配線パターン群と、を備え、
   前記絶縁膜は、隣接する第３配線パターン間に、開口部のエッジから開口部の内方に向かって突出した突起部を有することを特徴とする表示装置。
4. 前記突起部は、略三角形状であることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
5. 前記アクティブエリアは、アレイ基板と対向基板との間に液晶層を保持した液晶表示パネルに備えられたことを特徴とする請求項１または３に記載の表示装置。
6. 前記検査部は、対向基板の端部より外方に延在したアレイ基板の延在部上に配置されたことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
7. さらに、前記検査部が配置された領域に対応して島状に配置された前記絶縁膜上に駆動ＩＣチップを備えたことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
8. 前記絶縁膜は、基板の平坦化膜であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。

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