JP4832500B2 - 電子素子ウエハモジュールの製造方法および光学素子ウエハモジュールの製造方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 177
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 48
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 243
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 201
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 201
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 148
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 65
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 24
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 19
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 9
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000007601 warm air drying Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000013144 data compression Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14683—Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14618—Containers
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/57—Mechanical or electrical details of cameras or camera modules specially adapted for being embedded in other devices
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/14—Semiconductor wafers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Signal Processing (AREA)
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Description
図1は、本発明の実施形態1に係るセンサウエハモジュールの要部構成例を示す縦断面図である。
上記実施形態1では、モジュールTSV上にレンズウエハモジュール4を貼り合わせた後に、レンズウエハモジュール4の各光開口部4aに遮光膜5によって光学絞りを形成する場合について説明したが、本実施形態2では、モジュールTSV上にレンズウエハモジュール4を貼り合わせる前に、レンズウエハモジュール4の各光開口部4aに遮光膜5によって光学絞りを形成した後に、モジュールTSV上にレンズウエハモジュール4を貼り合わせる場合について説明する。
上記実施形態2では、上記モジュールTSV上にレンズウエハモジュール4を貼り合わせる前に、レンズウエハモジュール4の各光開口部4a上の低粘着性の保護樹脂膜7およびその上の遮光膜5を剥がして遮光膜5によって光学絞りを形成した後に、モジュールTSV上にこのレンズウエハモジュール4を貼り合わせる場合について説明したが、本実施形態3では、上記モジュールTSV上にレンズウエハモジュール4を貼り合わせる前に、レンズウエハモジュール4の各光開口部4a上の可溶性の保護樹脂膜7Aを溶解して除去して遮光膜5によって光学絞りを形成した後に、モジュールTSV上にこのレンズウエハモジュール4を貼り合わせる場合について説明する。
図16は、本発明の実施形態4として、本発明の実施形態1〜3のセンサモジュール10を撮像部に用いた電子情報機器の概略構成例を示すブロック図である。
1a 撮像素子
1b 貫通穴
1c 半田ボール
2 樹脂接着層
3 ガラス板(透明支持基板)
4、4A レンズウエハモジュール(光学素子ウエハモジュール)
4a 光開口部
41 収差補正レンズ板
42 拡散レンズ板
43 集光レンズ板
5 遮光膜
5a 遮光膜材料
6a
7 低粘着性の保護樹脂膜
7A 可溶性の保護樹脂膜
8 粘着テープ(剥離テープ)
10 センサモジュール(光学素子モジュール)
11 センサウエハモジュール(光学素子ウエハモジュール)
TSV モジュール
Claims (15)
- 複数の電子素子が形成された電子素子ウェハ上に、少なくとも1枚のウェハ状の複数の光学素子がそれぞれ該複数の電子素子にそれぞれ対向して配置された電子素子ウェハモジュールの製造方法において、
該ウェハ状の複数の光学素子の各光開口部上にのみ保護樹脂膜を成膜する保護樹脂膜成膜工程と、
該各光開口部を除く領域上かまたは該各光開口部を含む全領域上に遮光膜を成膜する遮光膜成膜工程と、
該保護樹脂膜を除去するかまたは、該保護樹脂膜および該保護樹脂膜上の遮光膜材料を共に除去して、該各光開口部にそれぞれ、該遮光膜による光学絞り構造を形成する光学絞り形成工程とを有し、
該光学絞り形成工程は、
該保護樹脂膜上の遮光膜上に粘着テープを貼り付ける粘着テープ貼付工程と、
該粘着テープを、該保護樹脂膜および該保護樹脂膜上の遮光膜と共に引き剥がす粘着テープ引き剥がし工程とを有する電子素子ウェハモジュールの製造方法。 - 前記保護樹脂膜は、前記遮光膜よりも低粘着性の保護樹脂膜である請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記保護樹脂膜成膜工程は、ディスペンサーにより前記保護樹脂膜の材料を吐出して成膜する請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記保護樹脂膜成膜工程は、所定形状にパターンニングされたフォトレジスト膜をマスクとしてエッチング加工することにより、前記各光開口部上にのみ、前記保護樹脂膜を残す請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記保護樹脂膜のアスペクト比として膜厚/平面視直径を0.5〜1.0に設定する請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記遮光膜の材料は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ABS樹脂、PP樹脂およびPC樹脂のいずれかである請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記遮光膜の材料は、カーボンが含有されている請求項1または6に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記遮光膜の材料は、UV硬化樹脂または熱硬化樹脂である請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記電子素子ウェハ上に透明支持基板を配置し、該透明支持基板上に少なくとも1枚のウェハ状の複数の光学素子を配置する請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記複数の電子素子が形成された電子素子ウェハ上に、前記ウェハ状の複数の光学素子を貼り合わした後に、前記保護樹脂膜成膜工程と、前記遮光膜成膜工程と、前記光学絞り形成工程とを行う請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウェハが、複数枚、積層されて貼り合わされた光学素子ウェハモジュールを形成した後に、該光学素子ウェハモジュールに対して、前記保護樹脂膜成膜工程と、前記遮光膜成膜工程と、前記光学絞り形成工程とを行い、さらに、前記複数の電子素子が形成された電子素子ウェハ上に、前記光学絞り構造が形成された光学素子ウェハモジュールを貼り合わす請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウェハに対して、前記保護樹脂膜成膜工程と、前記遮光膜成膜工程と、前記光学絞り形成工程とを行った後に、当該光学素子ウェハが最も上に配置するように、該複数の光学素子が2次元状に配列された複数枚の光学素子ウェハを貼り合わして光学素子ウェハモジュールを形成し、さらに、前記複数の電子素子が形成された電子素子ウェハ上に、該光学素子ウェハモジュールを貼り合わす請求項1に記載の電子素子ウェハモジュールの製造方法。
- 複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウェハが、複数枚、積層されて貼り合わされた光学素子ウェハモジュールの製造方法において、
該ウェハ状の複数の光学素子の各光開口部上にのみ保護樹脂膜を成膜する保護樹脂膜成膜工程と、
該各光開口部を除く領域上かまたは該各光開口部を含む全領域上に遮光膜を成膜する遮光膜成膜工程と、
該保護樹脂膜を除去するかまたは、該保護樹脂膜および該保護樹脂膜上の遮光膜を共に除去して、該各光開口部にそれぞれ、該遮光膜による光学絞り構造を形成する光学絞り形成工程とを有し、
該光学絞り形成工程は、
該保護樹脂膜上の遮光膜上に粘着テープを貼り付ける粘着テープ貼付工程と、
該粘着テープを、該保護樹脂膜および該保護樹脂膜上の遮光膜と共に引き剥がして該各光開口部に光学絞りを形成する粘着テープ引き剥がし工程とを有する光学素子ウェハモジュールの製造方法。 - 前記複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウェハが、複数枚、積層されて貼り合わされた光学素子ウェハモジュールに対して、前記保護樹脂膜成膜工程と、前記遮光膜成膜工程と、前記光学絞り形成工程とを行う請求項13に記載の光学素子ウェハモジュールの製造方法。
- 前記複数の光学素子が2次元状に配列された光学素子ウェハに対して、前記保護樹脂膜成膜工程と、前記遮光膜成膜工程と、前記光学絞り形成工程とを行った後に、当該光学素子ウェハが最も上に配置するように、該複数の光学素子が2次元状に配列された複数枚の光学素子ウェハを貼り合わして光学素子ウェハモジュールを形成する請求項13に記載の光学素子ウェハモジュールの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008306876A JP4832500B2 (ja) | 2008-12-01 | 2008-12-01 | 電子素子ウエハモジュールの製造方法および光学素子ウエハモジュールの製造方法 |
CN200910224975A CN101752271A (zh) | 2008-12-01 | 2009-11-26 | 电子元件晶片模块、光学元件晶片模块及其制造方法 |
US12/628,607 US20100133419A1 (en) | 2008-12-01 | 2009-12-01 | Electronic element wafer module and method for manufacturing same, electronic element module, optical element wafer module and method for manufacturing same, and electronic information device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008306876A JP4832500B2 (ja) | 2008-12-01 | 2008-12-01 | 電子素子ウエハモジュールの製造方法および光学素子ウエハモジュールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010129989A JP2010129989A (ja) | 2010-06-10 |
JP4832500B2 true JP4832500B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=42221912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008306876A Expired - Fee Related JP4832500B2 (ja) | 2008-12-01 | 2008-12-01 | 電子素子ウエハモジュールの製造方法および光学素子ウエハモジュールの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100133419A1 (ja) |
JP (1) | JP4832500B2 (ja) |
CN (1) | CN101752271A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8649111B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-02-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical element, optical element module, electronic element module, and electronic information device |
US11362249B2 (en) | 2019-10-11 | 2022-06-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display module and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012133158A (ja) * | 2010-12-22 | 2012-07-12 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 光学部品、光学部品の製造方法及び撮像光学系 |
DE102011103302A1 (de) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Kamerasystem für ein Fahrzeug |
EP2850654B1 (en) * | 2012-05-17 | 2016-10-26 | Heptagon Micro Optics Pte. Ltd. | Assembly of wafer stacks |
JP6053331B2 (ja) * | 2012-05-30 | 2016-12-27 | キヤノン株式会社 | 画像読取装置および組立方法 |
SG11201500902SA (en) * | 2012-08-20 | 2015-03-30 | Heptagon Micro Optics Pte Ltd | Fabrication of optics wafer |
WO2015025970A1 (ja) * | 2013-08-20 | 2015-02-26 | 株式会社ダイセル | ウェハレンズ、ウェハレンズアレイ、ウェハレンズ積層体、及びウェハレンズアレイ積層体 |
JP6221540B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2017-11-01 | 富士通株式会社 | 光デバイス、光モジュール、光デバイスの製造方法及び光モジュールの製造方法 |
CN103819082A (zh) * | 2014-02-20 | 2014-05-28 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种液晶面板的切割方法以及液晶面板 |
CN105530410B (zh) * | 2014-09-30 | 2019-05-07 | 豪威光电子科技(上海)有限公司 | 镜头包封模块的形成方法 |
WO2017081840A1 (ja) * | 2015-11-12 | 2017-05-18 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置及び固体撮像機器 |
CN107263956B (zh) * | 2016-04-08 | 2024-01-09 | 苏州达翔新材料有限公司 | 一种电磁干扰emi复合材料及其制备方法 |
US10883804B2 (en) * | 2017-12-22 | 2021-01-05 | Ams Sensors Uk Limited | Infra-red device |
JP7445211B2 (ja) * | 2019-09-25 | 2024-03-07 | 大日本印刷株式会社 | 光学シート及びその製造方法 |
WO2021059407A1 (ja) * | 2019-09-25 | 2021-04-01 | 三菱電機株式会社 | 保護テープ、保護テープ付き光モジュール、光モジュールの保護方法及び光学装置の製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3839039A (en) * | 1969-11-18 | 1974-10-01 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Process for producing color stripe filter |
JPH05196497A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-08-06 | Asahi Glass Co Ltd | 光電変換器 |
US5554488A (en) * | 1994-07-28 | 1996-09-10 | Northern Telecom Limited | Semiconductor device structure and method of formation thereof |
TW498435B (en) * | 2000-08-15 | 2002-08-11 | Hitachi Ltd | Method of producing semiconductor integrated circuit device and method of producing multi-chip module |
JP3812500B2 (ja) * | 2002-06-20 | 2006-08-23 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置とその製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2004226872A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Sanyo Electric Co Ltd | カメラモジュール及びその製造方法 |
JP2004233482A (ja) * | 2003-01-29 | 2004-08-19 | Sanyo Electric Co Ltd | カメラモジュールの製造方法 |
JP2006126243A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光マスク並びにマイクロレンズアレイおよびその作製方法 |
JP4755486B2 (ja) * | 2005-11-17 | 2011-08-24 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US7378643B2 (en) * | 2006-04-24 | 2008-05-27 | Avago Technologies General Ip Pte Ltd | Optical projection encoder with patterned mask |
-
2008
- 2008-12-01 JP JP2008306876A patent/JP4832500B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-11-26 CN CN200910224975A patent/CN101752271A/zh active Pending
- 2009-12-01 US US12/628,607 patent/US20100133419A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8649111B2 (en) | 2011-03-11 | 2014-02-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical element, optical element module, electronic element module, and electronic information device |
US11362249B2 (en) | 2019-10-11 | 2022-06-14 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display module and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010129989A (ja) | 2010-06-10 |
CN101752271A (zh) | 2010-06-23 |
US20100133419A1 (en) | 2010-06-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |