JP4826302B2 - 磁性多層膜のx線磁気円2色性の測定方法 - Google Patents
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Description
この方法では、磁性薄膜の膜厚が異なる複数の磁性多層膜を作製し、各磁性多層膜のX線磁気円2色性を測定する。そして、磁性薄膜の膜厚とX線磁気円2色性の観測値から、薄膜界面近傍の磁性状態を推定する。なお、測定は、入射X線の波長を走査して、正負の円偏光における反射X線の吸収の差分の波長依存性を観測することでなされた。
(付記1)X線を、磁性多層膜の積層構造に基づく干渉により反射X線強度が強くなる入射角で前記磁性多層膜に入射したとき、前記X線により前記磁性多層膜中に励起される定在波の電界強度が、前記磁性多層膜中の界面で最大強度を有するように前記入射角を制御する工程と、
前記X線を進行方向に対して左廻り円偏光及び右廻り円偏光に切換え、前記切換え前後のX線吸収の差分を測定する工程とを有することを特徴とする磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記2)X線を、磁性多層膜の積層構造に基づく干渉により反射X線強度が強くなる入射角で前記磁性多層膜に入射する工程と、
前記X線により前記磁性多層膜中に励起される定在波の膜厚方向の電界強度分布を算出する工程と、
前記X線を進行方向に対して左廻り円偏光及び右廻り円偏光に切換え、前記切換え前後のX線吸収の差分を測定する工程と、
測定された前記X線吸収の差分及び算出された電界強度分布に基づき、前記磁性多層膜のX線磁気円2色性の膜厚方向の分布を算出する工程とを有することを特徴とする磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記3)前記X線は複数の前記入射角で入射され、
各前記入射角ごとに前記電界強度及び前記X線吸収の差分の測定がなされることを特徴とする付記2記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記4)前記入射角を、前記ブラッグ反射のピークよりそれぞれ低角及び高角側の反射を生ずる第1入射角及び第2入射角に設定することを特徴とする付記3記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記5)前記磁性多層膜は、下地多層膜上に設けられ、
前記X線を、前記磁性多層膜及前記下地多層膜の積層構造に基づく干渉により反射X線強度が強くなる入射角で前記磁性多層膜に入射することを特徴とする付記1、2、3又は4記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記6)前記磁性多層膜は、2層の磁性膜からなることを特徴とする付記1〜5のうちの何れかの請求項に記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記7)前記磁性多層膜は、複数の2層構造の磁性膜からなることを特徴とする付記1〜6のうちの何れかの請求項に記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
(付記8)前記下地多層膜は、複数の2層構造の非磁性膜からなることを特徴とする付記1〜6のうちの何れかの請求項に記載の磁性多層膜のX線磁気円2色性の測定方法。
1a A層
1b B層
2 電源
3 電流計
4 X線検知器
5 入射X線
6 反射X線
10 基板
11 下地層
12 第1磁性層
13 第2磁性層
14 キャップ層
15 Pd磁性膜
16 FeCo磁性層
17 NiCr第1非磁性層
18 Ru第2非磁性層
19 磁性膜
20、30、40 磁性多層膜
41 下地多層膜
Claims (4)
- Χ線を、 磁性多層膜の積層構造に基づく干渉により反射Χ線強度が強くなる入射角で前記磁性多層膜に入射する工程と、
前記Χ線により前記磁性多層膜中に励起される定在波の膜厚方向の電界強度分布を算出
する工程と、
前記Χ線を進行方向に対して左廻り円偏光及び右廻り円偏光に切換え、前記切換え前後のΧ線吸収の差分を測定する工程と、
測定された前記Χ線吸収の差分及び算出された電界強度分布に基づき、前記磁性多層膜
のΧ線磁気円2色性の膜厚方向の分布を算出する工程とを有することを特徴とする磁性多
層膜のΧ線磁気円2色性の測定方法。 - 前記Χ線は複数の前記入射角で入射され、
各前記入射角ごとに前記電界強度及び前記Χ線吸収の差分の測定がなされることを特徴
とする請求項1記載の磁性多層膜のΧ線磁気円2色性の測定方法。 - 前記入射角を、前記ブラッグ反射のピークよりそれぞれ低角及び高角側の反射を生ずる第1入射角及び第2入射角に設定することを特徴とする請求項2記載の磁性多層膜のΧ線
磁気円2色性の測定方法。 - 前記磁性多層膜は、 下地多層膜上に設けられ、
前記Χ線を、前記磁性多層膜及び前記下地多層膜の積層構造に基づく干渉により反射Χ
線強度が強くなる入射角で前記磁性多層膜に入射することを特徴とする請求項1、2又は3記載の磁性多層膜のΧ線磁気円2色性の測定方法。
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